【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）で表される環状アセタール構造を有する含フッ素単量体。


（Ｒは、水素原子の一部がハロゲン原子で置換されていてもよく、又は、メチレン基の一部が酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、Ｚは、両端で結合するアルキレンオキシ基と共に五員環又は六員環を形成し、重合性不飽和基を含む二価の有機基）
【効果】本発明により、光機能性材料、コーティング材料等の原料として有用な、環状アセタール構造を有する新規含フッ素単量体が提供される。中でも、該単量体を用いた重合体は波長２００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、また優れた撥水性を有すると共に構造の選択により撥水性、脂溶性、酸分解性、加水分解性など各種性能の調整が可能である。 （もっと読む）

【課題】高いバリア性を有するガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】有機層と、該有機層の表面に設けられた無機層を有し、前記有機層は、トリフェニレン骨格と重合性基を有する化合物を含む重合性組成物を硬化させてなる、バリア性積層体。前記トリフェニレン骨格と重合性基を有する化合物は、トリフェニレン骨格と重合性基とが、芳香環を有する連結基を介して結合している、バリア性積層体。前記重合性基は、エチレン性二重結合性基または開環重合性基である、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】新規なトリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマー並びにその製造方法及び用途の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、ｎは平均５〜６００の数である）
で表されるビニルエーテル誘導体ホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材へ塗布した後の反りやカール、塗膜ひび割れ及び剥がれなどが生じにくく、かつプラスチック基材との密着性に優れた硬化物を与えることができる紫外線硬化型樹脂組成物およびその硬化物を提供すること。
【解決手段】下記式（１）：


［式中、Ｒ_１は水素原子またはメチル基、Ｒ_２は１個以上の炭素による連結基を表す］で表される構造を１分子中に２以上有する光重合開始剤を含有する紫外線硬化型樹脂組成物を用いること。 （もっと読む）

【課題】各種の樹脂の改質剤、架橋剤及び光学・電子材料などに用いられる低誘電率樹脂の原料として有用な1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルの提供。
【解決手段】


で表される1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテル。 （もっと読む）

【課題】優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性及び現像性を奏する含フッ素樹脂、及び優れた撥インク性、その持続性、インク転落性、その持続性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、フッ素原子の含有量が５〜４０％である含フッ素樹脂。該含フッ素樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、酸架橋剤（Ｃ）とを含有する感光性樹脂組成物。該含フッ素樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、酸架橋剤（Ｃ）と、アルカリ可溶性樹脂（Ｄ）とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】Ｋｒエキシマレーザー光またはＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が矩形のレジストパターンを与える化学増幅型のネガ型レジスト組成物を提供する
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位とアルコール性ヒドロキシル基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】


（式中、Ｒ³はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Wは二価の連結基を表す。Ｒ⁴、
Ｒ⁵およびＲ⁶は、相互に独立に、水素原子、フッ素原子もしくは一価の有機基であり、または相互に組み合わされて環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】 得られる重合物の屈折率が高く、且つ耐熱性や耐光性に優れ、発光ダイオード、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体用基板、フィルター等の光学部品等の材料として有用な新規材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される重合性脂環式化合物、及び、該重合性脂環式化合物を重合させてなる重合物。
【化０】


（１）
（式中、Ｒ_１は、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、又はアリルオキシ基を表し、Ｒ_２はフェニル基を表す（ただしフェニル基は、炭素原子数１〜３のアルキル基を置換基として有していてもよい）。 （もっと読む）

【課題】硬化速度が速く、透明性や耐熱性に優れた硬化物を形成しうるオキセタン環含有ビニルエーテル化合物を提供する。
【解決手段】分子内に芳香族性又は非芳香族性の炭素環を有するか、又は分子内にビニルエーテル構造を２以上有しているオキセタン環含有ビニルエーテル化合物。下記式（１）


［式中、環Ｚは非芳香族性炭素環を示し、分子内に存在していてもよく存在していなくてもよい。Ｒは置換又は無置換ビニル基を示す。Ｗは置換又は無置換ビニルオキシ基（−ＯＲ基）とオキセタン環又は環Ｚとを連結する連結基であって、単結合又は（ｍ＋１）価の有機基を示す。Ｘはオキセタン環及び環Ｚの置換基である。ｍは１あるいは２、ｐは０〜５の整数、ｑは１あるいは２を示す。但し、ｍ＝ｑ＝１の場合は、少なくとも、環Ｚが存在するか、Ｘが炭素環を含んでいるか、Ｗが炭素環を含んでいる］で表される化合物が含まれる。 （もっと読む）