国際特許分類[B41M1/02]の内容
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印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品
【課題】 レジスト割れに起因した断線不良を抑えることができる印刷インキ用組成物を提供する。
【解決手段】 印刷インキ組成物を塗布層形成基材上に塗布して印刷インキ組成物の塗布層を形成する塗布層形成工程と、該塗布層に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部分に該塗布層を転写して除去する除去工程と、該塗布層形成基材上に残った該塗布層を基板に転写する転写工程とを有する凸版反転オフセット法に使用する印刷インキ組成物であって、該印刷インキ組成物が(A)有機溶剤に可溶な樹脂及び(B)有機溶剤を含有してなり、塗布層形成基材上に印刷インキ組成物の塗布層を形成したのち、溶剤を除去した後の印刷インキ組成物の塗布層のビッカース硬度が25.0MPa以下である印刷インキ組成物。
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エラストマー系組成物の凸版印刷塗布
本発明は、基材にエラストマー系組成物を供給する方法を提供する。エラストマー系組成物は冷却される。また冷却は、結果として生じるエラストマー劣化の減少を伴う、パターンロールから基材へのエラストマー系組成物の実質的に完全な転写も引き起こす。
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