【課題】ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、又はＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の結晶化ガラスに特徴のある諸物性を維持しつつ、砒素成分やアンチモン成分の含有量が極力少ない、又は砒素成分やアンチモン成分を含まない結晶化ガラス及び結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する結晶化ガラスに清澄剤としてＳｎＯ_２成分及び／又はＣｅＯ_２成分を含有させることにより、好ましくはこれらの成分の含有量を特定の範囲とすることにより所望の結晶化ガラスを得る事ができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、表面の凹凸を改良したガラスセラミック製品を提供することにある。
【解決手段】ガラスセラミックパネル（４０）を製造する方法において、青色ガラスパネル（１０）を熱間形成で製造し、次に青色ガラスパネル（１０）をセラミック処理してガラスセラミックを形成し、さらに青色ガラスパネル（１０）の少なくとも１つの表面（１１、１２）をセラミック処理以前またはその途中で火仕上げする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、繰り返し熱処理工程で使用されても、うねりや反りが発生しにくいフラットディスプレイパネル基板の熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のフラットディスプレイパネル基板の熱処理用セッターは、フラットディスプレイパネル基板を熱処理するためのセッターであって、任意の部分において密度の最大値をＤ_MAX、最小値をＤ_MIN、平均値をＤ_Aveとした時、１０００×（Ｄ_MAX−Ｄ_MIN）／Ｄ_Aveが２．０以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、ガラスセラミック材料、その製造プロセスおよびそれを含む物品に関する。本発明のガラスセラミック材料は、全組成の質量で表して、５５〜６８％のＳｉＯ₂、１８〜２４％のＡｌ₂Ｏ₃、３．３〜４．１％のＬｉ₂Ｏ、１．５〜４．０％のＺｎＯ、１．５〜５．０％のＭｇＯ、２〜５％のＴｉＯ₂、０〜２％のＺｒＯ₂、０〜５％のＢ₂Ｏ₃、０〜８％のＰ₂Ｏ₅、０〜２％のＮａ₂Ｏ、０〜２％のＫ₂Ｏ、および効果的な量の少なくとも１種類の清澄剤から生じる少なくとも１種類の成分を含む組成であって、Ｂ₂Ｏ₃およびＰ₂Ｏ₅の合計が少なくとも１．５質量％であり、ＭｇＯおよびＺｎＯの合計が少なくとも約３．５質量％であり、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約３．０質量％未満であり、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約１１質量％未満であり、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏの総計のＰ₂Ｏ₅＋Ｂ₂Ｏ₃の総計に対する質量比（（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／（Ｐ₂Ｏ₅＋Ｂ₂Ｏ₃））が約０．５未満であり、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約９質量％未満でありかつＮａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約２質量％未満であることが好ましく、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約７質量％未満でありかつＮａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約１質量％未満であることがより好ましい組成を有する。このガラスセラミック材料は、主結晶相としてβスポジュメン固溶体を含む。ある実施の形態において、本発明のガラスセラミック材料は、Ａｓ₂Ｏ₃およびＳｂ₂Ｏ₃を実質的に含まず、約０．３〜１．２質量％のＳｎＯ₂および０〜１質量％のＣｅＯ₂を含む。本発明のガラスセラミック材料のための前駆体ガラスは、約１６００℃未満で溶融し、比較的低温で比較的短期間に亘りβスポジュメンガラスセラミックにセラミック化できる。このガラスセラミック材料は、レンジ台上面プレートおよび調理器具の製造に使用するのに特に有利である。 （もっと読む）

【課題】従来のガラス導電体よりも耐熱耐湿性が高く、電導度が実用レベルの10^-3 Scm^-1以上の結晶化ガラスからなる燃料電池、水素センサ、水電解装置、ガス発生装置、湿度制御装置用プロトン伝導体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】P₂O₅換算でリン酸を50mol%以上75 mol%未満を含むリン酸塩系ガラスを、温度２５０℃以上４００℃未満の条件の雰囲気で熱水蒸気処理することで結晶化させた熱水蒸気処理リン酸塩系結晶化ガラスからなるプロトン伝導体。該ガラスはBaO,CaO,Al2O3,ZnO から選ばれる金属酸化物を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】視覚的に無秩序な光散乱（濁度）または固有色のないアルミノケイ酸リチウムガラスを提供する。
【解決手段】含量が０〜０．４のＳｎＯ_２、１．３〜２．７重量％のΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２、１．３〜２．５重量％のＺｒＯ_２、３．６５〜４．３重量％のΣＺｒＯ_２＋０．８７（ＴｉＯ_２＋ＳｎＯ_２）、０．０４重量％以下のＦｅ_２Ｏ_３、５０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、及び０〜５０ｐｐｍのＣｏＯのアルミノケイ酸リチウムガラスまたは対応するガラスセラミックが開示される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは中間色であり、濁度が１％未満のヘイズ及び高い光透過を有する。前記ガラスのガラスセラミックへの変換に要するグレージング時間は２．５時間未満と特に短い。 （もっと読む）

【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、ＥＬ背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ₂を１０〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃を１〜５質量％、Ｂ₂Ｏ₃を１０〜３０質量％、ＲＯを５０〜７０質量％（但しＲＯはＺｎＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種）、およびＲ_ＢＯ₂を０．５〜３質量％、（但しＲ_ＢＯ₂はＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するガラス組成物７１〜９５質量％と無機充填材５〜２９質量％の混合物を８５０〜９５０℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しＥＬ背面基板、ＰＤＰ背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。 （もっと読む）

【課題】ホウケイ酸ガラス中にフッ素雲母結晶が分散した快削性ガラスセラミックスにおいて、フッ素雲母結晶の成長を制御し、切削性、機械的強度を改善する。
【解決手段】フッ素以外は酸化物換算に基づく質量％で、ＳｉＯ_２：３５〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜２０％、ＭｇＯ：１０〜３５％、Ｋ_２Ｏ：５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３：２〜１０％、ＺｒＯ_２：０〜１０％およびＦ：１〜１５％の組成をなすように調整された原料配合物から得られたガラス体を、不活性ガスまたは不活性ガスと酸素との混合ガスを圧力媒体とする熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）法により結晶化熱処理する。ＨＩＰ処理は５０ＭＰａ以上で６５０〜８５０℃の温度の第１段(結晶核生成)と、８０ＭＰａ以上で９００〜１１００℃の第２段(結晶成長)とで行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のためのランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物を提供する。
【解決手段】α−石英（α−ＳｉＯ_２）、二珪酸リチウム（Ｌｉ_２Ｓｉ_２Ｏ_５）、モノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）からなる群より選ばれる１種または２種以上の結晶相を含む無機組成物。或いは、少なくともモノ珪酸リチウム（Ｌｉ_２ＳｉＯ_３）の結晶相を含む無機組成物。そして、これらの無機組成物に含有される結晶相を示す粒子の平均粒子径は１μｍ以下である。また、無機組成物のリング曲げ強度が３００ＭＰａ以上であり、研磨加工後の表面粗度Ｒａ（算術平均粗さ）が１０Å以下である。 （もっと読む）

【課題】 未結晶化ガラス製の歯冠成形体を結晶化させるための加熱工程において変形が少なく、得られた歯冠補綴物においてスプルー部の切断痕の外観に高度に優れ、且つ簡便な方法で実施でき、多数の未結晶化ガラス製の歯冠成形体を並列的に結晶化させることも容易な、結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法を開発すること。
【解決手段】 歯冠鋳造型を用いて、ディオプサイド系結晶化ガラス等の原料ガラスである未結晶化ガラス製の歯冠成形体を鋳造した後、該未結晶化ガラス製の歯冠成形体を歯冠鋳造型から取り出し、結合するスプルー部を切り取った後、上記未結晶化ガラスの結晶化温度で安定な石膏等の硬化性材料の硬化体中に包埋させた状態で加熱して結晶化させることを特徴とする結晶化ガラス製歯冠補綴物の製造方法。 （もっと読む）