【課題】従来のチタン酸バリウムは、原料粉末を焼結法によって作製しているため、１０００度以上の高温を必要として、割れ等の原因により大きな緻密体や精密な形状の作製が困難であった。また、焼結に必要とする分散材などの影響も大きく、性能が分散材に依存するといえる。
【解決手段】ホウ酸（１５−４０ｍｏｌ％）、酸化チタン（２５−４０ｍｏｌ％）、酸化バリウム（２５−４０ｍｏｌ％）、酸化カリウム（０−２０ｍｏｌ％）の組成のガラスを作製し、結晶化温度で熱処理することにより、チタン酸バリウムを析出させることができる。酸化チタンと酸化バリウムが等しいモル数のところに、酸化カリウムを酸化チタンと置換することで様々な特性を有するチタン酸バリウムを作製できる。また、ガラス中に様々な化合物を導入することができ、光学を含む幅広い工学分野へのデバイスとして利用できる。 （もっと読む）

【課題】光学非線形性の高いフレスノイト型の結晶を選択的に結晶化でき、しかも十分に高い光学非線形性を発揮できる結晶化ガラスを効率よく製造でき、かつ、ファイバ形状に線引き可能なガラス、そのガラスを用いて得られるフレスノイト型の結晶が析出した結晶化ガラス及びその結晶化ガラスの製造方法、並びに、光学部材を提供する。
【解決手段】光導波用の光学部材を形成するためのガラスであって、アルカリ土類金属の酸化物を２０〜３５モル％、チタン酸化物を１０〜１５モル％、ゲルマニウム酸化物を１０〜４０モル％、ケイ素酸化物を１０〜６０モル％の割合で含有し、結晶化温度とガラス転移温度との差が１００℃以上であるガラス、およびそれらのガラスを熱処理して得られる結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスに対して、短時間で効率よく、かつ大面積領域に加熱処理を行うことが可能であり、それにより、例えば結晶性ガラス中に結晶を容易に大面積領域に析出させることが可能なガラスの加熱方法を提供する。
【解決手段】５００〜２５００ｎｍのいずれかの波長における吸光係数が１．０ｃｍ^−１以上であるガラスに、近赤外線ランプを用いて波長５００〜２５００ｎｍの範囲に発光ピークを有する光を照射することを特徴とするガラスの加熱方法。 （もっと読む）

【課題】 第１のガラス部材や第２のガラス部材を破損させ得る入熱過多の状態となるのを回避することができるガラス溶着方法を提供する。
【解決手段】 溶着予定領域Ｒに沿ってガラス層３にレーザ光Ｌ２を照射することにより、ガラス部材４とガラス部材５とを溶着するに際し、予めガラス層３の各曲部３ａに結晶化部８を形成する。このとき、結晶化部８におけるレーザ光の吸収率がガラス層３におけるレーザ光の吸収率よりも低いため、溶着予定領域Ｒに沿って結晶化部８からレーザ光Ｌ２を移動させた際にはガラス層３が徐々に加熱され、一方、溶着予定領域Ｒに沿って結晶化部８までレーザ光Ｌ２を移動させた際にはガラス層３が徐々に冷却されることになる。これにより、ガラス層３の各曲部３ａが、ガラス部材４，５を破損させ得る入熱過多の状態となるのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】耐久性の問題がなく、比較的容易な方法で所望の形状に成形でき、更に光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】光触媒としての活性を持ちえる結晶相として、ＴｉＯ_２、Ｃａ_２Ｔｉ_５Ｏ_１２、Ｃａ_２Ｔｉ_２Ｏ_６、ＣａＴｉＳｉＯ_５又は、これらの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含み、ＳｉＯ２成分を含むガラス相を有し、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ２成分を５〜６０％、ＳｉＯ２成分を１５〜８０％含有するガラスセラミックスである。 （もっと読む）

【課題】結晶の大きさおよび結晶相の比率と相組成が予め決定可能及び調整可能なコンデンサ又は高周波フィルタにおける使用に適したガラス・セラミックの製造方法を提供する。
【解決手段】最大直径２０〜１００ｎｍの強誘電性微結晶が得られガラス・セラミック中の強誘電性微結晶の比率が少なくとも５０容積％、ガラス・セラミック中の非強誘電性微結晶の比率が１０容積％未満、ガラス・セラミック内に有るポアが０．０１容積％未満であり、且つｅ’・Ｖ^２_maxの値が少なくとも２０（ＭＶ/ｃｍ）^２であるガラス・セラミック（ここで、ｅ’は１ｋＨｚにおけるガラス・セラミックの比誘電率、Ｖ_ｍａｘは絶縁破壊電圧/ガラス・セラミック厚さである）であり、出発ガラスを生成する工程と、該出発ガラスをセラミック化中少なくとも１０Ｋ/ｍｉｎの加熱又は冷却速度でセラミック化してガラス・セラミックを生ずる工程を含んで成る方法。 （もっと読む）

【課題】熱膨張係数の十分大きな結晶化ガラス基板が安定的に得られる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２を主成分として含有するガラス基板に、露光エネルギーを１〜２０Ｊ／ｃｍ^２の間で調節して紫外線露光を行い、次いで熱処理温度を７８０℃〜９００℃の間で調節して熱処理を行う結晶化ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】結晶化工程の熱処理時における基板面内あるいは基板間での温度分布のばらつきを低減でき、しかも熱処理時の処理能力の大幅な向上を可能とする結晶化ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２を主成分として含有するガラスを溶融し基板状に成形した後、該ガラス基板に少なくとも熱処理工程を施すことにより結晶化ガラス基板を製造するに際し、前記熱処理工程は多段の加熱手段を基板が順次通過することによって行われ、前段の加熱手段による熱処理が完了し、次段の加熱手段への基板の搬送速度を１ｍ／分以上とする。 （もっと読む）

【課題】反り変形等を起こさず、機械的強度、化学的及び熱的耐久性を有し、従来よりも色彩による意匠表現の自由度が広く、かつ外観として高級感及び透光性を向上させた模様入り結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】模様入り結晶化ガラス物品の装飾ガラスレンガ１０は、３層のガラス層が融着一体化され、中間層が結晶化ガラス層１１よりなり、意匠面となる外層が、非晶質ガラス層１２、１３よりなり、非晶質ガラス層１２、１３は、結晶化ガラス層１１との線膨張係数の差が１５×１０^−７／Ｋ以下であって、厚さｔが１ｍｍ〜１０ｍｍである。製造方法は、耐火性容器内の一面側から第一非晶質ガラス材料、結晶性ガラス小体、第二非晶質ガラス材料を順に配置し、軟化点以上で熱処理して融着一体化させると共に、結晶性ガラス小体を結晶化させる。 （もっと読む）

【課題】真円度の高いディスク状ガラスをプレス成形によって製造することができるディスク状ガラスの製造方法、この方法により得られたディスク状ガラスを用いる、情報記録媒体用基板および情報記録媒体を製造する方法を提供する。
【解決手段】熔融ガラス塊を下型と上型を用いてプレスして、外周面が自由表面であるディスク状ガラスを成形する工程を含む、最大肉厚が1.2ｍｍ未満であるディスク状ガラスの製造方法。熔融ガラスの分離によって熔融ガラス塊の表面付近に生じる分離痕を、ディスク状ガラスの表面に残る分離痕がディスク状ガラスの表面の中央部に局在するように制御することで、真円度が100μm以内のディスク状ガラスを得る。最大肉厚が1.2ｍｍ未満であり、真円度が100μm以内であり、平坦度が10μｍ以下であり、かつ外周面が自由表面であるディスク状ガラス。ディスク状ガラスを加工してディスク状の情報記録媒体用基板の製造する方法。情報記録媒体の製造方法。 （もっと読む）