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国際特許分類[C03B8/02]の内容

国際特許分類[C03B8/02]に分類される特許

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【課題】屈折率調整が容易で光学設計がしやすいとともに、防曇性膜を有する光学部品を提供する。
【解決手段】透明基材と、前記透明基材上に積層され、少なくとも一部が親水性金属酸化物からなる光透過性の光学薄膜と、を有する光学部品であって、前記光学薄膜が、マトリックスによって内部に空隙を有する金属酸化物微粒子が結合された多孔質構造であることを特徴とする、光学部品。 (もっと読む)


【課題】光電変換効率が高く、耐候性も高い太陽電池用波長変換部材及び、これを用いた太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】ガラス繊維中にEuが賦活されたYを含む酸化物等の蛍光発光材料を含有するガラス繊維布からなることを特徴とする波長変換部材の下部と側面部に太陽光発電部材を有する太陽電池モジュールとする。蛍光発光材料が酸素や水分等により劣化して経時で発光効率が低下してしないように、蛍光発光材料の劣化を防止する手段として蛍光発光材料を含有するガラス繊維の表面に被覆層を有し、該被覆層が蛍光発光材料を含有しないガラスを主成分とする。 (もっと読む)


【課題】低レベルの偏光誘起複屈折、低レベルの光誘起波面歪曲及び高レベルの初期内部透過率を有する、合成石英材料及びその作成方法を提供する。
【解決手段】開示には約300nmより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるODドープ合成石英ガラスが含まれる。ODドープ合成石英ガラスはOH濃度が同程度の無ODドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ODドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約193nmにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 (もっと読む)


【課題】 大型、高寸法精度、高耐久性の、シリカを主な構成成分とするシリカ容器を、安価な比較的低品位のシリカ粉体を主原料として、投入エネルギー量を少なく、低コストで製造するためのシリカ容器の製造方法、及び、このようなシリカ容器を提供する。
【解決手段】 シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、シリカを主な構成成分とし、回転対称性を有するシリカ基体を形成し、該シリカ基体の内表面上に、シリカゾルからゾル−ゲル法によって透明シリカガラス層を形成するシリカ容器の製造方法。 (もっと読む)


【課題】液相合成法によって、合成中に原料化合物同士の不均一な沈澱を生じさせにくい、シリカガラスへの金属元素とリンとの共ドープの手段を見出して、金属元素が高濃度であっても均一に分散したシリカガラスを作製する方法の提供。
【解決手段】リン化合物と金属元素含有化合物と好ましくはフッ素化合物との存在下でゾル−ゲル法を行う金属元素ドープシリカガラスの製造方法であって、上記リン化合物は、P−C結合またはP−O−C結合を有し、かつ、P−OHなる部分構造を有さず、上記フッ素化合物においてフッ素原子は炭素原子またはホウ素原子と結合して存在している、上記製造方法。 (もっと読む)


【課題】 大型且つ一体型の3次元連続網目状構造のシリカゲルまたはシリカガラスからなるモノリス多孔体で均質な骨格構造のものをゾルゲル法で製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類を主成分として含むシリカ前駆体が溶媒相に混合されたゾルを調製するゾル調製工程と、前記ゾルを、所定のゲル化促進温度以上の温度下に維持して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、3次元連続網目状構造を有するシリカヒドロゲル相と前記溶媒相の共連続構造体を形成するゲル化工程と、前記共連続構造体から前記溶媒相を除去する除去工程と、を有し、前記ゾル調製工程において、前記溶媒相を構成する化合物と前記シリカ前駆体の反応系に添加する化合物の内の少なくとも何れか1つの化合物の強冷された固体からなる冷媒を前記溶媒相内に加えることにより、当該ゾル調製工程中における前記ゾルの温度上昇を抑制する。 (もっと読む)


【課題】赤外線遮蔽材料微粒子が媒体中に分散してなる赤外線遮蔽材料微粒子分散体、該赤外線遮蔽材料微粒子分散体より製造した赤外線遮蔽体、該赤外線遮蔽材料微粒子分散体に用いられる赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】赤外線遮蔽材料微粒子は、一般式M(1−Y)(但し、Mは、Cs、Rb、K、Liのうちから選択される1種類以上の元素、AはMo、Nb、Ta、Mn、V、Re、Pt、Pd、Tiのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.33≦X≦0.8、0.05≦Y≦1)で表記される。 (もっと読む)


【課題】収縮し難い乾燥ゲルの製造方法とシリカガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】乾燥ゲルの製造方法では、第一のゾルゲル反応前駆体をゲル化して湿潤ゲルを得る。その後、超臨界流体の存在下で第二のゾルゲル反応前駆体を湿潤ゲルに付与してゲル体を得る。そして、得られたゲル体を乾燥する。 (もっと読む)


【課題】球状の不純物が少ない合成シリカガラス粉末を経済的に製造することができる方法、およびこの方法によって製造した球状の合成シリカガラス粉末を提供する。
【解決手段】合成したシリカ質のゲルをスプレー乾燥して球状化し、この球状乾燥粒子を焼成してガラス化することを特徴とする合成シリカガラス粉末の製造方法であり、好ましくは、球状乾燥粒子を1125℃以上に加熱焼成して、嵩比重1.0以上、比表面積0.1m2/g以下にする製造方法、および上記方法によって製造され、光透過性が焼成前の乾燥粒子より低いことを特徴とする合成シリカガラス粉末。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径から算出した理論比表面積で割った値が1.35を超え1.75以下、真密度が2.10g/cm3〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05以下、円形度が0.50以上0.75以下及び球状化率が0.20以上0.55未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


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