【課題】感度、解像性及びリソグラフィー特性に優れるレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、且つ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ５−０）で表される構成単位（ａ５）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ６）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】
耐熱性が良好でありながらラミネート成形品のカールが少なく、かつラミネート成形品の端部厚みが中央部よりも厚くなりにくい押出ラミネート用エチレン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】
密度９２０〜９５５ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ_Ａ５ｇ／１０分以上１０ｇ／１０分未満であるエチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）５０〜８０重量％と、密度９５５ｋｇ／ｍ^３より大きく９７５ｋｇ／ｍ^３以下、ＭＦＲ_Ｂ５ｇ／１０分以上４０ｇ／１０分未満の高密度ポリエチレン（Ｂ）１０〜４０重量％および密度９１５〜９３０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ_Ｃ１．２５〜１０ｇ／１０分の高圧法低密度ポリエチレン（Ｃ）１０〜４０重量％からなり、下記要件（ａ）〜（ｄ）を満たす押出ラミネート用エチレン系重合体組成物。
（ａ）１６０℃で測定された溶融張力１０〜１００ｍＮ
（ｂ）ＭＦＲ４〜１７ｇ／１０分
（ｃ）ＭＦＲ_Ａ／ＭＦＲ_Ｂが０．２５〜４．０
（ｄ）ＭＦＲ_Ａ／ＭＦＲ_Ｃが０．２５〜４．０ （もっと読む）

【課題】安定性が高いニトリルオキシド化合物と、このニトリルオキシド化合物で高分子材料を変性した変性高分子材料を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル又はアクリル酸アミドの極性のアニオン重合性単量体を重合してなる炭素鎖の片方の末端に、一般式［１］で表される末端構造が結合しているニトリルオキシド化合物をＮＲ、ＥＰＤＭ、ＮＢＲ又はＰＡＮの高分子材料に反応させる。
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【課題】矩形性の高い良好な断面形状、高い残膜率及びブリッジ欠陥の低減を鼎立し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成されたレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位と、ラクトン構造又はサルトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位とを有する樹脂、及び
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


一般式（１）中、
Ｌは、単結合又は２価の連結基を表し、
Ｒ_１は、水素原子又はアルキル基を表し、
Ｚは、環状酸無水物基を表す。 （もっと読む）

【課題】
薄膜高速加工時の基材接着性に優れ、かつラミネート成形品の耳高を抑制した押出ラミネート用エチレン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】
密度９２０〜９３５ｋｇ／ｍ^３以下、ＭＦＲ５〜１０ｇ／１０分であるエチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）５０〜８０重量％と、密度８６０〜９１０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ１０〜４０ｇ／１０分のエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｂ）１０〜３０重量％および密度９１５〜９３０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲ１〜１０ｇ／１０分の高圧法低密度ポリエチレン（Ｃ）１０〜４０重量％からなり、下記要件（ａ）〜（ｄ）を満たす押出ラミネート用エチレン系重合体組成物を用いる。
（ａ）１６０℃で測定された溶融張力１０〜１５０ｍＮ、（ｂ）ＭＦＲ４〜１３ｇ／１０分
（ｃ）エチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）のＭＦＲとエチレン−α−オレフィン共重合体（Ｂ）のＭＦＲの比が０．２５〜４．０、（ｄ）エチレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）のＭＦＲと高圧法低密度ポリエチレン（Ｃ）のＭＦＲの比が０．２５〜４．０ （もっと読む）

【課題】
エチレン系重合体にドローダウン性が良好でかつ成形加工性改良効果に優れる加工性改質剤を配合することにより良好な押出成形性を有するエチレン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】
高密度ポリエチレン、炭素数３〜８のα−オレフィンから導かれる繰返し単位からなるエチレン−α−オレフィン共重合体および（ａ）を満たす高圧法低密度ポリエチレンよりなる群から選択されるエチレン系重合体（Ａ）５０〜９５重量％、高圧法低密度ポリエチレン（Ｂ）５〜５０重量％を含有し、高圧法低密度ポリエチレン（Ｂ）が（ｂ）〜（ｄ）を満たすことを特徴とするエチレン系重合体組成物。
（ａ）重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎの比Ｍｗ／Ｍｎが６未満
（ｂ）Ｍｗ／Ｍｎが６以上
（ｃ）ＭＦＲが１〜１０ｇ／１０分
（ｄ）９５℃で測定した、測定開始５分後の化学発光強度が、ペレット１ｇあたり４０カウント／秒以上 （もっと読む）

【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、上記共役ジエン系重合体の含有量が２５〜５０質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が４０〜８０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、粘着レジンとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が２５〜５０質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が４０〜８０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対する上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、軟化点が−２０〜２０℃の液状レジンとを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が２５〜５０質量％であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が４０〜８０質量部、上記液状レジンの含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】低燃費性、破壊強度及び加工性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合開始剤を用いて共役ジエン化合物及びケイ素含有ビニル化合物を含む単量体成分を重合させて得られる共重合体の活性末端に、窒素原子及び／又はケイ素原子を含有する化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含み、ゴム成分１００質量％中、上記共役ジエン系重合体の含有量が９０質量％以下であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜４０質量部であり、上記シリカ１００質量部に対して、上記シランカップリング剤の含有量が１〜２０質量部であるゴム組成物に関する。
［化１］
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【課題】ディフェクトの発生が低減され、リソグラフィー特性に優れたレジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の製造方法、並びに当該高分子化合物を含有するレジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、−ＳＯ_２−含有環式基を含むモノマーと、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含むモノマーとを共重合して高分子化合物（但し、該高分子化合物は露光により酸を発生するモノマーから誘導される構成単位を含まない）を製造する方法であって、前記共重合を、前記−ＳＯ_２−含有環式基を含むモノマーに対して、０．００１〜１．０モル％の塩基性化合物の存在下で行うことを特徴とする高分子化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度及び解像度を十分に向上すると共に、テント信頼性にも十分に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、分散度が１．６以下のバインダーポリマーと、光重合性化合物と、アクリジニル基を１又は２有するアクリジン化合物を含む光重合開始剤とを含有する。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物を有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで表面難溶層の形成を防ぎ、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】溶融張力と溶融延伸性のバランスに優れ、臭気の少ない高分岐型超高分子量共重合体を含有するスチレン系樹脂組成物と、それを使用した軽量化、二次成形性に優れる押出発泡シート、およびそれを成形してなる容器を提供する。
【解決手段】スチレン含有モノビニル化合物に、１分子中にビニル基を２以上有し、分岐構造を有する溶剤可溶性多官能ビニル化合物共重合体を、重量基準で１００〜３０００ｐｐｍ添加し、これを重合反応器に連続的に供給して重合させて得られる高分岐型超高分子量体を含むスチレン系樹脂組成物であって、スチレンダイマーとトリマーの合計量が２５００μｇ／ｇ以下で、Ｍｗが２０万〜５０万で、Ｍｚ／Ｍｗが２．２〜５．０、分子量１００万〜１５０万における分岐比ｇＭが０．８５〜０．４０である高分岐型スチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、（ａ５−０）で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。（式（ａ５−０）中、Ｒは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Ｒ^１は硫黄原子又は酸素原子である。Ｒ^２は単結合又は２価の連結基である。Ｙは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。）
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【課題】剛性に優れ、発泡倍率が高い高密度ポリエチレンの押出発泡シート、用樹が得られる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも密度が９３５〜９７０ｋｇ／ｍ^３、分子量分別した際のＭｎが１０万以上のフラクション中の長鎖分岐は主鎖１０００炭素数あたり０．１０個以下である高密度ポリエチレン（１）と密度が９１０〜９７０ｋｇ／ｍ^３、ＭＦＲが０．１〜１００ｇ／１０分、ＧＰＣによる分子量測定において２つのピークを示し、Ｍｗ／Ｍｎが２．０〜７．０であり、かつ分子量分別した際のＭｎが１０万以上のフラクション中の長鎖分岐数が主鎖１０００炭素数あたり０．１５個以上有するポリエチレン系樹脂（２）を含み、該高密度ポリエチレン（１）１００重量部に対し、該ポリエチレン系樹脂（２）５重量部以上４００重量部以下であるポリエチレン系樹脂組成物。 （もっと読む）