【課題】ファンに加工屑等の異物が付着する恐れを低減してファンの吸引力の低下を防止可能な加工装置を提供する。
【解決手段】チャックテーブルと、加工手段２４と、加工液供給手段と、加工室３１と、一端が該加工室３１に連通すると共に他端がファン４５に連通して該加工室３１内の雰囲気を排気する排気路４４とを備えた加工装置であって、該加工室３１から該排気路４４に流入した排気に含まれる廃液を気体から分離する分離手段４８を更に具備し、該分離手段４８は、一端に該加工室３１に連通する吸気口５４を有する底部５０ａと、上端部に該ファン４５に連通する気体排出口５６を有する立ち上がり部５０ｂと、該底部５０ａと該立ち上がり部５０ｂとを連結する屈曲部５０ｃとから構成される筒状本体５０と、該筒状本体５０の該底部５０ａに形成された廃液を排出する廃液排出口５８と、該廃液排出口５８に連通する廃液排出路６０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】回転軸に対する着脱を容易にした円盤状工具、円盤状工具を備えた電動工具を提供する。
【解決手段】回転軸６３への螺合用のネジ孔３０を中心に備えた円盤状工具であって、ネジ孔を中心とする円周上に、複数の貫通孔４０を円周方向に所定間隔をおいて形成すると共に、少なくとも一部の貫通孔の間隔Ｃを、回転軸への着脱操作用の工具７０に設けた一対の係合部７２、７２が係合可能な間隔とした。さらに貫通孔４０を、使用時に発生する粉塵を集塵する集塵孔と兼用した。 （もっと読む）

【課題】作業性に優れ、かつ後片付けの手間を省くことが可能なボルト磨き装置を提供する。
【解決手段】本ボルト磨き装置１０は、ボルトＢＴを固定するチャック装置６０と、前記チャック装置６０を回転させる回転軸８１を軸受けする軸受け装置８５と、前記回転軸８１を回転させる動力源となるモータＭと、前記チャック装置６０及び前記軸受け装置８５を囲む箱型をなすと共に、前記チャック装置６０の正面にあたる前面壁を作業口として開口させた防塵ボックス２０と、前記防塵ボックス２０に設けられた集塵器１００とを備える。 （もっと読む）

【課題】排気装置を大型化することなく、加工チャンバーや洗浄チャンバー内の排気能力を向上させること。
【解決手段】ワークを吸引保持するチャックテーブル機構３と、チャックテーブル機構３に保持されたワークを加工するブレード７１１，７２１と、ブレード７１１，７２１を回転可能に支持する気体軸受けを有するスピンドル７１２，７２２と、を備えた第一及び第二の切削加工手段７１，７２と、ブレード７１１，７２１がワークに作用する加工点を覆う加工チャンバー１００とを有する加工装置であって、チャックテーブル機構３若しくは第一及び第二の切削加工手段７１，７２の気体軸受けに用いられた気体の排気経路７１３，７２３に加工チャンバー１００内に吸引力を発生させるエジェクター１１１，１１２を有する。 （もっと読む）

【課題】ステージの上に切削屑のない状態でのウエハの搬入を行うことができる半導体製造装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る半導体製造装置１は、ウエハ５を切削するブレード３と、ウエハ５のブレード３による切削が行われるステージ２と、ステージ２へのウエハ５の搬入、及びステージ２からのウエハ５の搬出を行う搬送機構８と、ウエハ５の搬出の後にステージ２を清浄化する切削屑除去機構１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】切断時に発生した切粉等の粉塵が被切断物の表面に残留するのを防止できる切断方法及び切断装置を提供する。
【解決手段】切断ブレード１０１を回転駆動しながら基板９００に対して相対的に移動させるときに、基板９００に対する切断ブレード１０１の相対移動方向における下流側及び上流側の少なくとも一方で、基板９００の表面に対して気体を吹き付け、切断ブレード１０１の周辺から気体を吸引して排出する。更に、切断ブレード１０１の側面側で、基板９００の表面に対して気体を吹き付けるようにしてもよい。また、切断ブレード１０１の回転で生じた気流の外部への飛散を遮蔽するように前記気体を面状にして吹き付けてもよい。また、切断ブレード１０１の被切断物側で回転移動している外周部分の移動方向と、被切断物に対する切断ブレード１０１の相対移動方向とが同じ方向になるように、切断ブレード１０１を回転駆動してもよい。 （もっと読む）

【課題】ワークの研削動作が停止された後に、回転砥石の水切り動作及びクーラント供給装置による洗浄用のクーラントの供給を設定時間だけ自動的に適正に行い、研削作業能率を向上することができる研削盤を提供する。
【解決手段】回転砥石２１によるワークの研削加工が終了した後に、回転砥石２１を予め設定された第１の設定時間ｈ１だけ空回転させて、回転砥石２１に含浸されているクーラントを遠心力によって外部に飛散させる。この回転砥石２１が空回転を開始した後、クーラント供給装置を洗浄状態にして第２の設定時間ｈ２だけ継続して運転し、クーラント循環経路に残留している研削屑の洗浄分離を行った後、自動的にクーラント供給処理装置の洗浄運転を停止する。 （もっと読む）

【課題】効果的にエナメルヘアなどを除去することができ、経済性や生産性などを向上させることができる剥離ヘア除去装置及び剥離ヘア除去方法の提供を目的とする。
【解決手段】エナメルヘア除去装置１は、コンビーフ缶６を搬送するマグネットコンベア１１と、エナメルヘア６３を吸引するための吸引用流路２１３を有し、コンビーフ缶６からエナメルヘア６３を掻き取るセグメント式ロールブラシ２と、吸引用流路２１３と連通し、エナメルヘア６３を吸引して排出する吸引用ダクト５とを備え、コンビーフ缶６からエナメルヘア６３を除去する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】基板上のレジスト膜を現像した後に基板外周と端部に残存するレジスト残りを研磨する装置の提供である。
【解決手段】少なくとも、円柱部材の外周上に円柱の軸を中心とする複数のＵ字形状の凹溝7が平行に形成され、該凹溝7内壁は壁に沿うように砥石4により被覆されるとともに、該凹溝内空間は、円柱部材の中心軸上に形成された開口部を有する空洞9と砥石4と円柱部材に形成された微細な排出用孔8を介して連通する、砥石ヘッドと、基板を載置して該基板を上下水平方向に移動自在な基板ステージ10と、純水あるいはエアーを凹溝内部方向に吐出するノズル５と、を備え、基板ステージ10上に載置した基板1の外周部を砥石ヘッドの凹溝7に収容したままの状態で、砥石ヘッド20が軸回転できるようにしたことを特徴とする基板端面付着レジスト研磨装置。 （もっと読む）