基板、及び（ａ）波長２５０〜１，２００ｎｍの輻射線を吸収する、光開始剤及び増感剤／共開始剤系から選択された少なくとも１種の成分；（ｂ）トリイソシアネートを、（ｉ）２つの遊離ＯＨ基及び少なくとも１つの(メタ)アクリル基を有する少なくとも１種のアクリル又はメタクリルモノマーと、及び（ｉｉ）１つのＯＨ基、少なくとも１つの(メタ)アクリル基及び少なくとも１つのポリ(アルキレンオキシド)鎖を分子内に含む少なくとも１種の化合物と反応させることにより得ることができる、ＧＰＣによって測定して平均分子量が３，５００〜９，０００の少なくとも１種のラジカル重合性オリゴマーＡを含み、該(メタ)アクリルモノマー（ｉ）が、ＯＨ官能基を有する(メタ)アクリル化合物の総量を基準として、２〜２０モル％の量で存在する輻射線感受性塗膜を含んで成る輻射線感光性要素。 （もっと読む）

【課題】本発明は、弾性率が低く良好な接着性を示すとともに良好なブリード性を示す半導体用ダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料及び耐リフロー性等の信頼性に優れた半導体装置を提供すること。
【解決手段】半導体素子又は放熱部材を支持体に接着する樹脂組成物であって、一般式（１）で示される化合物（Ａ）、ラジカル重合開始剤（Ｂ）、充填材（Ｃ）及び（メタ）アクリロイル基を有する室温で液状の化合物（Ｄ）を含むことを特徴とする樹脂組成物及び該樹脂組成物を使用して作製した半導体装置。


Ｒ^１は、水素又はメチル基 （もっと読む）

【課題】側鎖に（メタ）アクリロイル基及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーにおいて、前記ビニル共重合体の含有量を規定することにより、タック性の良好な感光層が得られ、かつ、形状及び密着性が良好な永久パターンを形成可能な感光性組成物及びパターン形成材料、並びに前記パターン形成材料を用いたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）（ａ_１）エポキシアクリレート化合物の少なくとも１種、及び、（ａ_２）側鎖に（メタ）アクリロイル基及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーと、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、（Ｅ）有機溶剤とを含み、（Ａ）バインダーにおける（ａ_２）側鎖に（メタ）アクリロイル基及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種の含有量が、０質量％超５０質量％未満である感光性組成物等である。 （もっと読む）

【課題】光感度に優れ、得られた硬化物は、表面光沢、密着性、鉛筆硬度、柔軟性、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性、ＰＣＴ耐性、耐金メッキ性等に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子中に２個以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物（ａ）と分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有するモノカルボン酸化合物（ｂ）との反応物（Ｒ）に、下記式（１）で表される多塩基酸無水物（ｄ）を反応させて得られる不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂（Ａ）。
【化１】
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【課題】 作業時の臭気を充分に抑制することができるとともに、コバルト石鹸が樹脂組成物中で充分に分散されることに起因して、高外観を呈し、耐水性や耐熱水性等に優れる硬化物を与えることができるラジカル硬化性樹脂組成物及び該ラジカル硬化性樹脂組成物を用いた成形施工方法を提供する。
【解決手段】 分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するラジカル重合性オリゴマーと、（メタ）アクリロイル基を有する重合性単量体とを含むラジカル硬化性樹脂、及び、コバルト石鹸を含有するラジカル硬化性樹脂組成物であって、上記重合性単量体は、グリコールと（メタ）アクリル酸との脱水縮合により得られるジ（メタ）アクリレート化合物を含んでなり、上記グリコールは、下記一般式（１）；
ＨＯ−Ｒ−ＯＨ （１）
（式中、Ｒは、炭素数３以上で側鎖を有する飽和炭化水素である。）で表されるものであるラジカル硬化性樹脂組成物である。 （もっと読む）

硬化型ポリエステルなどの硬化型不飽和樹脂のペルオキシド開始硬化と関連して、三価有機リン化合物が三級芳香族アミン硬化促進剤と組み合わせて使用される。硬化は、末端二重結合を有するモノマーの存在または不在において行われる。このような組み合わせ物を使用することにより、硬化速度が改善された。 （もっと読む）

【課題】高感度で表面のタック性が少なく、現像性、保存安定性に優れ、フィルム化した際の剥離性に優れ、現像後は優れた耐熱性、耐薬品性、表面硬度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物、及び感光性フィルム、並びに、半導体分野における高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】含窒素へテロ環構造を少なくとも有するエポキシアクリレート化合物を少なくとも含む感光性組成物である。また、支持体と、該支持体上に前記感光性組成物が積層されてなる感光層とを少なくとも有してなる感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】 解像度および感度に優れたレジストパターンの形成方法、並びにそのパターンの形成方法に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 活性水素原子含有基を有する親水性ポリマー（Ａ）、多官能アクリレートモノマー（Ｂ）、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）、光酸発生剤（Ｄ）および架橋剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物を、基板上に塗布および乾燥し、選択的に露光した後、引き続き５０〜２００℃で加熱し、その後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 紫外線、電子線等の放射線によって硬化した場合に、低湿度環境下において持続性に優れた帯電防止効果を有したハードコート皮膜を形成するに適した放射線硬化型組成物を提供する。
【解決手段】 放射線硬化型組成物において、重合性オリゴマー、少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する重合性モノマー、４級アンモニウム塩基を有する導電性ポリマー、および０．０５質量％〜２．０質量％の水を含有する放射線硬化型組成物。 （もっと読む）

【課題】弾性率が低く良好な接着性を示す半導体用ダイアタッチペースト及び特に耐リフロー等の信頼性に優れた半導体装置を提供すること。
【解決手段】カルボキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物（Ａ）、以下の（Ｂ１）〜（Ｂ４）から選ばれる少なくとも１種の室温で液状の化合物（Ｂ）、熱ラジカル重合開始剤（Ｃ）、及び充填材（Ｄ）を含む樹脂組成物。
（メタ）アクリロイル基を有するウレタン化合物で脂肪族環を有する化合物（Ｂ１）。
（メタ）アクリロイル基を有するジエン系化合物の重合体又は共重合体（Ｂ２）。
（メタ）アクリロイル基を有するポリエステル化合物で脂肪族環を有する化合物（Ｂ３ ）。
（メタ）アクリロイル基を有するポリカーボネート化合物（Ｂ４）。 （もっと読む）