【課題】重合収縮および重合応力を軽減した歯科修復組成物を得るためのマクロ環状オリゴマーの製造方法を提供する。
【解決手段】修復歯科において使用される少なくとも１つの重合性基を有するフリーラジカル重合性マクロ環状オリゴマーを調製する方法であって、（ｉ）反応性でありかつフリーラジカル重合性の前駆物質の縮合基を活性化させる工程と、（ｉｉ）カーボネート、エステル、シロキサンまたはホスホネートの結合を与える、活性化させた反応性でありかつフリーラジカル重合性の前駆物質とカップリング剤との間の縮合によって、擬高希釈条件下においてフリーラジカル重合性マクロ環状オリゴマーを調製する工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れる重合性液晶化合物を提供すること。
【解決手段】ベンゾトリアゾール骨格またはトリアジン骨格を有し、かつ分子内水素結合部位を有する重合性液晶化合物。 （もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーファクターを有するレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂、レジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位及び酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す；Ｌ^１は、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^１−^＊、−ＣＯ−Ｏ−Ａ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^３−^＊、−Ｂ^１−^＊又は−Ｂ^２−ＣＯ−Ｏ−Ａ^４−^＊を表す；Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルカンジイル基、炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基、炭素数１〜８のアルカンジイル基と炭素数３〜１８の２価の脂環式炭化水素基とが組み合わさった基又はフェニレン基を表す；Ｂ^１及びＢ^２は、フェニレン基を表す；＊は−Ｏ−との結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】 少ない紫外線照射量で配向の制御が可能な液晶配向性を有し、任意のプレチルト角を得ることができ、光安定性に優れた液晶の配向層用組成物及び溶剤等により浸食されない当該組成物を用いた光配向可能な液晶配向層を提供し、更に、当該液晶配向層を用いた液晶表示素子及び光学補償フィルム等の光学異方体を提供する。
【解決手段】 (a)光化学的に異性化可能な部位を有するポリマーと、(b)光化学的に架橋可能な部位を有するポリマーとを含み、前記(a)及び(b)が異なった構造を有することを特徴とする液晶の配向層用組成物及び当該組成物を用いた液晶配向層を提供する。 （もっと読む）

【課題】左螺旋を誘起する新規な重合性キラル化合物、左螺旋性液晶性高分子、及び光学異方体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で示される左螺旋を誘起する重合性キラル化合物、該化合物を重合して得られる左螺旋性液晶性高分子、光学異方体。


〔式中、Ｙ^１〜Ｙ^３は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−等を表し、Ａ^１及びＡ^２は炭素数６〜２０の芳香族基を表し、Ｚ^１は炭素数２〜１０のアルケニル基等を表す。〕 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法でマイクロレンズを形成する際の下地膜をインクジェットで形成する際に、膜厚が薄くて均一な表面撥水性硬化膜を形成できる光硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】溶媒（Ａ）、光反応性官能基を２つ以上有している化合物（Ｂ）、界面活性剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を含有する光硬化性組成物であって、溶媒（Ａ）の含有量が４０〜９８重量％である光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物
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【課題】マスクエラーファクター（ＭＥＦ）に優れるレジストパターンが製造できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこの樹脂と酸発生剤とを含むレジスト組成物。
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【課題】パターン形成後の他のレジスト組成物からの影響を低減できるポジ型レジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、アミド基と、水酸基又はアミノ基と置換して脱離しうる保護基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−１）、第一級若しくは第二級の水酸基又は第一級若しくは第二級のアミノ基を含み、その構造中に環骨格を有さないアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ０−２）、及びアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分を含有する。 （もっと読む）