【課題】塗工紙の重要物性である、ピック強度・湿潤ピック強度・印刷光沢を全て向上させ、加えて耐湿潤ベタツキ性や機械的安定性にも優れて塗工紙生産工程における操業性に優れる共重合体ラテックスを提供する。
【解決手段】特定範囲の組成を有する単量体混合物を乳化重合して得られる共重合体ラテックスであって、前記の乳化重合はその重合温度に関し、降温を行う事を特徴とする製造方法で得られた共重合体ラテックス。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、多大なエネルギーを必要とせず製造が可能で、基板との密着性に優れ、且つ、基板との界面における凹凸が小さい金属膜を簡便な工程により形成しうる金属膜形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基板上に、側鎖にシアノ基を有するユニットを含むポリマーを塗布してプライマー層を形成するプライマー層形成工程と、（ｂ）該プライマー層表面に、無電解メッキ触媒またはその前駆体と相互作用する官能基及び重合性基を有するポリマーを塗布してポリマー層を形成するポリマー層形成工程と、（ｃ）該ポリマー層に無電解メッキ触媒またはその前駆体を付与する触媒付与工程と、（ｄ）無電解メッキを行い、ポリマー層上に金属膜を形成する金属膜形成工程と、を有する金属膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】基材密着性、モールド剥離性およびエッチング耐性に優れたパターンを形成可能なナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】シアノ基を有する重合性化合物（Ａｘ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、を含むことを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物およびこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

改善された重合および加工法は、優れた貯蔵安定性および特に良好な加硫速度につながり、さらに、水または加硫材料をベースとする成形品の含水媒体との接触に関して特に、有利な特性を有する加硫材料をもたらす、特異的なカチオン含有率で特徴づけられる特殊ニトリルゴムの製造を可能にする。 （もっと読む）

【課題】近年、アレルゲンの除去に対するニーズが高まってきており、アレルゲン除去材の開発が進められている。一方、従来からカルボキシル基および架橋構造を有するビニル系重合体粒子については検討が進められてきており、高吸放湿性やｐＨ緩衝性などの機能を発現させることができることなどが知られている。しかし、かかる重合体粒子について、アレルゲンを除去する機能があることは全く知られていなかった。本発明の目的はアレルゲン除去機能を有する粒子および該粒子を含有するアレルゲン除去用製品を提供することにある。
【解決手段】０．５〜１２ｍｍｏｌ／ｇのＨ型カルボキシル基および架橋構造を有するビニル系重合体からなるアレルゲン除去用粒子。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における、高解像性、高感度、パターン形成後の現像欠陥を低減させることで、歩留まりを向上させることが可能なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに（Ｃ）溶剤を含有するレジスト組成物において、（Ｃ）溶剤として（Ｃ１）プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート及び、（Ｃ２）プロピレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキル、酢酸エステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、鎖状ケトン及び、環状ケトンから選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とするレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ、ラインエッジラフネス性能が改良され、良好なプロファイルのパターンを形成するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、特定の一般式で表される酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の一般式で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、ナノ粒子を製造する方法および、前記方法により得ることができるナノ粒子に関する。本発明は、さらに、前記ナノ粒子を含む医薬組成物ならびに、医薬が１つまたはそれ以上の生理的バリアを横断することを要する疾患および状態の治療のための前記ナノ粒子の使用に関する。 （もっと読む）