国際特許分類[C08F16/26]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | ただ1つの炭素−炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つがアルコール,エーテル,アルデヒド,ケトン,アセタールまたはケタール基によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体 (360) | エーテル基による (223) | 1個の不飽和脂肪族基をもつもの (146) | エーテル酸素以外の酸素を含有するもの (34)
国際特許分類[C08F16/26]に分類される特許
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ヒドロキシル基またはフルオロアルキルカルボニル基含有含フッ素エチレン性単量体
【課題】重合性、特にラジカル重合性が良好であり、重合して得られる重合体は優れた光学的特性を有しており、反射防止膜やレジスト用組成物のベースポリマーとして有用な単量体、該単量体構造単位を有する含フッ素重合体、さらにはフォトレジスト用組成物を提供する。
【解決手段】式:CX1X2=CX3−(Rf3)a−CRf1Rf2−OHまたは式:CX1X2=CX3−(Rf3)a−(C=O)Rf1(式中、X1およびX2は同じかまたは異なりHまたはF;X3はH、F、ClまたはCF3;Rf1およびRf2は同じかまたは異なり炭素数1〜20のパーフルオロアルキル基;Rf3は炭素数1〜40の含フッ素アルキレン基または炭素数1〜100でかつ炭素原子と酸素原子の合計が2以上のエーテル結合を有する含フッ素アルキレン基;aは0または1)で表わされるヒドロキシル基またはフルオロアルキルカルボニル基含有含フッ素エチレン性単量体、および該単量体構造単位を有する含フッ素重合体、さらにはフォトレジスト用組成物。
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ノルボルナンラクトン構造を有する重合性化合物及び重合体
【解決手段】次の一般式(1)
〔式中、R1 及びR2 のいずれか一方は、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基(tert−ブチル基を除く)を示し、他方は炭素数1〜4のアルキル基(tert−ブチル基を除く)を示し、R3 〜R9 は、1価の非重合性基を示し、Aは重合可能な炭素−炭素二重結合を有する基を示す。〕
で表わされる重合性化合物、これ単独又はこれと共重合可能な化合物とのポリマー及び該ポリマーを含むレジスト組成物。
【効果】波長の露光光源用のレジスト材料のベースポリマーとして有用である。
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4−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル
【課題】各種の樹脂の改質剤、架橋剤及び光学・電子材料などに用いられる低誘電率樹脂の原料として有用な4−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルの提供。
【解決手段】
で表される4−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル。
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アセトアセトキシ基を有するビニルエーテル化合物、その重合体及びそれらの製造方法
【課題】カチオン重合により重合可能で、キレート樹脂として有用な新規なアセトアセトキシ基含有ビニルエーテル化合物、その重合体又は共重合体の提供。
【解決手段】次の式(1)
で表される2−アセトアセトキシエチルビニルエーテル。
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ビニルエーテル誘導体ポリマー並びにその製造方法及び用途
【課題】2−メチル−5−エチル−5−ビニロキシメチル−1,3−ジオキサンホモポリマー及び1,1−ジメチロール−1−ビニロキシメチルプロパンホモポリマー並びにそれらの製造方法及び用途の提供。
【解決手段】式(I):
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ホトレジスト上層膜形成用材料
【課題】PFOS等のフッ素系界面活性剤を用いることなく、人体に対する悪影響がなく安全で、低屈折率、透明性、塗布均一性等に優れる上層反射防止膜の形成や、液浸露光法において浸露光用液体によるホトレジスト膜への影響を抑制し、かつホトレジスト膜からの溶出成分による液浸露光用液体自体に与える影響を抑制し得る保護膜の形成に、好適に適用されるホトレジスト上層膜形成用材料を提供する。
【解決手段】下記式(I)で示す構成単位を有するフッ素含有ポリマーを含む、基板上のホトレジスト層上に積層して用いるホトレジスト上層膜形成用材料。
〔式中、Qはカルボキシル基、水酸基;Aは炭素数1〜5のアルキレン基、あるいは存在しない;mは繰り返し単位;nは1〜5の整数。〕
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ポリアルキレングリコール系単量体とそれを含んでなるポリアルキレングリコール系重合体、及び、その用途
【課題】本発明は、衣料用及び身体用用途の洗浄剤ビルダー組成物、水処理剤、顔料分散剤等の各種工業用途に好適なポリアルキレングリコール鎖を有する単量体、該単量体を原料とするポリアルキレングリコール系重合体を提供するものである。
【解決手段】重合性二重結合とポリアルキレングリコール鎖とを有するポリアルキレングリコール系単量体であって、該ポリアルキレングリコール系単量体は、ポリアルキレングリコール鎖中及び/又は末端に疎水性部分を有し、重合性二重結合がアリルグリシジルエーテルに由来するものであるポリアルキレングリコール系単量体、及び、上記ポリアルキレングリコール系単量体に由来する単量体単位を有するポリアルキレングリコール系重合体であって、該ポリアルキレングリコール系重合体は、カルボン酸基及び/又はスルホン酸基を有するポリアルキレングリコール系重合体。
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位相差板
【課題】膜厚が薄い位相差板の提供を目的とする。
【解決手段】支持体上に、少なくとも一層の光学異方性層を有し、該光学異方性層が下記一般式(I)および(II)で表される化合物の少なくとも一種から形成される層であることを特徴とする位相差板。
【化1】
(一般式(I)および(II)中、A1、A2は、炭素原子または窒素原子を表し、X1は、酸素原子、硫黄原子、炭素原子または窒素原子を表し、R1、R2は、特定の置換基を表す。)
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反応硬化型樹脂およびその組成物
【課題】 本発明は、硬化性樹脂、および組成物、ならびにその硬化物に関し、特に加工時の作業性に優れ、熱伝導率を大きく高め、耐熱性、耐湿性、耐水性、ガスバリアー性に優れた硬化物を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)
下記一般式(1)
G−M1―P−M2−G ・・・(1)
(ただしGはグリシジル基、またはアリル基、M1、M2は同一または異なるメソゲン基、Pは珪素含有率が5重量%以上の鎖状有機基を示す)
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反応性紫外線吸収剤およびその製造方法
【課題】 樹脂などに耐候性を付与することができ、他の単量体との反応性が良好で、取り扱いが容易な反応性紫外線吸収剤および、重合物に耐候性を付与することのできる乳化重合用反応性乳化剤を提供すること。
【解決手段】 下記の一般式(1)
で表わされる反応性紫外線吸収剤およびその製造方法。
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