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国際特許分類[C04B41/91]の内容

国際特許分類[C04B41/91]に分類される特許

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【課題】焼結セラミックシートを迅速に複雑な形状に加工する裁断焼結セラミックシートの製造方法と前記方法で製造した裁断焼結セラミックシートを提供する。
【解決手段】セラミックグリーンシートを成形する第一工程と、成形セラミックグリーンシートを焼成する第二工程と、焼結セラミックシートの少なくとも片面に粘着剤が塗布された可撓性樹脂フィルムを貼着してフィルム貼着セラミックシートを得る第三工程と、前記フィルム貼着セラミックシートをせん断する第四工程と、からなる裁断焼結セラミックシートの製造方法において、前記第工程は、前記フィルム貼着セラミックシートを上下金型の当接面に対して第一又は第二押圧手段により直接又は間接的に押圧しながら前記上下金型の当接面にあるエッジ間でせん断する操作を含む裁断焼結セラミックシートの製造方法と、前記方法で製造した裁断焼結セラミックシートを提供する。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なセラミックス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 セラミックス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すセラミックス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきセラミックス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する酸化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたセラミックス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 エネルギーの拡散及びレーザビームの反射を抑制可能なセラミックス基板のアブレーション加工方法を提供することである。
【解決手段】 セラミックス基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すセラミックス基板のアブレーション加工方法であって、少なくともアブレーション加工すべきセラミックス基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する窒化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成されたセラミックス基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】所望の柔軟性を有するとともに、焼結フェライト板の面積を最大限活用することにより、優れた特性を得ることができるフェライトプレートを提供する。
【解決手段】薄肉平板状の焼結フェライト板2の表裏面2a、2bおよび側面2cに、可撓性を有する合成樹脂からなるコーティング層3が形成されるとともに、焼結フェライト板2が、その表裏面に貫通する複数本の裁断線11、12に沿って小片に分割されてなる。 (もっと読む)


【課題】窒化アルミニウム焼結体基板と金属基板との接合強度の向上効果を発揮するのみでなく、更に、高強度で熱サイクル特性に優れた窒化アルミニウム−金属接合基板を安定にかつ再現性よく得ることのできる窒化アルミニウム−金属接合基板の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウム焼結体基板の被処理面に砥粒を衝突せしめて改質した後、上記窒化アルミニウム焼結体の被処理面に金属基板を接合するに際し、前記砥粒として窒化アルミニウム焼結体より高い硬度を有する砥粒を使用し、該砥粒を10〜30体積%の濃度で含有する液体を、圧縮空気と共に、前記窒化アルミニウム焼結体基板の被処理面に対して作用する圧力が0.10〜0.25MPaとなるように噴射して、X線回折を用いたsinψ法により求めた該被処理面の窒化アルミニウムの(112)面の残留応力値が−50MPa以下、かつ、表面粗さが0.2μm以下とする。 (もっと読む)


【課題】残留物よりも下にポリマーコーティングを有する基板処理構成部品の表面から、残留物を除去する。
【解決手段】一変形例においては、構成部品表面を有機溶媒と接触させて、ポリマーコーティングに損傷を与えることなく、またはポリマーコーティングを除去することなく残留物を除去する。残留物はプロセス残留物でも可能であり、または接着剤残留物でも可能である。この洗浄プロセスは、改装プロセスの一部として行うことができる。別の変更形態においては、構成部品表面にわたってレーザを走査させることによって、残留物をアブレーションする。さらに別の変形例においては、ことによって、構成部品の表面にわたってプラズマ切断機を走査させることによって、残留物を蒸発させる。 (もっと読む)


【課題】DPF等のフィルターとして使用した際に、濾過層の面積を減少させることなく、セルの長さのバラツキと、目封止部の端部へのスートの堆積が抑制された、圧力損失が増大しにくい目封止ハニカム構造体を提供する。
【解決手段】流体の入口側となる入口端面と流体の出口側となる出口端面との間を連通する複数のセルが、多孔質の隔壁によって区画形成されたハニカム構造体と、所定のセルの前記入口端面側の開口部及び残余のセルの前記出口端面側の開口部を目封止する目封止部とを備えた目封止ハニカム構造体1である。前記目封止部は、前記目封止部の構成材料を前記各セルに充填後、焼成することにより形成されたものであり、前記入口端面及び出口端面の総面積の35%以上の面積の領域Aにおいて、前記焼成時に前記目封止部の端部に生じた凹部の深さが浅くなるように、端面研磨による平滑化処理が施されている。 (もっと読む)


【解決手段】基材に希土類含有酸化物を5mm以下の厚さで溶射した後、基材から該溶射膜を剥離させることを特徴とする厚さ5mm以下の希土類酸化物含有溶射基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、成形、焼成、焼結工程なしで、所定寸法の基材に溶射することで希土類含有酸化物セラミックスの薄板を容易に作製することができる。また、基材形状の選択により、多角形状、円盤形状、リング形状、三角形状などさまざまな形状の薄板を容易に作製することが可能である。更に、穴の複数個開いた基材に溶射することで、複数個の穴の開いた溶射薄板を作製することも可能である。 (もっと読む)


【課題】本発明が解決しようとする課題は、半導体製造装置等の構造部品として、低熱膨張であり、且つ熱伝導率等の特性が損なわれることのない大型部品にも適用可能なアルミニウム−セラミックス複合体構造部品を安価に提供する。
【解決手段】平板のセラミックス多孔体を製品形状より大きな外周形状に成形又は加工した後、外周部に気孔率が10〜40体積%の炭素成形体を配置し、アルミニウムを主成分とするアルミニウム合金を30MPa以上の圧力で含浸し、外周部がアルミニウム−炭素複合体からなるアルミニウム−セラミックス複合体の作製した後、該複合体の外周部のアルミニウム合金層を研削加工等により除去した後、機械加工又はウォータージェット加工にて、アルミニウム−炭素複合体部分を加工した。 (もっと読む)


【課題】長期の使用に亘って、すぐれた仕上げ面精度を維持しつつ、同時にすぐれた耐摩耗性を発揮し得るCBNインサートを提供する。
【解決手段】逃げ面に溝と被膜が形成されたCBNインサートにおいて、
(a)その被膜後の溝形状が溝の凹凸を含む断面を見た時、溝幅W1とテラス幅W2はW1が1〜25μm、W2が3〜25μm、表面から溝の最も低い位置までの高さHが1.5〜15μmであり、1つのテラスと溝の組み合わせを1周期とした時、2周期以上で構成される形状であり、
(b)溝が形成される逃げ面内の領域が、チャンファーホーニング面と逃げ面の交線から逃げ面側に5〜300μmの範囲であり、
(c)溝を形成する方向が、刃先稜線と平行な線と溝形成方向の成す角θ(刃先先端と反対方向)が
−10°≦θ≦10°の範囲であることを特徴とするCBNインサート。 (もっと読む)


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