【課題】熱処理に使用することにより反り変形したセッターを再利用できる平坦化処理方法を提供する。
【解決手段】被熱処理物を載せて熱処理するためのセラミックス製のセッターの反りを解消するセッター１の平坦化処理方法であって、反りを有したセッターを平坦面２上に載せ、上記熱処理の温度よりも高い温度に加熱して該セッターを該平坦面に沿わせることにより平坦化させることを特徴とするセッターの平坦化処理方法とする。この平坦化処理時の温度がセッターの使用温度（ガラス基板等の熱処理時の温度）よりも高いので、セッターを再利用するときに該セッターに反り変形が生じにくくなる。また平坦化処理時に重しをセッターの上に載せることにより、セッターの平坦化処理時間を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】実装部品の実装後においても個体識別が容易なセラミック基板およびその製造方法を得ることを目的とする。
【解決手段】文字または図形からなり個体識別を行うための識別記号が外表面にマーキングされたセラミック基板であって、焼成後の第１セラミック基板を分割されてなる第２セラミック基板の側面に、前記識別記号における線間距離が該識別記号の線幅の１倍以上である識別記号がレーザー光照射によりマーキングされている。これにより、セラミック基板の天面（上面）に対する実装部品の実装後でも、また、さらにセラミック基板の天面（上面）にカバー等が取り付けられた状態でも、セラミック基板の個体識別を確実に行うことができトレーサビリティに優れたセラミック基板が得られる。 （もっと読む）

【課題】ｄｍｎ値が１４０万以上となる高速回転下や潤滑剤を使用できない腐食環境下においても、寿命を十分に長くできる転がり軸受を提供する。
【解決手段】玉３を以下の方法で作製する。窒化珪素製の球状体を遊星ボールミルのミルポット内に入れて、遊星ボールミルを作動させ、この球状体に、ミルポット内に発生する公転に伴う遠心力と自転に伴う遠心力を付与することで、球状体同士を衝突させるとともに、球状体をミルポットの内壁へ衝突させて、球状体の表面をなすセラミックス結晶に転位を導入するボールミル工程を行った後に、仕上げ研磨加工を行う。ボールミル工程で表層部の圧縮残留応力を５００ＭＰａ以上にする。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛膜の結晶化処理の低温化、処理時間の短縮化を図る。
【解決手段】基材Ｗに酸化亜鉛膜ｆをスピンコート法やプラズマＣＶＤ等で成膜する。この基材Ｗを温調手段４０で３５０℃程度に加熱、温調しながら、酸素と窒素の混合ガス等からなる結晶化用処理ガスをプラズマ照射手段１０にてプラズマ化し、このプラズマを基材Ｗに照射する。 （もっと読む）

【課題】ｄｍｎ値が１４０万以上となる高速回転下や潤滑剤を使用できない腐食環境下においても、寿命を十分に長くできる転がり軸受を提供する。
【解決手段】玉３を窒化珪素製とし、その表面に、比重が３．０以上で、ビッカース硬さが４００以上で、平均粒径が２００μｍ以上１０００μｍ以下の粒子からなるショットを投射することにより、前記表面をなすセラミックス結晶に転位を導入するショットブラスト工程を行った後に、仕上げ研磨加工を行う。 （もっと読む）

【課題】剛性が高く、軽量で、低コストで平滑な面を持つ、大型化のセラミック構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板等の被処理物を乗せた状態で加工処理を行うための架台として用いられるセラミック構造体であって、該架台は、剛節架構構造を有する複数のユニットが結合・一体化された構造を有している、上記架台の表面は、緻密な膜で被覆されている、上記架台を構成する固体部分は、反応焼結窒化ケイ素又は反応焼結炭化ケイ素を主成分とする材料で構成されている、上記架台の部分の応力の大きさに応じて異なる気孔率を有するユニットが配設されている、ことを特徴とするセラミック構造体。
【効果】半導体や液晶の露光装置に必要なステージやテーブル等について、剛性が高く、軽量で、平滑な面を持ち、大型化に対応できる製品を低コストで製造し、提供することができる。 （もっと読む）

【課題】二酸化珪素基材の表面に深さ方向に不連続な窒化珪素層を形成する。
【解決手段】窒素ガスを固体電解質型酸素ポンプによって酸素分圧を１×１０^-28ａｔｍとして反応炉２に充填して炉内を極低酸素分圧雰囲気とした。高純度二酸化珪素質材料を反応炉２内にセットし、温度１０００℃に加熱して二酸化珪素質基材表面から酸素を解離させると共に窒素と結合させ、二酸化珪素質材料の表面に深さ方向に不連続な窒化珪素層を形成した。ＸＰＳ（Ｘ線電子分光分析装置）を使用して表面及び深さ方向の分析をＳｉ−Ｎの結合に着目して実施したところ、表面において検出された窒素は、深さ１０ｎｍで消失し、深さ４７０ｎｍから５４０ｎｍの厚さ７０ｎｍの層に窒素の存在が認められた。 （もっと読む）

【課題】 表面層として耐久性（高硬度、耐スクラッチ性、耐摩耗性、耐薬品性、耐熱性）に優れた酸化ジルコニウム層を有する多機能層を有する基体の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも表面層がジルコニウム、ジルコニウム合金、ジルコニウム合金酸化物又は酸化ジルコニウムからなる基体の表面を、炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより炭素ドープ酸化ジルコニウム層又は炭素ドープジルコニウム合金酸化物層からなる多機能層を有する基体とする。 （もっと読む）

【課題】 金属酸化物型のセラミック材料製の部品を局部的に着色する方法を提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、
（Ａ） ＸＹ面で相対的に移動できるように、前記セラミック材料製部品とレーザとを支持するステップと、
（Ｂ） 窒素と炭素から選択された１個の元素を含むガスを用いて、前記部品のプラズマ処理を実行するステップと、
前記（Ｂ）ステップにより、金属酸化物の表面層を、金属窒化物、金属炭化物から選択された化学量論的組成のセラミックに変換し、
（Ｃ） 前記レーザ・ビームでもって、前記部品を局部的に照射するステップと、
前記（Ｃ）ステップにより、前記表面層の化学量論的組成を変えることにより、局部的変色を引き起こし、
（Ｄ） 所定のパターンを形成するために、前記レーザ・ビームで、前記部品の表面を走査するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】炭化ケイ素焼結体の純度の向上と、炭化ケイ素焼結体の炭素濃度の低減を図る。
【解決手段】半導体製造に用いられる炭化ケイ素焼結体治具の製造方法であって、
（ａ）炭化ケイ素粉末と非金属系焼結助剤との混合物及び上記粉体混合物から調製された成形体のいずれか一方をホットプレス法により焼結して焼結体１を得る工程と、
（ｂ）上記焼結体１を加工処理して焼結体２を得る工程と、
（ｃ）上記焼結体２をアルゴン雰囲気下２０００〜２４００℃で熱処理して、上記焼結体２中の不純物を外部拡散させて不純物を取り除き焼結体３を得る工程と、
（ｄ）上記焼結体３と、二酸化ケイ素及び炭素を含む混合物とを同一環境内に配置し、アルゴン雰囲気下１６００〜１７００℃で加熱し、上記混合物から生じたガスを上記焼結体３の表面に供給して焼結体４を得る工程と、
を含む炭化ケイ素焼結体治具の製造方法。 （もっと読む）