【課題】レジストパターンのエッチング耐性および剥離性を維持したうえで、塗布性を高めた印刷用硬化性樹脂組成物と、それを用いた十分に微細で、かつ良好な形状を有するパターンを転写する方法の提供。
【解決手段】樹脂と、オキセタン化合物と、有機溶媒とを含んでなることを特徴とする、印刷用硬化性樹脂組成物と、それを用いて凸版反転印刷法によりレジストパターンを転写する方法。 （もっと読む）

【課題】シリコーンブランケット表面でのインキの濡れ性が良好で、反転印刷方法での使用に適したインキを提供すること、そのインキを用いた反転印刷方法を提供すること、および、上記インキを用いた、高品質のカラーフィルタ層やブラックマトリックスを備える液晶カラーフィルタおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】バインダ樹脂と、着色剤と、変性率Ｄが０．０１〜２０％であるポリエーテル変性などのポリシロキサンと、溶剤とを配合し、粘度η（２３℃）を１〜２０ｍＰａ・ｓとし、バインダ樹脂１００重量部に対する変性ポリシロキサンの配合量を０．０１〜５重量部とする。この反転印刷用インキを用いて、反転印刷方法により、液晶カラーフィルタのカラーフィルタ層やブラックマトリックスなどを印刷形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レジストプリンティング方式による薄膜パターンの形成の信頼性を向上させることができる薄膜パターンの製造装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明によるブランケットが巻回されたロール状の印刷ローラ装置と、前記印刷ローラ装置の周辺に位置し、前記ブランケットにエッチングレジスト溶液を噴射する噴射装置と、所望の薄膜状の溝と、前記溝を除いた突出部が形成された凹版印刷版とを備え、前記エッチングレジスト溶液は、エチレンオキサイドフルオリネートポリマー系物質を含む界面活性剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、解像度の高い反転印刷法用いて基材上へインキからなる画像パターンを形成するにあたり、基材の特定の箇所へ精度良くインキパターンを形成することを目的とする。
【解決手段】
基材上にインキパターンを形成する印刷方法であって、ブランケット上にインキ層を設ける工程と、凸部パターンを有する凸版をブランケットに接触させることにより、該ブランケット上のインキ層のうち凸部パターンと接触した部分のインキを除去し、該ブランケット上にインキパターンを形成する工程と、ブランケット上のインキパターンを、非インキパターン部に撥インキパターンを備えた基材と接触させ転写し、基材上に前記インキパターンから前記撥インキパターンを差し引いたパターンを形成する工程を備えることを特徴とする印刷方法とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明では、反転印刷方式により基材上に画像パターンを形成し印刷物を製造する場合において、微小な孤立パターンであっても画像パターンが変形したり、印刷抜けが生じないインキからなる正確な画像パターンを有する印刷方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
基材上にインキからなる画像パターンを形成した印刷物の製造方法であって、ブランケット上にインキを設ける工程と、第一の凸版をブランケットに接触させることにより、第一の凸版の凸部パターンと接触した部分のブランケット上のインキを除去する工程と、第二の凸版をブランケットに接触させることにより、第二の凸版の凸部パターンと接触した部分のブランケット上のインキを除去する工程と、ブランケット上に残ったインキを基材と接触させることにより、基材上にインキからなる画像パターンを形成する工程を備えることを特徴とする印刷方法とする。 （もっと読む）

【課題】インキの使用量の無駄を省いて低コスト化を実現でき、また、高精細な画像の形成が可能な印刷方法を提供する。
【解決手段】ブランケット１２上にインキを塗布してインキ塗布面１を形成し、該インキ塗布面１に凸版１４を押圧して該凸版１４に接触する部分のインキ２をブランケット１２上から除去したのち、前記ブランケット１２上に残ったインキ３を被印刷体４に転写する印刷方法において、前記ブランケット１２上のインキ塗布面１は、インクジェット方式により、被印刷体４に形成される画像パターンに対応する部分及びその近傍からなる領域に形成する。 （もっと読む）

【課題】
基材上の所定の位置に高精度でインキパターンを設けることが可能となり、高精細な印刷物をを得ることを目的とする。
【解決手段】
ブランケット上にインキを設ける工程と、凸部パターンを有する凸版をブランケットに接触させることにより、該ブランケット上にインキパターンを形成する工程と、該ブランケット上のインキパターンをカメラで観測し、且つ、基材上にあるマークをカメラで観測する工程と、該２つのカメラによって得られたブランケット上のインキパターンの位置情報と基材上のマークの位置情報より、ブランケット上のインキパターンと基材上のマークの相対位置を求め、ブランケットと基材の位置合わせをおこなう工程と、ブランケット上のインキパターンを基材の所定の箇所に接触させ転写し、基材上にインキパターンを形成する工程を備えることを特徴とする印刷物の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】版胴に巻設して保持された印刷版を用いて充分なインキ量を載置台上の被印刷体に転写する印刷装置および印刷方法を提供する。
【解決手段】載置台３は、被印刷体Ｓを載置する。相対移動手段は、円筒軸を中心に版胴１を回転させながら、載置台３と版胴１とを相対移動させる。印刷版２は、細孔が形成された多孔質性材料を少なくとも表面に有し、その裏面が版胴１の円筒面と当接して当該円筒面に巻設される。インキ供給部６は、印刷版２の表面にインキを供給する。圧力調整部４は、印刷版２の裏面から多孔質性材料の細孔に加わる圧力を調整する。隙間調整手段は、相対移動手段による相対移動によって版胴１と載置台３とが最も接近するときの当該載置台３に載置された被印刷体Ｓと印刷版２との隙間を調整して、被印刷体Ｓと当該印刷版２とを接近させる。 （もっと読む）

【課題】反転オフセット印刷によるパターン形成おいて、低解像度部と高解像度部が混在したパターンを形成できる除去版を提供する。
【解決手段】反転オフセット印刷に用いられる除去版４４において、パターン形状に応じて深度が異なる複数の凹部領域Ｂ〜Ｇを有し、この凹部領域Ｂ〜Ｇの外接長方形の短辺長をＷ、この凹部領域Ｂ〜Ｇにおける深度をＤとしたときに、０．０３Ｗ≦Ｄ≦０．５Ｗの関係を満たすようにする。なお、凹部領域Ｂ〜Ｇはウェットエッチングにより形成する。さらに、このような除去版４４を用いてパターニングを行うことにより、反転オフセット印刷による低解像度部と高解像度部が混在したパターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】凸版反転オフセット印刷法による印刷物の製造時に、生産性が高く、欠陥の少ない印刷物が製造できる凸版反転オフセット印刷用除去版を提供する。
【解決手段】インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版１０を接触させて凸版１０の凸部１４に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版１０であって、該凸版１０のインキ膜接触面にインキ剥離性処理がされている凸版反転オフセット印刷用凸版とする。 （もっと読む）