【課題】研磨砥粒回収装置のスクリューやボウルへのダメージが均一であり、かつ、制御精度良く、回収率が高い研磨砥粒回収装置を提供すること。
【解決手段】研磨砥粒を含むスラリから前記研磨砥粒を含む濃縮液を分離する研磨砥粒回収装置であって、当該研磨砥粒回収装置は、前記スラリを保持するボウルと、前記濃縮液をボウルからかき出すためのスクリューコンベアと、前記ボウル及び前記スクリューコンベアを回転駆動するための駆動手段と、前記駆動手段を制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記ボウル又は前記スクリューコンベアを回転駆動するための、前記駆動手段の駆動電流値に基づいて、前記ボウルの回転速度と前記スクリューコンベアの回転速度との差を制御するものである、研磨砥粒回収装置。 （もっと読む）

【課題】使用済み研磨材スラリーについて、簡易な再生処理により研磨材としての性能を再生させることを目的とする。
【解決手段】
ガラス材研磨用の酸化セリウム系研磨材スラリーの再生方法であって、次の工程を含む酸化セリウム系研磨材スラリーの再生方法。
第一工程：ガラス材研磨を行った後の使用済み研磨材スラリーから、研磨材よりも大粒子径の研磨屑を除去する工程
第二工程：ガラス材研磨を行った後の使用済み研磨材スラリーから、研磨材よりも小粒子径の研磨屑を除去する工程
第三工程：第一工程及び第二工程で研磨屑を除去して得られた回収研磨材スラリーに、金属フッ化物を添加して再生酸化セリウム系研磨材スラリーを得る工程 （もっと読む）

【課題】使用済クーラントから各成分を再利用可能に分離するとともに、一次遠心処理工程及び二次遠心処理工程のそれぞれの処理時間を近似させ、生産効率の向上を図ることのできる分離回収装置の提供を課題とするものである。
【解決手段】分離回収装置１は、ボウル状の一次回転体７及び一次回転駆動部８を備える一次遠心分離部９と、使用済クーラント２を一時的に貯留する使用済クーラント貯留槽１０と、一次回転体７の回転速度を変化させる一次回転速度制御部１１と、回収砥粒３及び破砕砥粒４を分別する砥粒分別回収部１２と、ボウル状の二次回転体１３及び二次回転駆動部１４を備える二次遠心分離部１５と、一次遠心分離液１６を吐出する一次遠心分離液貯留槽１７と、二次回転体１３の回転速度を変化させる二次回転速度制御部１８とを具備する。 （もっと読む）

【課題】使用済クーラントからシリコン切削屑を除去し、再利用可能なクーラントを生成することが可能なクーラント再生方法を提供することを課題とする。
【解決手段】クーラント再生方法１ａは、縦型遠心分離装置を有する遠心分離ユニット２に使用済クーラント３の一部を供給し、固形分１７と遠心分離液１９とに遠心分離する遠心分離工程Ｓ２、及び遠心分離液１９を使用済クーラント３と混合する遠心分離液混合工程Ｓ３を備える遠心分離循環工程Ａと、濾過膜６を有する膜分離ユニット７に使用済クーラント３の残部を供給し、濃縮液２２と膜濾過液２１とに膜分離する膜分離工程Ｓ４、及び濃縮液２２を使用済クーラント３と混合する濃縮液混合工程Ｓ５とを備える膜分離循環工程Ｂと、循環させた遠心分離液１９、及び、回収した膜濾過液２１を混合し、クーラント４を生成するクーラント混合生成工程Ｓ６とを具備する。 （もっと読む）

【課題】高い歩留まりでクーラントを再生し、回転体に付着したスラッジを除去する機能を有するクーラント再生方法の提供することを課題とする。
【解決手段】クーラント再生方法１は、縦型遠心分離装置に洗浄液を吐出する洗浄液吐出工程Ｓ０’と、洗浄液の吐出される縦型遠心分離装置の回転体を遠心分離工程時の回転数よりも低速で回転させ、縦型遠心分離装置に付着したスラッジを洗浄及び除去するスラッジ洗浄工程Ｓ０”と、縦型遠心分離装置を有する遠心分離ユニットに使用済クーラントを供給するクーラント供給工程Ｓ１と、遠心分離ユニットに供給された使用済クーラントをシリコン切削屑を含む固形分と遠心分離液とに遠心分離する遠心分離工程Ｓ２と、遠心分離ユニットの縦型遠心分離装置を稼動させた状態で使用済クーラントの供給を間欠的に制御する間欠制御工程Ｓ３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】０．１μｍ以下の粒径のシリコン微粒子の比率を抑えた再生クーラント、及びクーラント再生方法の提供することを課題とする。
【解決手段】クーラント再生方法１ａは、遠心分離ユニット２に使用済クーラント３を供給するクーラント供給工程Ｓ１と、使用済クーラント３を遠心分離する遠心分離工程Ｓ２と、分離した遠心分離液１９を回収する遠心分離液回収工程Ｓ３と、遠心分離液５を膜分離ユニット７に供給する遠心分離液供給工程Ｓ５と、遠心分離液１９を膜分離する膜分離工程Ｓ６と、分離された膜濾過液２１を回収する膜濾過液回収工程Ｓ７とを具備し、再生クーラント４は、残存シリコン成分が再生クーラント全体の０．０１重量％以上、３．０重量％以下であり、残存シリコン成分に含まれる０．１μｍ以下の粒径のシリコン粒子が残存シリコン成分全体の０．０１重量％以上、３０重量％以下になる。 （もっと読む）

【課題】切削や研磨機械加工に防錆剤や防腐剤を水に混ぜ合わせて使用する必要がなく、しかも切削性が向上する水性研削・切削液の電気分解処理方法の提供。
【解決手段】対象とする水性研削・切削液中に、一対の交流電極板と２つの接地電極板を挿入し、該交流電極に交流電源を通電させて高周波交流により電気分解処理を行うに際し、交流の発振周波数約５〜１００KHzを中心に変動幅±３〜５KHzのＦＭ変調をかけ、ランダム信号発生器を内蔵した装置で、ゆるやかな上下周波数変動中に急激に周波数上昇又は下降の変化する部分をもたらすことによって電界干渉を発生させ衝撃波を作り、上記電気分解により発生する水素量を多くするとともにナノバブルまで小さくした酸素を発生させる。 （もっと読む）

【課題】半導体インゴットの切断工程又は半導体インゴットから切削した半導体ウエハの加工工程で排出される使用済みの冷却液の循環再使用を可能とする冷却液の回収方法及び装置を提供する。
【解決手段】半導体インゴットの切断又は半導体インゴットから切断された半導体ウエハの加工装置２から排出される使用済みの冷却液を処理して固形粒子を粗除去する遠心分離機４と、遠心分離機４で固形粒子が粗除去された使用済みの冷却液を濾過する直径０．０２μｍ以上の粒子を濾別可能なフッ素系樹脂からなる膜分離装置５と、膜分離装置５を透過した使用済み冷却液を加工装置２に還流させる還流手段と、を有する使用済み冷却液の回収装置１。 （もっと読む）

【課題】スラリーが供される配管内や研磨装置内などに残留するスラリー残留物を確実に除去でき、かつ、フラッシング時間の短縮化を図れるスラリー循環装置を提供する。
【解決手段】スラリー循環装置３は、第１，第２供給タンク４１，４２と、第１，第２供給タンク４１，４２に貯留された液体を第１，第２ＣＭＰ装置２１，２２に供給する供給ライン４３と、第１，第２ＣＭＰ装置２１，２２に供給される液体の供給元を切り替える第１，第２循環弁４３６，４３７と、第１，第２ＣＭＰ装置２１，２２から排出される液体を第１，第２供給タンク４１，４２に回収する回収ライン６３と、液体の回収先を切り替えるセパレータ６４と、第１，第２供給タンク４１，４２に純水を補給する第１，第２ＤＩＷ補給部５３，５４と、第１，第２供給タンク４１，４２にアルカリ溶液を補給するアルカリ溶液補給部５５とを備える。 （もっと読む）