説明

国際特許分類[B41M1/02]の内容

国際特許分類[B41M1/02]の下位に属する分類

国際特許分類[B41M1/02]に分類される特許

41 - 50 / 162


【課題】被印刷基材に安定して高精度かつ平坦性の高い画像パターンを形成できる印刷版を提供する。
【解決手段】印刷版(6)は、主表面(21)を有する基材(1)と、主表面(21)上に形成され、印刷時に被印刷物へインクが転写される画線部(7)と、主表面(21)上に形成され、印刷時に被印刷物へインクが転写されない非画線部(8)とを備える。画線部(7)は、主表面(21)に対向する対向面(25)を有する樹脂層(5)と、基材(1)と樹脂層(5)との間に配置され対向面(25)に面接触する溶媒保持層(4)とを有する。 (もっと読む)


【課題】発光特性の良好な有機EL素子を容易に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】陽極と、該陽極上に設けられた第1の層と、発光材料を含有する第2の層と、陰極とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、陽極がパターン形成された基板を用意する工程と、前記陽極表面に存在する基又は原子に対する反応性基Xを有する化合物を含む溶液を、前記陽極表面に接触させて前記陽極上に未処理層を形成した後、該未処理層をUVオゾン処理により改質して平均膜厚が10nm以下の第1の層を形成する工程と、前記第2の層が形成される層形成領域に対応する形状を有する凸部12aを備え、当該凸部12aの表面部に複数本の凹溝12bが形成された凸版印刷版11を用いて、凸版印刷法により、前記発光材料を含むインキを前記層形成領域に供給し、第2の層を形成する工程と、陰極を形成する工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微細なレジストパターンを反転印刷法により形成するのに適した性質を備えたレジストインキならびにそのようなレジストインキを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】熱溶融型樹脂からなる樹脂微粒子と、前記樹脂微粒子を溶解せずかつ前記樹脂微粒子を分散可能である溶媒とを含むレジストインキ。このようなレジストインキは、粘度や表面エネルギーなどの面において、反転印刷法に用いるのに適した性質を有する。また、前記樹脂微粒子は熱溶融型樹脂からなるため、レジストインキパターンを被エッチング材上に転写した後に加熱することで前記樹脂微粒子は溶融し、形成されるレジストパターンのエッチング耐性を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】ガラス基材やプラスチック基板等の板状基材や、長尺状のプラスチックフィルムなどの可撓性基材上へ、連続的に高精細パターンを形成する印刷装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、インキ剥離性のフィルム基材上にインキ液を塗工する手段と、該インキ液を予備乾燥して予備乾燥インキ膜を得る手段と、画像部パターンを凹部とした凸版を該予備乾燥インキ膜に押し当て引き離すことで非画像部を該凸版の凸部に転移させる手段と、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜からなる画像パターンを被印刷基材表面上へ転写する手段と、剥離性のフィルム基材上の残存インク膜を洗浄し除去する洗浄手段と、被印刷基材表面を洗浄する手段とを具備する。 (もっと読む)


【課題】凸版印刷法による有機発光層の形成において、面内膜厚が均一で、欠陥やムラのない膜形成を行うことのできる印刷用凸版を提供する。
【解決手段】凸部201Aの接触面と同一面を有し複数の凸部201Aを接続する接続部201Bを備えることにより、各接触面を接続部201Bを介して接続することによって、アニロックスロールから版凸部上に転写されたインキの流動を版凸部上で可能にし、それによって版凸部上のインキ量の不均一性を緩和した。 (もっと読む)


【課題】本発明は欠陥がなく印刷品位の高い、高精細な印刷パターンを形成する凸版印刷機を提供することを目的とする。
【解決手段】回転式の版胴11の周面に発光パターン形成用の凸版が装着されている。定盤14に被印刷基板15が取り付けられている。支持基台13は、版胴11を回転可能に支持し凸版12と被印刷基板15とが接する方向に版胴11または定盤14の一方または双方を相対的に移動可能に支持している。アニロックスロール161は、凸版12の表面にインキを供給する。凸版12の版面12bに塗布されたインキは、凸版12が被印刷基板15と接点をもった時点で被印刷基板15上に転写される。定盤は、凸版12と被印刷基板15の接点(接触点)Pが、版胴11の中心Oを通り水平方向に延在する仮想直線L上または仮想直線Lの上方に位置するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】可変データイメージングのための方法及びシステムを提供する。
【解決手段】第1のユニットが基板の表面の選択された部分に透明なリフトオフ材料をインク射出するように配置され、第2のユニットが第1の量のマーキング材料を基板の表面と、透明なリフトオフ材料の表面に付加するように配置されるとともに、第1の量のマーキング材料が透明なリフトオフ材料の表面に付加される第2の量のマーキング材料を有し、UV付加ユニットが第2のユニットの下流に配置され、基板上に紫外線光を放射するように配置され、加熱ローラとウェブクリーナが第2のユニットの下流に配置され、加熱ローラが透明なリフトオフ材料の分割を促進するように適合され、ウェブクリーナが第2の量のマーキング材料と透明なリフトオフ材料を基板から除去するように適合される。 (もっと読む)


【課題】所望膜厚およびシャープネスを有する印刷膜を形成するとともに、印刷膜の厚膜化が可能とされた印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】印刷装置1は、塗工膜5を受理する画像部が形成された版胴7と、版胴7に対して塗工膜5を供給する塗工膜供給ローラ9と、塗工膜供給ローラ9に対して塗工膜5を塗工するスリットコータ11とを備える。版胴7の画像部に受理された塗工膜5をガラス基板3へ転移させて印刷を行う。スリットコータ11によって塗工膜供給ローラ9に形成された塗工膜5と、塗工膜供給ローラ9から版胴7の画像部に受理された塗工膜5と、版胴7からガラス基板3へと転移された塗工膜5が、略全量転移される。 (もっと読む)


【課題】表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機EL素子の作製に最適な、線太りの抑制と膜厚均一性の向上とが可能な凸版印刷方法を提供する。
【解決手段】レリーフを有する印刷用凸版を、該レリーフの頂面を外側に向けた状態で円筒形とし、該レリーフの頂面にアニロックスロールからインクを供給しながら円筒軸を中心に該印刷用凸版を転動させることによって、該印刷用凸版から被印刷体に対して該インクを転写する転写工程を含み、該印刷用凸版が、開口面積10μm2以上1600μm2以下の窪みを該レリーフの頂面に複数個有し、該アニロックスロールの線数が400線/インチ以上700線/インチ未満であり、かつ該窪み1つ当たりの開口面積が該アニロックスロールのセル1つ当たりの開口面積よりも小さくされている凸版印刷方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】印刷パターンの膜厚によらずに従来よりも鮮明な印刷を行うことが可能な印刷方法を提供する。
【解決手段】平板ブランケット1上のインク2に対してモールド5の突起部51を押し当てることにより、突起部51に対応するパターンからなる溝部21をインク2上に形成する。そののち、平板ブランケット1上のインク2と凸版3とを加圧接触させることにより、インク2のうちの凸部31に対応する部分を選択的に除去し、平板ブランケット1上に印刷パターン層2Aを形成する。これにより、インク2(印刷パターン層2A)の膜厚が大きい場合であっても、インク2のうちの凸部31に対応する部分が容易に剪断される。 (もっと読む)


41 - 50 / 162