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国際特許分類[B41M1/02]の内容

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本発明は印刷方法及びこれに用いられる印刷用助剤を開示する。本発明の印刷方法は、印刷版の装着、インク供給、被印刷媒体の搬送及び加圧印刷を含み、任意の印刷部における加圧印刷位置の前で、加圧印刷される被印刷媒体に水及び/又は常温常圧下で液体である有機物を含有する印刷用助剤を付加する。本発明は、更に、前記印刷用助剤の用途を開示する。本発明の印刷方法及び印刷用助剤は、各種被印刷媒体への印刷及び印刷品質の改善に適用することが可能である。 (もっと読む)


【課題】パターンを形成するためのインクを画線部分のみに使用し、かつ高精細なパターニングが可能な描画パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】描画パターン4が形成される領域を囲む隔壁2を印刷法によって形成し、隔壁2の内側にインクジェット法によりインク3を注入して描画パターン4を形成した後に隔壁2を除去する。隔壁2の形成に用いられるインクとしては、水またはアルカリ水に可溶の樹脂を含むレジストがあげられる。 (もっと読む)


【課題】高清浄度の版洗浄が可能なパターン形成装置及びパターン形成方法提供すること。
【解決手段】印刷ロール(2)と、印刷ロールの下方に配置され、印刷ロールにインクを形成する塗布装置(3)と、印刷ロールの上方に配置された第1ベース(8)と、第1ベースの下面に配置された第1ステージ(6)と、第1ステージの下面に配置された第1印刷版(4)と、印刷ロール(2)に形成されたインクが転写される被印刷体(5)と、被印刷体(5)の上面もしくは下面に配置された第1ステージ(7)と、第1印刷版(4)及び被印刷体(5)を洗浄する洗浄機(12)とを有し、洗浄機は洗浄装置(9)を有し、洗浄装置の噴射ノズルは前記第1ベース(8)が存在する側に向けられているパターン形成装置及びパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】シリコーンブランケットの表面に対して適度の濡れ性と離型性とを兼ね備え、安全性の問題や縦スジ、ムラ等を生じにくい反転印刷法用のインキとそれを用いた反転印刷法、ムラやピンホール等のない厚みが均一なカラーフィルタ層、ブラックマトリクス層を備えた液晶カラーフィルタ、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】インキは、バインダ樹脂、着色剤、溶剤を含み、前記溶剤が、沸点50〜150℃、25℃における表面張力12〜18mN/mのフッ素系溶剤を5〜50質量%の割合で含有する。反転印刷法は、前記インキを用いる。液晶カラーフィルタ22は、カラーフィルタ層25、および/またはブラックマトリクス層24が前記反転印刷法によって形成される。製造方法は、前記カラーフィルタ層25、および/またはブラックマトリクス層24を前記反転印刷法によって形成する工程を含む。 (もっと読む)


【課題】従来困難であった材料でも精細な薄膜パターンの形成を可能とする。
【解決手段】薄膜の画線部と、薄膜のない非画線部とからなる薄膜パターンの形成方法であって、レジスト剥離性フィルム上にレジストを塗工する工程と、前記レジストを予備乾燥し予備乾燥レジスト膜とする工程と、前記非画線部パターンを凹部とし、前記画線部パターンを凸部とした凸版を前記予備乾燥レジスト膜に押し当ててから引き離すことで、前記画線部パターンの前記予備乾燥レジスト膜を前記凸版の凸部に転移させる工程と、前記レジスト剥離性フィルム上に残された前記予備乾燥レジスト膜からなる前記非画線部パターンを前記被印刷基材の表面上へ転写し前記非画線部パターンを形成する工程と、薄膜材料を、前記非画線部パターンが形成された前記被印刷基材表面上に薄膜形成する工程と、前記非画線部パターンの薄膜とレジストを剥離する工程が含まれることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】工程の複雑化や設備規模の増加が問題となっているフォトリソグラフィー法に代わりに開発されている被印刷基材表面上へ転写する反転印刷法において、簡便な工程/設備規模で、パターンの変形による抜けが無く、パターン重ね合わせ精度が高く、高品質な微細加工の要求の解決を課題とする。
【解決手段】パターン上層部、下層部を含んだ、少なくとも二つの層により構成される積層構造パターンを基材上に作製する方法であって、パターン上層部が、その下方のパターン層よりも大きく、パターン断面形状で画像パターン上層部からなるパターン表面部分が水平方向に突き出した形状とした事を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】コントラストのある分子レベルの微細な複製物を簡単に作製する。
【解決手段】表面に凸状パターンを有する版に樹脂をコーティングし、その樹脂を前記版から剥離することにより前記樹脂からなる判子を作製し、疎水性分子を分散させてなる疎水性分子インクを前記判子に付着させ、その分子インクの付着した判子を用いて基板上に疎水性分子の層からなる微細パターンを形成し、前記微細パターンの周囲の基板面に親水性分子を分散させてなる親水性分子インクに浸漬することにより化学修飾を施す微細パターン複製物を作製する。その場合において、前記微細パターンの形成後に、基板上に微細パターンを形成したものを水中に浸漬し、微細パターンを構成する疎水性分子同士を疎水結合させて疎水性分子同士を集合せしめてから、水中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクによる化学修飾を施す。 (もっと読む)


【課題】 各種電子部品などに所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。
【解決手段】 ブランケット表面に形成された均一なインキ塗膜を凸版に押圧して押圧部を凸版に転写させて除去することによって、ブランケット表面に画像を形成した後、これを被印刷基材に転写する凸版反転印刷法に用いられる微細パターン形成用インキ組成物であって、粒状成分、樹脂成分、有機溶剤、表面エネルギー調整剤、及び、ポリエーテル系化合物を含有することを特徴とする微細パターン形成用インキ組成物。 (もっと読む)


本発明は、ロールプリンティング工程に適切に適用され、良好な導電性パターンの形成を可能にする導電性金属インク組成物およびこれを利用した導電性パターンの形成方法に関する。前記導電性金属インク組成物は、導電性金属粉末;25℃で蒸気圧が3torr以下の第1非水溶媒および25℃で蒸気圧が3torrを超過する第2非水溶媒を含む非水溶媒;および高分子コーティング性向上剤を含み、ロールプリンティング工程によって基板に印刷されて導電性パターンを形成するために用いられる。 (もっと読む)


【課題】各種電子部品として所望される微細なインキ膜積層物を、凸版反転印刷法によりインキ膜の破断(白抜け)なく形成することができ、さらに正確な画像を再現することが可能な微細パターン積層用インキ組成物を提供する。
【解決手段】ブランケット表面に形成された均一なインキ塗膜を凸版に押圧し、押圧部を凸版に転写させて除去し、ブランケット表面に画像を形成した後、これを被印刷基材5に転写する凸版反転印刷法に用いられるインキ組成物であって、樹脂成分、粒状成分及び有機溶剤を含有し、該樹脂成分が、Tgが25℃以上、重量平均分子量が10,000〜200,000である高造膜性樹脂を含有することを特徴とする微細パターン積層用インキ組成物。特に被印刷基材上に存在する前工程のパターン段差を跨いで転写するために好適に用いられる。 (もっと読む)


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