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国際特許分類[B41M1/02]の内容

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【課題】高精度、高品質の印刷物が作製可能で、洗浄性に優れた反転オフセット印刷、凸版印刷及び凹版印刷に用いる版と、版の形成方法並びに印刷物の形成方法を提供することを目的とする
【解決手段】基材上に非画線部もしくは画線部に対応する凸部20と画線部もしくは非画線部に対応する凹部30とからなる版パターンが設けられている反転オフセット印刷、凸版印刷及び凹版印刷に用いる版であって、凸部20は樹脂凸部21と樹脂凸部21表面に形成された吸着層22とで構成されており、吸着層22が、シランカップリング剤で構成されていることを特徴とする版。 (もっと読む)


【課題】高精度、高品質の印刷物が作製可能で、洗浄性に優れた反転オフセット印刷、凸版印刷及び凹版印刷に用いる版と、版の形成方法並びに印刷物の形成方法を提供することを目的とする
【解決手段】基材上に非画線部もしくは画線部に対応する凸部21と画線部もしくは非画線部に対応する凹部31とからなる版パターンが設けられている反転オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷及び平版印刷に用いる版であって、凸部21はシランカップリング剤を含有する樹脂で形成されている。 (もっと読む)


【課題】膜厚ムラの少ない、高品位の高分子有機EL素子を安価に生産できる有機EL用印刷機を提供する。
【解決手段】フレキソ印刷機は、回転式の版胴11、凸版12と、支持基台13と、定盤14と、被印刷基板15と、インキ供給手段16と、インキ補充手段17とを含んで構成されている。凸版12の表面に発光層用のインキを供給するインキ供給手段16は、密閉構造のクローズドチャンバーを構成し、アニロックスロール161とインキ溜り162aを収容するインキ壷162を有している。アニロックスロール161の周面の大気と接触する部分の面積が前記アニロックスロール161の全周面の面積の5%以上50%以下となるようにし、より好ましくは、10%以上30%以下となるようにした。 (もっと読む)


【課題】線幅が小さく、かつアスペクト比の大きな印刷物を提供する。
【解決手段】凸版反転印刷法による印刷塗膜の積層により形成され、線幅が30〜50μmであり、断面の高さ/断面の線幅で定義されるアスペクト比が0.5以上であることを特徴とする印刷物。また、凸版反転印刷法による印刷塗膜の積層により形成され、線幅が30μm以下であり、断面の高さをh、断面の線幅をwとするとき、h/wで定義されるアスペクト比が0.2以上であることを特徴とする印刷物1。 (もっと読む)


【課題】微細化や集積化が容易は変位素子を用いた、高画質な画像が得られ、繰り返し使用可能な印刷版及び印刷方法を提供すること。
【解決手段】電界の印加により変位する変位層と、前記変位層を挟持する電極層と、を含む積層体と、配列された複数の前記積層体を支持し、それぞれの積層体の前記電極層に電圧を印加するための配線部を有する支持体と、を備えた印刷版。 (もっと読む)


【課題】
凹部の深さを増すことなく中抜けを確実に防止することができる凸版反転オフセット印刷用印刷版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
凸版反転オフセット印刷に使用される印刷版10であって、親インキ性の母材10aの表面に形成された凹部13a、13c及び凸部14と、凹部13a、13cの内面を覆う撥インキ層12a、12cとを備えている。凹部13a、13cの平面形状は、所望の印刷パターンが得られるように形成されている。凸部14には、凸版反転オフセット印刷の際にインキ皮膜21の対応する部分(転写部21a)が転写可能である。 (もっと読む)


【課題】ガラス基材やプラスチックフィルム、特に生産効率の良い長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、連続的に高精細パターンを形成する精細パターンの印刷方法を提供することを目的とする。
【解決手段】剥離性を有するフィルム基材13を大気圧プラズマ部110にてプラズマ処理して、インキ剥離性を有するフィルム基材13aを作製する。さらに、塗工部120にてインキ剥離性を有するフィルム基材13a上にインキ液膜21を形成し、予備乾燥して予備乾燥インキ膜21a形成する。さらに、パターン除去部140にて、フィルム基材11a上の不要な予備乾燥インキ膜を凸版にて除去して、フィルム基材13a上に所望のインキ膜パターン21cを形成する。さらに、パターン転写部150にて、インキ膜パターン21cを被印刷基材31上に転写し、所望のインキパターン21dを形成する。 (もっと読む)


【課題】印刷法により高精細パターンを形成するための凸版であって、版の基材として金属板を用いた場合、この金属層の乱反射を抑えることにより、版の凸部の正確なエッジを検出することができ、正確なライン幅の評価や安定的な版の管理ができる高精細パターン形成用凸版を提供する。
【解決手段】樹脂層により形成される凸部201と凸部201を支持する基材200との間に少なくとも400nmから800nmの波長領域の光の反射抑制層202を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】凸版の突起部によって印刷される点のドットゲインを小さく抑え、解像度の高い印刷が可能な凸版、凸版の製造方法及びこの凸版を使用した缶の印刷装置を提供する。
【解決手段】円柱状をなす版胴とこの版胴に塗布されたインキが転写されるブランケットとを備えた缶の印刷装置に用いられ、前記版胴の外周面に配設される凸版30であって、前記版胴の外周面に配設された状態において、最も径方向外方に位置するベタ部31と、このベタ部31から径方向内方に向けて凹んだ基底部33及びこの基底部33から径方向外方に向けて突出する概略錐台状の突起部34を有する網点部32と、が形成され、ベタ部31と突起部34の頂部34Aとの径方向距離H1が、0μm<H1≦80μmの範囲内に設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】この発明は、高精細なパターンを高い品質で形成できるパターン形成装置、およびパターン形成方法を提供することを課題とする。
【解決手段】パターン形成装置は、表面にパターン状の多数の凸部21を有する凸版1を有する。凸版1の凸部21の先端には、パターン状のトナー付着面22がある。トナー付着面22に帯電したトナー粒子43を付着させてパターンを現像し、ガラス板5の表面に塗布した転写液Lの液面Lsと凸版1の谷部23との間に空隙Sが形成されるように凸版1とガラス板5を近接させ、トナー粒子43に電界を作用させてガラス板5へ転写する。凸版1とガラス板5を剥離する際には、空隙Sを介して空気を逃がして負圧を解消し、転写したトナー粒子43の乱れを防止する。 (もっと読む)


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