説明

ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途

【課題】新規なトリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマー並びにその製造方法及び用途の提供。
【解決手段】式(I):


(式中、nは平均5〜600の数である)
で表されるビニルエーテル誘導体ホモポリマー。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ビニルエーテル誘導体ホモポリマー並びにその製造方法及び用途に関し、更に詳しくは、例えばインク、塗料、レジスト、カラーフィルタ、フィルム等用途並びに接着剤、製版材、封止材、画像形成剤等の原料に用いられる低臭気、低揮発性且つ低皮膚刺激性であって、毒性が低く、また、高機能を有する硬化性、密着性、透明性、剛直性に優れたカチオン重合性組成物として有用なトリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマー(別名:2−メチル−5−メチル−5−エチニロキシメチル−1,3−ジオキサンホモポリマー)並びにその製造方法及び用途に関する。
【背景技術】
【0002】
本発明に係るトリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマーは、ケミカルアブストラクト(Chemical Abstract)に記載がなく、また、本発明者等の知るかぎりでは、その他の文献にもその記載が見当たらないので、新規化合物であると考えられる。
【0003】
また、通常、モノビニルエーテルを原料とするホモポリマーは、ガラス転移点が低く、単独での自立した成形体になるのは難しい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
従って、本発明の目的は前記トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマー並びにその製造方法及び用途を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明に従えば、式(I):
【0006】
【化1】

【0007】
(式中、nは平均5〜600の数である)
で表されるビニルエーテル誘導体ホモポリマーが提供される。
【発明の効果】
【0008】
本発明に係るトリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマーは、低臭気、低揮発性且つ低皮膚刺激性であって、毒性が低く、また、高機能を有する硬化性、密着性、透明性、剛直性に優れたカチオン重合性組成物として有用な優れたポリマーである。
【0009】
特に、本発明のモノビニルエーテルホモポリマーはガラス転移点は160℃以上であり、また分解温度は250℃以上で、非常に高い値を示す(それぞれ、JIS K−7121に従ってDSCにより測定)。更に、本発明のポリマーは、熱プレスでも溶媒キャスト法でも製膜が可能で、加工性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【0010】
本発明に係るモノビニルエーテルホモポリマー(I)は、例えば次のような反応式に従って重合することができる。
【0011】
【化2】

【0012】
即ち、本発明に係る式(I)のポリマーは、前記式(II)の化合物トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテル(別名:2−メチル−5−メチル−5−エチニロキシメチル−1,3−ジオキサン)を、例えば次のような方法で重合させることができる。
【0013】
即ち、化合物(II)の重合反応は、トルエン又は塩化メチレン等の前記化合物(II)を溶解する有機溶媒中で、ポリマーの濃度として0.01〜1.0モル容量%の濃度で行うのが好ましく、0.1〜0.5モル容量%の濃度で行うのがより好ましい。重合条件には特に限定はないが、温度−10〜10℃で0.1時間〜100時間重合させるのが好ましい。より好ましくは温度−5〜5℃で1時間〜50時間、最も好ましくは温度−1〜1℃で20時間〜30時間である。
【0014】
重合触媒としては、ルイス酸(例えばBF3、BCl3、BBr3、AlCl3、SnBr4など)及びその錯体(例えばBF3OEt2、(CH3CH(Oi−Bu)OCOCH3/SnBr4))等を挙げることができ、分子量分布を制限する上では、これらの錯体を用いることが特に好ましい。触媒の使用量には特に制限はないが、1mmol/L〜15mmol/Lである。
【0015】
上記重合反応は例えばアミン類のアルコール溶液で停止させることができ、その後は、添加したアルコール及び生成する塩類等を除去するため水洗、抽出することが好ましい。更に精製が必要な場合には、溶媒を留去して乾燥後、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテルで希釈し、アルコールで沈殿させることによって精製することができる。
【0016】
得られるポリマーの数平均分子量Mnは、GPCで測定して、500〜200,000であり、10,000以上であるのが、成形性の観点から好ましい。
【0017】
式(II)の化合物トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルは公知の化合物であり、例えばIzvestiya Akad.Nauk SSSR,Seriya Khim.(1966),(1),133−137.などに記載の方法で合成することができる。
【0018】
以下、実施例によって本発明をさらに説明するが、本発明の範囲をこれらの実施例に限定するものでないことはいうまでもない。
【0019】
式(II)のモノマー(トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテル)の製造
製造例1
攪拌器、圧力ゲージ、温度計、ガス導入管及びガスパージラインを備えた容量2000mlのSUS製容器に、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン217.6g、トリメチロールエタン215.1g(1.70mol)及び純度95重量%の水酸化カリウム20.1g(0.34mol)を仕込み、攪拌下に約60分間窒素ガスを流し、容器内を窒素にて置換した。次いで、反応容器を密封し、容器内にアセチレンガスを1.8kg/cm2の圧力で圧入した。次いで、ゲージ圧力を1.8kg/cm2に保ちながら徐々に昇温し、反応容器内温が170℃を越えないように制御し、約3時間反応させた。この間、逐次アセチレンガスを補充して反応容器内の圧力は常に1.8kg/cm2に保った。反応終了後、残留するアセチレンガスをパージして反応液564.5gを得た。ガスクロ分析の結果、トリメチロールエタントリビニルエーテルの選択率は55.3%(面積百分率)、トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルの選択率は44.7%(面積百分率)であった。
【0020】
製造例2
攪拌器、圧力ゲージ、温度計、ガス導入管及びガスパージラインを備えた容量2000mlのSUS製容器に、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン215.3g、トリメチロールエタン215.1g(1.70mol)及び純度95重量%の水酸化カリウム20.1g(0.34mol)を仕込み、攪拌下に約60分間窒素ガスを流し、容器内を窒素にて置換した。次いで、反応容器を密封し、容器内にアセチレンガスを0.4kg/cm2の圧力で圧入した。次いで、ゲージ圧力を0.4kg/cm2に保ちながら徐々に昇温し、反応容器内温が170℃を越えないように制御し、約20時間反応させた。この間、逐次アセチレンガスを補充して反応容器内の圧力は0.4〜0.6kg/cm2に保った。反応終了後、残留するアセチレンガスをパージして反応液511.2gを得た。ガスクロ分析の結果、トリメチロールエタントリビニルエーテルの選択率は32.5%(面積百分率)、トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルの選択率は67.5%(面積百分率)であった。
【0021】
製造例3
攪拌器、圧力ゲージ、温度計、ガス導入管及びガスパージラインを備えた容量2000mlのSUS製容器に、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン216.0g、トリメチロールエタン215.2g(1.70mol)及び純度95重量%の水酸化カリウム20.0g(0.34mol)を仕込み、攪拌下に約60分間窒素ガスを流し、容器内を窒素にて置換した。次いで、反応容器を密封し、容器内にアセチレンガスを0.6kg/cm2の圧力で圧入した。次いで、ゲージ圧力を0.6kg/cm2に保ちながら徐々に昇温し、反応容器内温が170℃を越えないように制御し、約25時間反応させた。この間、逐次アセチレンガスを補充して反応容器内の圧力は0.6〜1.0kg/cm2に保った。反応終了後、残留するアセチレンガスをパージして反応液526.7gを得た。ガスクロ分析の結果、トリメチロールエタントリビニルエーテルの選択率は32.6%(面積百分率)、トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルの選択率は63.6%(面積百分率)であった。
【0022】
次いで、上記製造例1〜3で得られた反応液を減圧下(0.4〜1.3kPa)に蒸留し、温度57〜77℃で留出した留分269.0gを集めた。NMRによる分析の結果、トリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルであった(ガスグロマトグラフィーによる純度99.5%)。
【0023】
実施例1
異性体の混合比が、trans:cis=3.9:1(1H NMRスペクトルから求めた)であるモノマー(1)を使用した。
【0024】
リビング重合開始剤である二成分系開始剤(HCl/ZnCl2)を用いた重合を行った。シュレンク管にモノマー溶液4.0mL、開始剤溶液0.5mL及び活性化剤溶液0.5mLを、この順に注射器で注入し重合を開始した。トルエン中、−30℃、モノマー濃度0.15mol/L(ガスクロマトグラフィーの内部標準クロロベンゼンを体積比でモノマーに対して0.8倍含有)、HCl濃度5.0mmol/L及びZnCl2濃度2.0mmol/Lで行った。重合は、11時間で重合率99%に達し、重合系にアンモニア水を少量加えたメタノールを2.0mL加えて停止した。
【0025】
生成ポリマーは、重合を停止した溶液を分液ロートに移し、塩化メチレンで希釈し、塩化ナトリウム飽和水溶液で三回洗浄し、次いで有機層からエバポレーターにより溶媒を除去し、減圧乾燥して回収した。Mn(数平均分子量)は重合率に比例して増加し、Mw/Mn(分子量分布)の狭いポリマーが合成できた(Mn=3760、Mw/Mn=1.17、GPCにより測定)。
【0026】
実施例2
実施例1の条件のモノマー濃度を0.30mol/Lに変えて、同様に重合を行った。重合は、10時間で重合率96%に達した。生成ポリマーのMnは、重合率に比例して増加し、Mw/Mn(分子量分布)の狭いポリマーが合成できた(Mn=6250、Mw/Mn=1.13)。
【0027】
実施例3
異性体の混合比が、trans:cis=9.5:0.5(企業調べ)であるモノマー(2)を使用した。実施例1と同様な条件で重合を行った。重合は、18時間で重合率97%に達した。生成ポリマーのMnは、重合率に比例して増加し、Mw/Mn(分子量分布)の狭いポリマーが合成できた(Mn=7770、Mw/Mn=1.13)。
【0028】
実施例4
モノマー(1)を用いて、実施例1と同様な条件(内部標準なし)で重合を行った。重合時間は1時間とした。回収したポリマーは、メタノール:水=8.5:1.5の混合溶液によりデカンテーションして精製した。生成ポリマー(Mn=8430、Mw/Mn=1.22)のTg(ガラス転移温度DSCで測定)は、21℃であった。また、Td(TG−DTAで測定)は259℃であった。
【0029】
実施例5
モノマー(1)を開始剤に、BF3OEt2を用いて重合した。ナスフラスコにモノマー溶液45mL、開始剤溶液5.0mLを順に注射器で注入して重合を開始した。トルエン中、−30℃、モノマー濃度0.15mol/L、BF3OEt2濃度5.0mmol/Lとした。重合時間は1時間とした。生成ポリマーの洗浄は実施例1のように行い、回収したポリマーをメタノールによりデカンテーションして精製した。生成ポリマー(Mn=82800、Mw/Mn=2.64)のTgは、43℃であり、Tdは316℃であった。
【0030】
実施例6
実施例5で生成したポリマーを使用した。使用したポリマーの量1.5g、70℃で10分間溶融させ、60℃で11分間成形を行った。成形ポリマーは、濁ってはいたが全体的に透明性のあるものになった。
【0031】
実施例7
実施例5で生成したポリマーを用いて、キャスト法により膜を成形した。ポリマー0.4gをTHF20mLで完全に溶解させ、ガラスシャーレとテフロン(登録商標)シャーレにガラスフィルターを通して10mLずつ入れた。乾燥させ溶媒が完全になくなってから、ゆっくりとはがしていった。ガラスシャーレで作成した膜ははがれにくく、シャーレに水を入れはがした。調製された膜は、全体的に透明であった。
【0032】
実施例8
実施例5で生成したポリマーを用いて、キャスト法により膜を作成した。ポリマー0.5gをクロロホルム40mLで完全に溶融させ、テフロン(登録商標)シャーレにガラスフィルターを通して入れた。乾燥させ溶媒が完全になくなってから、ゆっくりとはがしていった。調製された膜は、全体的に透明だった。
調製された膜の気体透過測定を行った。気体透過測定装置で乾燥した窒素、酸素、二酸化炭素を用いて常温(25℃)で測定した。二酸化炭素透過係数は8.53barrer、酸素透過係数は、1.24barrer、窒素透過係数は0.191barrerとなった。また、二酸化炭素と窒素の透過係数の比は44.7、酸素と窒素の透過係数の比は6.49となり、選択性がとても高いことがわかった。
【産業上の利用可能性】
【0033】
以上の通り、本発明に従えば、気体の選択的透過性が極めて高い膜を製造できるすぐれた新規なビニルエーテル誘導体ホモポリマーが得られ、例えば二酸化炭素分離膜の原料などとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【0034】
【図1】本発明のトリメチロールエタンアセタールモノビニルエーテルホモポリマー(I)の1H−NMRチャートである。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
式(I):
【化1】

(式中、nは平均5〜600の数である)
で表されるビニルエーテル誘導体ホモポリマー。
【請求項2】
数平均分子量Mnが500〜200,000である請求項1に記載のポリマー。
【請求項3】
分子量分布(重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)が1〜5である請求項1又は2に記載のポリマー。
【請求項4】
対応ビニルエーテル誘導体モノマーをルイス酸の存在下に重合することを特徴とする請求項1に記載の1,3−ジオキサン誘導体ホモポリマーの製造方法。
【請求項5】
請求項1〜3のいずれか1項に記載のホモポリマー(I)を含んでなる(又はホモポリマー(I)を原料として用いた)インク用原料。
【請求項6】
請求項1〜3のいずれか1項に記載のホモポリマー(I)を含んでなる(又はホモポリマー(I)を原料として用いた)電子材料用原料。
【請求項7】
請求項1〜3のいずれか1項に記載のホモポリマー(I)を含んでなる(又はホモポリマー(I)を原料として用いた)フィルム用原料。

【図1】
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【公開番号】特開2009−263490(P2009−263490A)
【公開日】平成21年11月12日(2009.11.12)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−114285(P2008−114285)
【出願日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【出願人】(000004592)日本カーバイド工業株式会社 (165)
【出願人】(504145320)国立大学法人福井大学 (287)
【Fターム(参考)】