説明

国際特許分類[B41M1/02]の内容

国際特許分類[B41M1/02]の下位に属する分類

国際特許分類[B41M1/02]に分類される特許

21 - 30 / 162


【課題】 素子形成材料を基板上の凹部に印刷する際に、隣接する凹部に素子形成材料が溢れ出すことを抑制することができる、印刷方法および印刷装置を提供する。
【解決手段】 予め求められたX方向における許容位置ずれ範囲内に、ステージ10に支持された基板90に対して凸版印刷版50を位置決めした状態で、基板90上の複数の凹部9R,9Reに、凸版印刷版50に付着した素子形成材料を、転写機構30により転写し、この転写機構30による転写動作と並行して、素子形成領域よりX方向における基板上の両外側領域90cに、素子形成材料に含まれる溶媒を少なくとも含む補助材料を補助部7により供給する。 (もっと読む)


【課題】除去容易な印刷インク層を形成する印刷方法を提供する。
【解決手段】除去容易な印刷インク層を形成する印刷方法であって、
基材上に、顔料及びポリビニルアルコールを含む印刷インクを印刷し、印刷された面上に架橋剤を塗布、噴霧又は印刷して印刷インク層を形成することからなる方法及び基材上に、顔料、ポリビニルアルコール、架橋剤及び架橋遅延剤を含む印刷インクを印刷して印刷インク層を形成することからなる方法。 (もっと読む)


【課題】ガラス基材やプラスチックフィルム等の可撓性基材上へ高精細パターンを形成する印刷方法を提供する。
【解決手段】非画像パターン部13を凸部として有したインキ剥離性の凸版1上に、インキ液膜3を塗工し、該インキ液膜3を予備乾燥して半乾燥状態のインキ液膜3を得た後、インキ剥離性のブランケット4を凸版1上の半乾燥状態のインキ液膜3に押し当て、半乾燥状態のインキ液膜3から非画像パターン部13を除去し、凸版1の非画像パターン部13間の凹部底面のインキ剥離層12上に残された半乾燥状態のインキ液膜3による画像パターンを被印刷基材6上へ転写する。そのために、インキ剥離性のブランケット4の表面と半乾燥状態のインキ液膜3との間の接着力に対して、インキ剥離性の凸版1のインキ剥離層12と半乾燥状態のインキ液膜3との間の接着力を大きくし、且つ非画像パターン部13と半乾燥状態のインキ液膜3との間の接着力を小さくする。 (もっと読む)


【課題】フィルム基材を被印刷基材に使用した場合に、印刷時に被印刷基材の印刷面に凹凸が生じにくいようにすること。
【解決手段】被印刷基材6の非印刷面側に、クッション層21と強磁性体層又はマグネット層22を有する裏面用基材2をラミネートし、裏面用基材2が印刷定盤4に接触するようにフィルム基材6を印刷定盤4上に乗せる。そして、印刷定盤4の表層部分41又は内部の電磁石44の磁力により強磁性体層又はマグネット層22を磁着することで、裏面用基材2を介して被印刷基材6を印刷定盤4上に固定する。この状態で、色インキを用いてフィルム基材6上に任意のパターンを形成した後、電磁石44の磁力を解除又反転させて印刷定盤4上からフィルム基材6を裏面用基材と共に取り外す。そして、裏面用基材2をフィルム基材6から分離させることで、フィルム基材6上に精細パターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】シリコーンブランケットの表面に対して適度の濡れ性と離型性とを兼ね備え、基板等の被印刷体の表面にムラや欠陥等のない厚みが均一なインキパターンを形成できる反転印刷法用のインキを提供する。
【解決手段】最大泡圧法によって求められる25℃での動的表面張力を、気泡の発生周期を0.05Hzに設定して測定したとき16mN/m以上、23mN/m以下で、かつ前記発生周期を10.0Hzに設定して測定したとき20mN/m以上、27mN/m以下としたインキである。 (もっと読む)


【課題】微細な加工がなされたインキング装置であっても、短絡のない発光素子を形成することが可能であり、印刷を繰り返した場合であっても、良好な印刷を継続することが可能である凸版印刷用インキング装置及びこれを用いた電子デバイスの製造方法とその電子デバイスを提供する。
【解決手段】アニロックスロールのようなインキング装置の凹部1および凸部2に、インキとの接触角を5度以上とするような表面処理し、凹部1には親インキ性を有し、凸部2の表面には撥インキ性表面層3を形成する。また、該装置を用いて、有機ELのような電子デバイスを製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、次世代ディスプレイ部材の製造に関し、可撓性を有するガラス基材や耐熱性の劣るプラスチックフィルム上に、低コストで高精細なパターンを形成することを可能にする方法である。
【解決手段】(a)インキ剥離性のフィルム基材上に、活性エネルギー硬化型インキ液膜を塗工する工程と、(b)該活性エネルギー硬化型インキ液膜を予備乾燥し、予備乾燥インキ膜を得る工程と、(c)必要な画像パターンを凹部とした凸版を前記予備乾燥インキ膜に接触、剥離させ、非画像パターンを該凸版に転移し、前記インキ剥離性のフィルム基材上に該予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを形成する工程と、(d)該画像パターンを半硬化状態にする工程と、(e)該半硬化状態になった該画像パターンを目的の被印刷基材表面上へ転写する工程と、から成ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】金属基材のような反射率の高い基材を用いた凸版であっても、良好なエッジ検出ができる版材が得られ、さらには欠陥検査機も併用できることで、安定的かつ高精度の印刷用刷版の管理を行うことを可能とする高精細パターン形成用凸版を提供する。
【解決手段】印刷用凸版100の樹脂層により形成される凸部パターン101と凸部パターン101を支持する金属製の基材105との間に、少なくとも400nmから800nmの波長領域の光を乱反射する光乱反射層104と、光乱反射層104に積層されて光乱反射層104の端面が印刷用凸版100の端面から外方に露出しないように覆う光透過層103とを有する。 (もっと読む)


【課題】機能性薄膜を高品質かつ異物が少なく印刷する上で有利な機能性薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板定盤106上に、ガラス基板107を載置した後、印刷開始指示によって印刷動作が開始される。この間、アニロックスロール101上にはインキが供給されドクタリングが継続的に実施され平滑にドクタリングされた表面が常に保持されている。ドクタリングする際の速度は本発明に従って決定される。すなわち、ドクターロール102でアニロックスロール101上の余剰インキを掻き落とす際のアニロックスロール101表面の周速度をV1、インキの粘度をη、インキの表面張力をσとした時、Ca=ηV1/σであらわされる数値の範囲が0.002≦Ca≦0.03の範囲となるようにアニロックスロール101表面の周速度V1が設定される。 (もっと読む)


【課題】スリットコーターで供給されたベタロール上のインキを凸版表面へ供給する際、凸版の凸状部側面などにインキが流入することを抑制し、膜厚均一性が高く、再現性の高い精密印刷製造物を提供する。
【解決手段】凸版23の凹状部26a及び裾部26bに、塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性材料からなるインキ撥液性層27を形成する。このインキ撥液性層27が形成された撥液処理凸版14を凸版として用いて、スリットコーター9でベタロール8上に塗工インキ液を供給し、このベタロール8により撥液処理凸版14に塗工インキ液を供給する。撥液処理凸版14の凸状部22の頂部面24に供給された塗工インキ液は、インキ撥液性層27により弾かれるため、凹状部26aや裾部26bへの流れ込みが回避される。そのため、膜厚均一性が高い精密印刷製造物を再現性よく作製することができる。 (もっと読む)


21 - 30 / 162