国際特許分類[B01J38/00]の内容
処理操作;運輸 (1,245,546) | 物理的または化学的方法または装置一般 (124,790) | 化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置 (50,456) | 触媒の再生または再活性化一般 (797)
国際特許分類[B01J38/00]の下位に属する分類
熱処理 (74)
ガスまたは蒸気処理;使用済触媒と接触するとき気化する液体を用いる処理 (276)
液体処理または液相内での処理,例.溶解または懸濁状態のもの (240)
異種粒子の分離を含むもの (10)
イオン交換を用いるもの (1)
国際特許分類[B01J38/00]に分類される特許
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金属触媒の破壊回収装置の使用方法
【課題】 被処理体から金属触媒を含む粉体を回収する金属触媒の破壊回収装置の提供。
【解決手段】 金属触媒を担持した担体(金属担体7a)または該担体(金属担体7a)を金属製の筒に内装した触媒コンバータ7bからなる被処理体6を投入する容器1aと、容器1a内で回転し、被処理体6を自重で落下する大きさに衝撃破壊すると共に、被処理体6から金属触媒を含む粉体30を分離する衝撃羽1nと、分離された粉体30を前記容器内でより高く上方へ浮遊させる浮遊手段と、容器1a内に浮遊する粉体30を吸引して回収する集塵機2を備えた金属触媒の破壊回収装置の使用方法であって、前記衝撃羽1nを所定の時間及び回転速度で正回転させる正回転工程s1と、前記正回転工程s1の後、衝撃羽1nに被処理体6の破壊片が噛み込むのを防止するために衝撃羽1nを所定の時間及び回転速度で逆回転させる逆回転噛み込み防止工程s2を備えることとした。
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カルボニル化プロセス流からの触媒金属および促進剤金属の除去方法
カルボニル化生成物と第VIII族カルボニル化触媒金属および/または促進剤金属と腐食金属と必要に応じアルカリもしくはアルカリ土類金属とを含む液体組成物からの第VIII族カルボニル化触媒金属および/または促進剤金属の選択的除去方法につき開示する。この方法は、液体組成物をチオ尿素官能基を有するキレート樹脂と接触させることからなっている。この方法は、カルボン酸および/または無水カルボン酸の製造から得られるプロセス流を処理するのに適する。 (もっと読む)
カルボニル化触媒溶液からの腐蝕金属の除去方法
イリジウムおよび/またはロジウムカルボニル化触媒と、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属と、腐食金属汚染物とを含むカルボニル化触媒溶液から腐食金属汚染物を除去する方法につき開示し、この方法は触媒溶液を充分量のアルカリおよび/またはアルカリ土類金属が部分充填された活性部位を有するカチオン交換樹脂と接触させて触媒溶液における前記アルカリおよび/またはアルカリ土類金属の濃度を維持すると共に、減少した腐食金属汚染物含有量の触媒溶液を回収することからなっている。 (もっと読む)
モリブデンの回収方法及び触媒の製造方法
少なくともモリブデン、A元素(リン及び/又はヒ素)及びX元素(カリウム、ルビジウム、セシウム及びタリウムからなる群から選ばれる少なくとも1種)を含むモリブデン含有物、特に使用済み触媒から触媒の製造に用いる回収モリブデン含有物を得る方法、及び該回収モリブデン含有物を使用した触媒の製造方法が開示されている。なお、特に好ましい触媒は気相接触酸化によるメタクリル酸製造用触媒である。 (もっと読む)
ニトリル混合物からニッケル(0)錯体及びリン配位子を除去する方法
【課題】不飽和モノニトリルにシアン化水素を付加することによりジニトリルを得る反応の反応流出物からニッケル(0)錯体と遊離配位子を抽出除去する際に、不飽和モノニトリルの低い転化率しか達成されない場合でも不飽和モノニトリルの予備蒸発又はジニトリルの添加を行わなくて良い方法を提供する。
【解決手段】反応流出物を炭化水素で抽出し、温度Tで炭化水素と反応流出物とを二相に相分離することにより、反応流出物からリン配位子を有するニッケル(0)錯体及び/又は遊離リン配位子を抽出により除去する方法であって、反応流出物におけるリン配位子を有するニッケル(0)錯体及び/又は遊離リン配位子の含有量は、その最大値が温度Tに関わりなく60質量%であり、その最少値がy質量%であり、このyの値が温度Tに依存して変化し、式y=0.5T+20(Tは無単位の数値として使用される)により与えられる値である。
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排ガス処理装置の性能回復方法
劣化した脱硝触媒の取り替えおよび追加を行うことなく、劣化した脱硝触媒の脱硝性能を回復することができる排ガス処理装置の性能回復方法を提供する。被処理ガスを送通するガス流路を有するハニカム触媒1を排ガス処理装置10の排ガス流路に設置して使用した後に、ハニカム触媒1の被処理ガスの流れ方向の上流側から所定範囲を含む部位を上記排ガス流路の入口側から移動するようにハニカム触媒1を再配置する。 (もっと読む)
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