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国際特許分類[B24B53/007]の内容

国際特許分類[B24B53/007]に分類される特許

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【課題】バッチごとにほぼ一定した研磨速度が得られ、精度よくワークの研磨が行え、また修正砥石を用いるドレッシングの回数を減らせることから、作業性よく、また研磨布の寿命も長くできる研磨布のドレッシング方法を提供する。
【解決手段】回転する定盤14、15の研磨布上にワークを押接し、研磨布上に研磨液を供給しつつワーク表面の研磨を行った後の、該研磨布の表面状態を砥石を用いて調整する研磨布のドレッシング方法において、ワーク研磨後、研磨布上に高圧洗浄水を供給して研磨布を洗浄する洗浄工程中で、目立て砥石26を研磨布の径方向に研磨布の凹凸面に追従させて移動させて研磨布の目立てドレッシングを行う工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ワークの研削動作が停止された後に、回転砥石の水切り動作及びクーラント供給装置による洗浄用のクーラントの供給を設定時間だけ自動的に適正に行い、研削作業能率を向上することができる研削盤を提供する。
【解決手段】回転砥石21によるワークの研削加工が終了した後に、回転砥石21を予め設定された第1の設定時間h1だけ空回転させて、回転砥石21に含浸されているクーラントを遠心力によって外部に飛散させる。この回転砥石21が空回転を開始した後、クーラント供給装置を洗浄状態にして第2の設定時間h2だけ継続して運転し、クーラント循環経路に残留している研削屑の洗浄分離を行った後、自動的にクーラント供給処理装置の洗浄運転を停止する。 (もっと読む)


【課題】砥石の研磨面に付着した研磨カスを良好、かつ均一に取り除くことができるスキージ研磨装置を提供する。
【解決手段】スキージ研磨装置において、スキージを取付けて固定させる取付け台と、スキージの長手方向に移動する砥石96と、砥石96の研磨面96aに付着した研磨カスを取り除くクリーニングユニット1とを備えたスキージ研磨装置である。クリーニングユニット1は、粘着テープ13が巻かれた供給テープ12と、供給テープ12を軸支する供給軸10と、供給テープ12から供給された粘着テープ13を巻取る巻取りホルダ21と、巻取りホルダ21を軸支する巻取り軸20と、供給テープ12と巻取りホルダ21との間において、粘着テープ13の粘着面13bを砥石96の研磨面96aに押圧するローラ31と、ローラ31を軸支するローラ軸30とを有している。 (もっと読む)


【課題】
樹脂切粉の目詰まりによる研磨ベルトの研削効率低下を抑制し、研磨ベルトの寿命(ライフタイム)を飛躍的に伸ばすことが可能な樹脂成型品のベルト研磨装置およびベルト研磨方法を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、80リットル/分〜250リットル/分の範囲の圧縮空気を間欠的に研磨ベルトの表面に吹付け、圧縮空気が停止状態から噴射吹付け状態に切り替わることによりこのとき研磨ベルトに衝撃波が加わりかつ圧縮空気の噴射圧力にピークが生じる。このことで瞬間吹付け流量が増加して細い孔からのエアーにより研磨ベルトの小さいエリアが急冷却されて研磨後にヤスリ目に被着あるいは融着された切粉樹脂が剥れ易くなる。これにより、樹脂切粉がヤスリ目から剥れ落ちる。 (もっと読む)


【課題】研磨パッドの研磨面に形成された凹み内に位置する研磨屑などの異物を十分に取り除く手段を備えた半導体装置製造方法及びCMP装置を提供する。
【解決手段】研磨パッドの研磨面に向かって、前記研磨面に対して略垂直方向に洗浄液を噴射しながら一定時間前記研磨パッドを低速回転する低速回転ステップS21の後、前記研磨パッドの研磨面に向かって洗浄液を噴射しながら一定時間前記研磨パッドを高速回転する高速回転ステップS22を行う洗浄工程S20を実行する半導体装置製造方法及びCMP装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】研磨布の受圧力を高め、研磨屑等を良好に除去することができ、ひいてはワークの研磨効率を高めることができる研磨布の洗浄装置を提供する。
【解決手段】研磨布16が貼付された定盤12の研磨布16にワーク20を押接し、研磨布16上にスラリーを供給しつつワーク20に対して定盤12を相対移動させて研磨する研磨装置10における、定盤12の研磨布12にノズル装置48のノズル50から高圧の洗浄水を供給して研磨布16を洗浄する研磨布の洗浄装置34において、ノズル50が、研磨布16に対して、ストレートな洗浄水を直角に噴出するストレートノズルであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 研削砥石のドレッシングの回数を減らすことができるとともにウエーハにスクラッチを生じさせることの無い研削装置を提供することである。
【解決手段】 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を研削する研削ホイールを回転可能に支持した研削手段とを備えた研削装置であって、該研削ホイールは、スピンドルの先端に連結されたホイールマウントに装着されるマウント装着部を有する環状基台と、該環状基台の自由端部にリング状に配設された複数の研削砥石とから構成され、該環状基台の該マウント装着部から該自由端部に至る外周側面及び内周側面を洗浄する洗浄手段が配設されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】研磨パッドの研磨面をドレッシングすることができるとともに、ドレッシングされた研磨パッドの研磨面を確実に洗浄することができる研磨パッドのドレッシング方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨パッドを回転し、研磨パッドの研磨面にドレッシング砥石を接触させて研磨パッドの研磨面をドレッシングする研磨パッドのドレッシング方法であって、研磨パッドの研磨面をドレッシングしつつ研磨パッドの研磨面に洗浄流体を噴射して研磨パッドの研磨面を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】付着物の除去処理が必要な研削機において砥石を効率よくクリーニングして付着物を除去可能とする砥石のクリーニング方法及び砥石のクリーニング手段を備えた研削機を提供する。
【解決手段】研削処理に用いる砥石11と、この砥石の作用面に付着した付着物を除去するクリーニング手段とを備え、クリーニング手段には、作用面に重ね合わせて粘着させる粘着シート21aと、この粘着シートを転圧して作用面に粘着させる転圧ローラ21bと、作用面から粘着シートを剥がし取る剥取具21eとを備え、粘着シートを砥石から引き剥がすことにより作用面に付着した付着物を除去する。 (もっと読む)


【課題】低コストで設置スペースの制約が小さく、且つ洗浄液の飛散が軽減し、比較的簡単な構成の両面研磨機の定盤洗浄装置を提供すること。
【解決手段】表面に溝を有し上下に配置された定盤17,18を具備する両面研磨機の定盤洗浄装置であって、定盤17,18の外側に旋回中心をもつ該定盤17,18の外側で旋回する旋回配管台16を備え、旋回配管台16に一端に洗浄ノズル11が連結された圧力水配管10と一端に吸込み口13,15が連結された真空配管12、14を洗浄ノズル11と吸込み口13,15が接近して並んで位置するよう並列に配列して固定し、旋回配管台16の旋回により、洗浄ノズル11と吸込み口13、15が一対の定盤17,18の間をラジアル方向に旋回できるようにし、圧力水配管10をホース配管28を介して圧力水供給口に、真空配管12、14をホース配管を介して真空口に連結した。 (もっと読む)


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