【課題】核酸合成の固相合成用担体として有用な多孔質樹脂ビーズを提供すること。
【解決手段】第一の芳香族モノビニル化合物−ジビニル化合物−（メタ）アクリロニトリル−第二の芳香族モノビニル化合物系共重合体からなる多孔質樹脂ビーズであって、第二の芳香族モノビニル化合物が、脱水縮合反応によりカルボキシル基と結合し得る基を含有し、かつ乾燥体積が２〜３ｍＬ／ｇであることを特徴とする、多孔質樹脂ビーズ。 （もっと読む）

【課題】核酸合成の固相合成用担体として有用な多孔質樹脂ビーズを提供すること。
【解決手段】第一の芳香族モノビニル化合物−ジビニル化合物−（メタ）アクリロニトリル−第二の芳香族モノビニル化合物系共重合体からなる多孔質樹脂ビーズであって、第二の芳香族モノビニル化合物が、脱水縮合反応によりカルボキシル基と結合し得る基を含有し、かつ膨潤体積が３〜６ｍＬ／ｇであることを特徴とする、多孔質樹脂ビーズ。 （もっと読む）

【課題】低光沢性耐候性熱可塑性樹脂およびその製造方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸アルキルエステル系重合体（Ａ）および芳香族ビニル−シアン化ビニル系共重合体（Ｂ）を含み、前記（メタ）アクリル酸アルキルエステル系重合体（Ａ）はネットワーク状の分散相を形成し、前記芳香族ビニル−シアン化ビニル系共重合体（Ｂ）は連続相を形成する低光沢性耐候性熱可塑性樹脂である。 （もっと読む）

【課題】組み合わせ合成により巨大な磁気抵抗性コバルト化合物を製造する装置を提供する。
【解決手段】支持体上の予め定められた領域に成分を送り出し同時にその成分を反応させて少なくとも二つの材料を形成することによって異なった材料のアレイを製造した支持体を用いることによって組み合わせ合成を行う。これらの方法を利用して製造できる他の材料は、共有結合型網状構造固体、イオン固体及び分子固体である。例えば、無機材料、有機金属材料、金属間材料、セラミック有機ポリマー及び複合材料である。一旦製造されると、これらの材料は、磁気抵抗性のような有用な性質のためスクリーニングでき、有用な性質を有する新規の材料を並行して合成及び分解する。 （もっと読む）

【課題】 ポリウレタン用原料としてのポリマーポリオールであって、ポリウレタンの機械物性を著しく向上させ、しかもポリウレタン発泡機の吐出ヘッドが詰まりにくい等、ポリウレタン製造装置のメンテナンスを容易にして生産性を向上させるポリマーポリオールを提供する。
【解決手段】 重合体粒子（ＪＲ_n）を含有してなるポリマーポリオールの製造方法において、複数の重合工程を含んでなり、混合開始剤（Ｋ）が、３０〜１５０℃の１０時間半減期温度を有する２〜７種類のラジカル重合開始剤からなり、該半減期温度の最大値と最小値の差が２０〜８０℃であることを特徴とする、ポリマーポリオールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ノンクロムプロセスを含めたいずれのめっきプロセスを適用しても、めっき密着強度を高く、表面外観を良好にできる上に、成形品を薄肉化しても充分な耐衝撃性を確保できるめっき用熱可塑性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のめっき用熱可塑性樹脂組成物は、ゴム質重合体（ａ）の存在下にて、芳香族ビニル系単量体およびシアン化ビニル単量体をグラフト重合してなるグラフト共重合体（Ａ）と、芳香族ビニル単量体とシアン化ビニル単量体とを共重合してなる第１の硬質共重合体（Ｂ）と、芳香族ビニル単量体とシアン化ビニル単量体と不飽和カルボン酸化合物とを共重合してなり、不飽和カルボン酸化合物単位の含有量が０．５〜２０質量％である第２の硬質共重合体（Ｃ）とを含有し、第２の硬質共重合体（Ｃ）由来の不飽和カルボン酸化合物単位の含有量が０．１〜１．０質量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学的に透明であり、耐光性に優れ、吸水率が小さく、かつ紫外線硬化型樹脂との接着性に優れた光学部品用スチレン系熱可塑性樹脂および樹脂組成物を提供する。
【解決手段】飽和吸水率が０．６重量％以下であり、かつ飽和吸水時の寸法変化率が０．０７％以下であるスチレン系熱可塑性樹脂及びスチレン系熱可塑性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光学的に透明であり、耐光性に優れ、吸水率が小さく、かつ紫外線硬化型樹脂との接着性に優れたスチレン系熱可塑性樹脂および樹脂組成物からなる光学部品を提供する。
【解決手段】飽和吸水率が０．６重量％以下であり、かつ飽和吸水時の寸法変化率が０．０７％以下であるスチレン系熱可塑性樹脂及びスチレン系熱可塑性樹脂組成物からなる光学部品。 （もっと読む）

半導体デバイス及びＭＥＭＳデバイス製造時に用いられる新規なフォトレジストを提供する。プライマー層は好ましくは、溶媒系に溶解または分散したシランを含む。フォトレジスト層は、スチレンモノマー、アクリロニトリルモノマー、およびエポキシ含有モノマーから調製されたコポリマーを含む。フォトレジスト層は光酸発生剤を含み、好ましくはネガ型である。 （もっと読む）

【課題】 重合体ポリオール中に沈殿物が生じたり、重合体ポリオールの粘度を上昇させることなく、未反応のエチレン性不飽和化合物の含量が低減された重合体ポリオールを製造する。
【解決手段】 ポリオール（ａ）中で、重合開始剤（Ｂ）、分散剤（Ｃ）、および必要により有機溶媒（Ｄ）の存在下、エチレン性不飽和化合物（ｂ）を重合させてなるベース重合体ポリオール（Ａ）に、さらに（Ｂ）、（Ｃ）および必要により（Ｄ）を添加し、（Ａ）中に残存する（ｂ）を重合させることを特徴とする、重合体ポリオール（Ｉ）の製造方法。 （もっと読む）