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国際特許分類[B41M1/02]の内容

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【課題】簡易な工程で精度良くパターンを形成することが可能な印刷方法を提供する。
【解決手段】表面に粗面部10Aおよび鏡面部10Bを有する除去板10と、平板ブランケット1上のインク2を加圧接触させる。除去板10の粗面部10Aと鏡面部10Bとにおける表面性、すなわちインク2に対する密着性の違いにより、インク2のうち鏡面部10Bに対応する部分が、除去板10に転写され平板ブランケット1上から除去される。平板ブランケット1上では、粗面部10Aに対応する部分が残留し、この残留した部分が印刷パターン層2Bとなる。この印刷パターン層2Bに、被印刷基板4を加圧接触させることにより、被印刷基板4上に印刷パターン層2Bが転写される。 (もっと読む)


【課題】ガラス基材やプラスチック基板、及び長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、連続的に高精細パターンを形成する印刷装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、インキ剥離性のフィルム基材上にインキ液を塗工する手段と、前記インキ液を予備乾燥し予備乾燥インキ膜とする手段と、画像部パターンを凹部とした凸版を前記予備乾燥インキ膜に押し当ててから引き離すことで、非画像部を前記凸版の凸部に転移させる手段と、前記インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを被印刷基材表面上へ転写する手段と、前記インキ剥離性のフィルム基材上の残存インク膜を洗浄し除去する洗浄手段と、を具備することを特徴とする印刷装置である。 (もっと読む)


【課題】反転オフセット印刷法を使用して、カラーフィルタにおけるブラックマトリクス部と額縁部のように微細なパターンがある高解像度部と大きなパターンがある低解像度部とが混在する場合に、一回の反転オフセット印刷によって、低解像度部にインキ中抜けによるパターン欠落がなく、しかも高解像度部の微細なパターンも印刷することが可能なインキ除去版を提供することである。
【解決手段】凹部と凸部土台を有する版基板と、該凸部土台上の全面に該凸部土台の形状と一致する形状に設けられている金属層よりなることを特徴とするインキ除去版である。 (もっと読む)


【課題】印刷法を用いて被印刷基板に欠陥のない画像パターンを形成するに当たり、高度な欠陥識別システムが不要で、容易に高精度な欠陥修正が可能で、被印刷基板のロスが少ない検査・修正技術を備える印刷方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ブランケット上にインキ液を塗布し、該インキ液を予備乾燥し予備乾燥インキ膜を形成する工程、画像パターンを凹部とした凸版を予備乾燥インキ膜に押し当て引き離すことで当接部位の乾燥インキ膜を該凸版の凸部に転移させ、前記ブランケット上に画像パターンを残置する工程、残置した画像パターンを被印刷基板に転写する工程、とを有する印刷方法において、前記予備乾燥インキ膜を形成する工程に引き続き、予備乾燥インキ膜の欠陥部位を検出し修正する工程、を含むことを特徴とする印刷方法。 (もっと読む)


【課題】印刷法を用いて被印刷基板に欠陥のない画像パターンを形成するに当たり、高度な欠陥識別システムが不要で、容易に高精度な欠陥修正が可能で、被印刷基板のロスが少ない検査・修正技術を備える印刷方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、ブランケット上にインキ液を塗布して設け、該インキ液を予備乾燥し予備乾燥インキ膜を形成する工程、画像パターンを凹部とした凸版を該予備乾燥インキ膜に押し当て引き離すことで当接部分のインキ膜を該凸版の凸部に転移させ、該ブランケット上に該画像パターンを残置する工程、該画像パターンを被印刷基板に転写する工程、とを有する印刷方法において、 被印刷基材に転写する前に、該ブランケット上の該画像パターンの欠陥を検出し、該欠陥を修正する工程を含むことを特徴とする印刷方法である。 (もっと読む)


【課題】オーバーラップ部とオーバーラップ部に連なる部分のインキ層との間の段差を低減し、これにより、ネックイン加工によるシワの発生を抑えるとともに、オーバーラップ部の塗膜強度の低下を防ぐ。
【解決手段】曲面印刷によって缶胴上にインキ層を転写してなるシームレス缶であって、転写されたインキ層は、缶胴の周方向の先端部及び後端部におけるインキ層が互いにオーバーラップしてなるオーバーラップ部を有し、先端部及び後端部におけるインキ層の少なくとも一方は、インキ面積率が、オーバーラップ部以外であってオーバーラップ部に連なる部分のインキ層よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】凸版印刷法は優れた特性を持つ印刷法で有るが、連続して印刷を行おうとした際に膜厚および、ムラの観点から良質な印刷物を連続して得ることが難しかった。
【解決手段】版上のインキの乾燥状態と転移量に相関があることを見出し、その結果を元に、連続して印刷する際の待機時間において、版上のインキを強制的に乾燥した後に、一定の湿り気を与えてやることによって、連続して印刷した際にもムラや膜厚の増加が抑えられる。 (もっと読む)


【課題】インキを供給する際に生じる混色を防ぐことができる凸版印刷法を用いる有機EL素子の製造方法、および混色を防ぐことのできる発光装置、並びに前記発光装置を備える表示装置を提供することである。
【解決手段】一対の電極と、該電極間に位置する有機層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成される基板には、複数の隔壁が略平行に相対して配置され、該隔壁の基板側の面に対向する面には、該隔壁の長手方向に沿って溝部が穿設されており、前記隔壁と前記基板とによって形成される凹部に対応するように、複数の凸部が略平行に相対して配設されてなる凸版印刷版を用いて、前記有機層の材料を含むインキを前記凹部に供給することによって前記有機層を形成する工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】従来方法により作製されたガラス製版を用いて、カラーフィルタにおけるブラックマトリクスの額縁部のように高解像度部と低解像度部とが混在するパターンを欠落なく一括に精度よく印刷する方法を提供する。
【解決手段】(a)インキ剥離性のフィルム基材上に、インキ液膜を塗工して設ける工程(b)インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を得る工程(c)必要な画像パターンを凹部とした凸版を予備乾燥インキ膜に接触、剥離させ、インキ剥離性のフィルム基材上に予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを形成する工程(d)インキ剥離性のフィルム基材上に形成された該予備乾燥インキ膜による画像パターンを目的の被印刷基材表面上へ転写する工程の内、(c)の工程で、インキ剥離性のフィルム基材に対して凸版を移動させ、インキ剥離性のフィルム基材上の予備乾燥インキ膜に接触、押圧する側と反対の側にステージを近接配置することを特徴とする。 (もっと読む)


許容可能な品質の印刷された印を有するパッケージを構築する方法は、発泡薄フィルムの層が10〜250マイクロメートルのキャリパーを有し、実質的に同じキャリパー及び組成の非発泡薄フィルムと比べて5%〜50%密度が低い、少なくとも1層の発泡薄フィルムを提供することを含む。少なくとも1層の発泡薄フィルムの第1表面は、パッケージの被印刷表面である。印は、インクをプリンタ表面に塗布し、被印刷表面をインクの付いたプリンタ表面に接触させ、被印刷表面をインクで被覆することにより被印刷表面に印刷される。プリンタ表面は、被印刷表面に接触して被印刷表面上に印を刻印するよう構成された複数の点を備える。点の表面は、約70%以下の点百分率を有する。
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