【課題】各種装置用途として表面の清浄度が高いレベルで求められるガラス基板、特に垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、高密度化に対応すべく基板表面へのコンタミネーション付着によって生じるヘッドクラッシュを抑制し、メディア成膜後の記録再生特性を良好にする情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。また、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れており、今後の記録密度増大において必要となりうるＨＡＭＲに対応すべく耐熱性が高く、かつ、低コストで溶融ガラスを薄板加工することができるダイレクトプレス法に適したガラス材料を提供すること。
【解決手段】Ｎａ_２ＳＯ_４を緩衝剤として混合し、Ｈ_２ＳＯ_４とＮａＯＨにてｐＨが１０に調整された水溶液を用いて測定した表面のゼータ電位が−５０ｍＶより低い値を示すことを特徴とするガラス基板。 （もっと読む）

【課題】発電変換効率が高く、光の透過性と、耐ソラリゼーション性など耐候性に優れた太陽電池の提供。
【解決手段】本発明は、直径が異なる２本のガラス管からなる二重管、および当該２本のガラス管の間に形成された光電変換層を含み、当該二重管の光電変換層が形成されている部分の両端が封止されている太陽電池であって、当該２本のガラス管の少なくともいずれか一方が、下記酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ_２を６０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜５％、ＭｇＯを０〜５％、ＣａＯを０．５〜５％、ＳｒＯを０〜０．５％、ＢａＯを０〜１１％、Ｎａ_２Ｏを１０〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜１０％、ＺｒＯ_２を０．５〜１０％含有するガラスからなる太陽電池に関する。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、表面粗さ（Ｒａ）１０Å以下の未研磨の表面を有し、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ製造プロセスにおけるガラス板の寸法変化を減少させる。
【解決手段】 プロセス中にガラス板のガラスのピーク膨張を増加させるようにガラスの組成を変更する工程を有してなる。変更工程が、ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ガラスのアルカリ金属酸化物の濃度が少なくとも０．２５モル％だけ増加されることが好ましく、１．０モル％だけ増加させることがより好ましい。変更工程が、ガラスの水濃度を増加させる工程を含んでも差し支えない。ディスプレイ装置を製造する製造プロセスにおいて基板として使用するためのガラス板も提供される。 （もっと読む）

【課題】樹脂製の固体撮像素子パッケージに好適なカバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ３５〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ６〜２３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜２５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １５〜４０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ ０〜３０％、を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２を含有しないことを特徴とする固体撮像素子パッケージ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機ＥＬ照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が２ｍｍ以下であり、且つ屈折率ｎｄが１．５５以上の板ガラス。ガラス組成としてＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、ＺｎＯ、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜６０％含み、あるいはＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、Ｇｄ↓２Ｏ↓３、ＷＯ↓３、Ｔａ↓２Ｏ↓５、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜７０％含む。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスからプレス成形により磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、プレス成形直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化することにより、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、平坦なプレス成形面によりプレスして薄板ガラスに成形する際に、分離時の溶融ガラス塊の水平断面における最大径Ａに対する鉛直方向の長さＢの比Ｂ／Ａが０．５〜５の範囲内になるようにガラス流出口の口径を定めるとともに、溶融ガラスの流出粘度が５００〜１０５０ｄＰａ・ｓの範囲で一定となるよう溶融ガラスの流出温度を制御するガラスブランクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＳｎＯ_２０．０１〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、ＴｉＯ_２０〜０．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高品質かつ機械強度の高い薄板状のカバーガラス及び前記カバーガラスを備えるディスプレイを提供する。
【解決手段】組成が、酸化物基準のモル％表示にて、ＳｉＯ₂：６０〜７５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜１２％（ただし、ＳｉＯ₂およびＡｌ₂Ｏ₃の合計含有量が６８％以上）、Ｂ₂Ｏ₃：０〜１０％、Ｌｉ₂ＯおよびＮａ₂Ｏを合計で５〜２６％、Ｋ₂Ｏ：０〜８％（ただし、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計含有量が２６％以下）、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯを合計で０〜１８％、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂およびＨｆＯ₂を合計で０〜５％、を含み、さらに、Ｓｎ酸化物およびＣｅ酸化物を外割り合計含有量で０．１〜３．５質量％含み、（Ｓｎ酸化物の含有量／（Ｓｎ酸化物の含有量＋Ｃｅ酸化物の含有量））が０．０１〜０．９９であり、Ｓｂ酸化物の含有量が０〜０．１％であり、板厚が１．０ｍｍ以下のガラスを用いる。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＳＯ_３ ０．００１〜３％を含有し、質量分率（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．７〜２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）