【課題】被熱処理体の熱処理を実施する熱処理装置において、基板上への塵落下を防止するとともに、電力削減および製品品質の向上を実現できる熱処理装置、その方法、および、プラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】熱処理装置は、連続的に配置した連続炉を備え、各区画室は、互いに独立の処理空間となっている。ヒータ３７，３８によって昇温され、その各区画室内の各基板を所定温度に加熱処理する。各区画室内には、マッフルと呼ばれる耐熱性のガラス上板３９ａ、ガラス側板３９ｂ，３９ｃが設けられ、特に、ガラス上板３９ａは、基板から２０〜６０ｍｍ離れた位置に設置される。マッフルとして用いられるガラスは、日本電気硝子社製のネオセラム（商品名）が好適に用いられ、このネオセラムの表面に、金属を溶媒に溶かした溶液を塗布して有機金属化させた透明マッフルを使用することができる。 （もっと読む）

【目的】 ホットプレートの構成の変更を柔軟に且つ低コストで行うことができ、ホットプレートの重量を軽量化でき、ホットプレートを加熱するための消費電力を節減することができ、ホットプレートの加熱による反りや撓みなどの変形を抑えてガラス基板への均一な加熱を実現することができる、ガラス基板の熱処理装置を提供する。
【構成】 ガラス基板を加熱するためのホットプレートであって、断面が略長方形状に形成され内部が空洞になっているアルミ押出材が所定の長さで切断されて成る複数のアルミ押出板が、それぞれの上面又は下面が前記ガラス基板と対向するように並べられた状態で載置されて成るホットプレートと、前記ホットプレートの少なくとも前記ガラス基板と対向する面を加熱するための加熱部であって、前記各アルミ押出板の内部に挿入される複数の棒状ヒーターから成る加熱部と、を含む、ガラス基板の熱処理装置である。 （もっと読む）

【課題】開閉扉の密閉性が保たれない場合でも、ガラス基板にパーティクルが付着するのを防止することができるガラス基板用熱処理装置を提供する。
【解決手段】炉体内部に、ヒータを備える加熱室３を設け、この加熱室の基板収納口４に開閉蓋５を配設したガラス基板用熱処理装置において、前記基板収納口の下方には、排気管７が炉体の左右方向に向けて配設されており、この排気管の上面には、吸気用の吸引孔１１穿設しており、この吸引孔を介して加熱室内部の気体や夾雑物を吸引できるようにしている。 （もっと読む）

【課題】ガラスに含有される希土類成分を還元するに際し、希ガスと水素の混合気体雰囲気、窒素と水素の混合気体雰囲気等の還元ガス雰囲気中での還元処理を必要とせず、従って、処理作業中に爆発する危険性が無く、内部まで還元処理できるガラスの製造方法または結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスを熱処理する過程、またはガラスを熱処理して結晶化する過程において、該ガラスに０．１ｍＡ〜１０ｍＡの電流を通電する。該ガラスは希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅの成分を少なくとも１種以上含有したガラスであり、該ガラスに電場を印加して通電しながら熱処理する、または熱処理して結晶化することで、希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ及びＦｅの成分が還元されたガラスまたは結晶化ガラスが製造される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても変形しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のガラス基板熱処理用セッターは、セラミック焼結体からなるガラス基板熱処理用セッターにおいて、セラミック焼結体は、６００℃での熱処理後の吸水率が０〜０．１４質量％であることを特徴とする。また、本発明のガラス基板熱処理用セッターの製造方法は、原料粉末を焼結させることにより原板を作製するガラス基板熱処理用セッターの製造方法において、原料粉末が、結晶粉末及び／又は結晶化ガラス粉末と、フリット粉末とを含有し、結晶粉末又は結晶化ガラス粉末と、フリット粉末との３０〜６００℃における平均熱膨張係数の差が４０×１０^-7／Ｋ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ用のガラス基板としての機能を損なわない範囲内で、かかるガラス基板を作業台上に載置したときの反り量を適正に設定することで、作業台に対するガラス基板の位置ずれを抑制することにある。
【解決手段】平坦な載置面を有する作業台２上に載置された状態で所定の処理が施されるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板１であって、作業台２上に載置された状態での反り量（ｈ／Ｌ）を、０．００３％以上０．０５０％以下となるように設定した。 （もっと読む）

【課題】その目的は、半導体基板を反応容器内に搬入して熱処理する熱処理装置の構成部品である石英製品をベーク用の容器内にてベークし、石英製品に含まれる金属を除去するにあたって、複数の石英製品を容易に一括してベークすることができるベーク用の治具を提供すること。
【解決手段】下端に炉口が形成される非金属製の筒状の縦型容器内に石英製品を搬入し、当該石英製品をベーク処理するときに用いられる治具であって、治具要素部材を着脱自在に複数段積み重ねて構成され、この治具要素部材に石英製品を載置し、この一つの治具要素部材の上に他の治具要素部材を積み重ね、当該他方の治具要素部材に石英製品を載置し、こうして順次治具要素部材と石英製品とを積み重ねていくものである。 （もっと読む）

【課題】 繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】 ガラス基板熱処理用セッターは、結晶化ガラス又はセラミック焼結体からなり、ガラス基板を載置面に載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、載置面に耐熱膜が形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

熱処理中にガラス板（１３）が処理コンテナ（１５）内に垂直方向に保持される、板（１３）を熱処理する方法が開示されている。コンテナ（１５）は、底面支持部材（１７）、２つの側面支持部材（１９ａ，１９ｂ）、および上面支持部材（２１）を備えた、ガラス板（１３）を保持する支持装置を備えている。板（１３）は、その側縁（２３ａ，２３ｂ）と側面支持部材（１９ａ，１９ｂ）との間で接触せずに、コンテナ（１５）中に滑り込まされる。次いで、上面支持部材（２１）が、板の上縁（２５）と接触せずに、板（１３）の上部に滑らされる。特定の実施の形態において、ＨＥＰＡ濾過され、予熱されたフラッシングエアが、熱処理中にコンテナ（１５）に通される。本発明の方法を実施するための装置も開示されている。 （もっと読む）

【課題】希土類イオンの発光遷移を利用した蛍光発光ガラスは、高価な原料である希土類
元素を使用するために、高価であるという問題点を有する。ガラスマトリックスの中に蛍
光発光性半導体微粒子を分散させるものは、生産性向上が困難である。
【構成】ガラス組成物がモル％で、ＷＯ_３＋Ｗ_２Ｏ_５を５〜１５％（ただし、Ｗ_２Ｏ_５は
、０．０１％〜１５％）、Ｐ_２Ｏ_５を１５〜２５％、ＺｎＯを６０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３
を０．０６〜１０％含み、ガラス相の体積分率が７０％以上であり、ガラス組成物中に含
有されるＷ^５＋イオンに起因して紫外波長域の励起光の照射により可視波長域で蛍光発光
するガラス組成物からなることを特徴とする蛍光発光ガラス。原料を１０２０〜１４００
℃の温度範囲で溶融、保持してＷＯ_３源原料を還元させた後、冷却することにより製造で
きる。 （もっと読む）