【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。環Ｗ^２は置換基を有していてもよい炭素数３〜３４のラクトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、大きなΔεと比較的低い粘度を同時に併せ持つ材料を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物を提供することである。また、当該液晶組成物を使用した液晶表示素子を提供することである。
【解決手段】 一般式（Ｉ）で表される２，６，７−トリオキサ−ビシクロ［２，２，２］オクタン骨格を持つ化合物を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した液晶表示素子を提供する。
【化１】
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【課題】沸点の低い有機溶媒類に対しても溶解性に優れ、また液晶配向膜の高チルト角発現が可能なポリイミドを与え得るそのモノマーとしての側鎖置換脂環式テトラカルボン酸二無水物及びその製造法の提供。
【解決手段】ビシクロ［３．３．０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸−２：４，６：８−二無水物のビシクロオクタン環に側鎖置換基を導入した下記式［１］で表される化合物及びその製造方法。


（式中、Ｒ¹は、炭素数１〜２０のアルキル基及びシアノアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】 誘電率異方性（Δε）が負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れた液晶組成物及び表示素子を提供し、またΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学安定性に優れた化合物を提供することである。
【解決手段】
一般式（Ｉ）
【化１】


で表されるフッ素化されたオキサビシクロノナン誘導体及びこれを含む液晶組成物及びこれを用いた表示素子を提供する。本発明の液晶組成物はΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れるという特徴を有し、当該組成物を用いた液晶表示素子はVA方式、IPS方式、PSA方式等に有用である。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤に可溶であり、カルボキシ基と反応する架橋剤であるβ−ヒドロキシアルキルアミドを提供する。さらには、有機溶剤可溶なβ−ヒドロキシアルキルアミドを含む樹脂組成物、その硬化物、有機溶剤可溶なβ−ヒドロキシアルキルアミドの製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されることを特徴とする（Ｂ）β−ヒドロキシアルキルアミド。一般式（１）


ここで、Ｘは炭素、水素、酸素、窒素、硫黄、またはハロゲンから構成されるｎ価の基であり、脂環式炭化水素基、分岐脂肪族炭化水素基、または芳香族炭化水素基であり、Ｘ中のカルボニル基に直接結合する原子が炭素原子である。ｎは２〜６の整数であり、Ｒ₁およびＲ₂は、それぞれ独立に、水素原子、または置換基を表す。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１及びＬ^２は、互いに独立に、２価の飽和炭化水素基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は、単結合、メチレン基、エチレン基、、カルボニル基、酸素原子又は硫黄原子を表す；Ｒ^１はアルキル基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；sは０〜２の整数；Ｙは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基を構成しているメチレン基は、酸素原子、スルホニル基等で置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 誘電率異方性（Δε）が負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れた液晶組成物及び表示素子を提供し、またΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学安定性に優れた化合物を提供することである。
【解決手段】
一般式（Ｉ）
【化１】


で表されるフッ素化されたオキサビシクロノナン誘導体及びこれを含む液晶組成物及びこれを用いた表示素子を提供する。本発明の液晶組成物はΔεが負であってその絶対値が大きく、かつ化学的安定性に優れるという特徴を有し、当該組成物を用いた液晶表示素子はVA方式、IPS方式、PSA方式等に有用である。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用クエンチャーとして好適な化合物、該クエンチャーを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、下記一般式（ｃ１）で表される化合物（Ｃ１）を含む含窒素有機化合物成分（Ｃ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（ただし、前記化合物（Ｃ１）を除く）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^Ｎは置換基を有していてもよい含窒素複素環式基であり；Ｘ^０は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状若しくは環状の部分構造を有する２価の脂肪族炭化水素基、又はこれらの水素原子の一部若しくは全てがフッ素原子で置換された基であり；Ｍ^＋は有機カチオンである。］。
［化１］
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【課題】高い収率で安価に５−オキソ−４−オキサ−５−ホモアダマンタン−２−オールを得る製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）で表されるｅｎｄｏ−ビシクロ［３．３．１］−６−ノネン−３−カルボン酸にギ酸と過酸化水素水を反応させる下記式（Ｉ）で表される５−オキソ−４−オキサ−５−ホモアダマンタン−２−オールの製造方法。
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【課題】サワラ等はじめとする樹木成分を原料としてローズマリー、セージ等シソ科香草の主要な抗酸化活性物質の１つであるカルノソール及びそれらの誘導体を効率的に製造する。
【解決手段】サワラ等の植物成分であるピシフェリン酸を原料として、２−ヨードキシ安息香酸（ＩＢＸと言う）による酸化した後、反応生成物を分離することなく室温で放置することによって、生成物分子内のカルボン酸とキノンメチドとの間のラクトン化反応等を進行させ、ローズマリーの抗酸化活性物質、カルノソール及びそれらの誘導体を、ピシフェリン酸から直接、１ポットで効率的に製造する。 （もっと読む）