国際特許分類［C07F9/6506］の内容
化学；冶金 (1,075,549) | 有機化学 (230,229) | 炭素，水素，ハロゲン，酸素，窒素，硫黄，セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式，炭素環式または複素環式化合物 (10,137) | 周期律表の第５族の元素を含有する化合物 (2,968) | リン化合物 (2,849) | 複素環式化合物，例．異項原子としてリンを含有するもの (1,320) | 異項原子として２個の窒素原子のみをもつもの (154) | ５員環 (59) | １位と３位に窒素原子をもつもの (42)
国際特許分類［C07F9/6506］に分類される特許
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ビルディングブロックを含む配位錯体系
本発明は、少なくとも２の供与体部分を持つ配位子を含む配位錯体系であって、該少なくとも２の供与体部分が遷移金属およびランタニドから選ばれた少なくとも１の金属と錯体化されている配位錯体系において、該配位子が少なくとも２のビルディングブロックを含み、該ビルディングブロックのそれぞれが少なくとも１の官能基および少なくとも１の供与体部分を持ち、１のビルディングブロックがその官能基を通してもう1つのビルディングブロックのまたはテンプレートの相補的な官能基に非共有結合的に結合され、該テンプレートはもう1つのビルディングブロックの相補的な官能基に非共有結合的に結合された少なくとも１の他の官能基を含み、かつテンプレートが２より多い官能基を含有するときはすべてのビルディングブロック−テンプレート−ビルディングブロック構造が同じであることを特徴とする配位錯体系に関する。 （もっと読む）
窒素を有する単座配位子ホスフィンおよび触媒中でのその使用
本発明は、式（Ｉ）の新規の窒素を有する単座配位子ホスファンリガンドおよび触媒反応における、特にハロゲン化芳香族化合物の改善におけるその使用に関する。 
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