【課題】反射防止膜としての機能を有するとともにパターン転写性能及びエッチング選択性が良好なレジスト下層膜を形成することができ、かつデュアルダマシン工程におけるビアへの埋め込み性が良好なレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）又は（２）で表される構造単位を有する重合体を含有するレジスト下層膜用組成物を提供する。
【化１】


〔式（１）において、Ｒ¹は２価の有機の基を示す。〕
【化２】


〔式（２）において、Ｒ²、Ｒ³及びＡは相互に独立に２価の有機の基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 溶剤に対する溶解性に優れていて容易に薄膜を形成することができ、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として有用な新規なジフェニルメタン重合体およびその製造方法を提供すること、また、発光特性および耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること。
【解決手段】 ジフェニルメタン重合体は、特定の繰り返し単位よりなることを特徴とし、また、有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物は、上記ジフェニルメタン重合体よりなる重合体成分と三重項発光性金属錯体化合物よりなる錯体成分とを含有してなることを特徴とし、更に、有機エレクトロルミネッセンス素子は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物により形成された発光層を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】骨格の中に、内部エチレン性不飽和結合を含む新規なポリマーと、簡単に実施可能なそれらのポリマーの調製方法を提案する。
【解決手段】本発明は、エチレン性不飽和結合を含むユニットの連なりを含むポリマーに関し、その不飽和結合は、２つの連続したユニットの間で、３炭素原子ごとに存在している。本発明はさらに、そのようなポリマーを調製するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】高度に構造が制御された高品質なカルビン系炭素材料を、高収率で、安全かつ環境汚染を生じることなく、また高価な触媒などを必要とすることなく、工業的に製造しうる新しい方法を提供することを主な目的とする。
【解決手段】炭素材料の製造方法であって、一般式XC≡CX （１）
表されるアセチレン誘導体を、Mg、Zn、Alまたはこれらの金属を主成分とする合金を陽極とし、支持電解質単独或いは支持電解質と通電助剤の両者を溶解した非水系有機溶媒中において不活性ガス雰囲気下で行う電極還元反応に供することにより、一般式(-C≡C-)_n （２）
（式中、ｎは2〜1000000である）で示されるポリイン構造または、一般式（＝C＝C＝）_n （３）
（式中、ｎは2〜1000000である）で示されるキュムレン構造を主鎖骨格の一部または全部に有する炭素材料を形成させることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】高度に構造が制御された高品質なカルビン系炭素材料を、高収率で、安全かつ環境汚染を生じることなく、工業的に製造しうる新しい方法を提供することを主な目的とする。
【解決手段】炭素材料の製造方法であって、ポリオレフィン誘導体を、Mg、Zn、Alまたはそれらの金属を主成分とする合金を陽極とし、支持電解質単独或いは支持電解質と通電助剤の両者を溶解した非水系有機溶媒中において不活性ガス雰囲気下で行う電極還元反応に供することにより、一般式(-C≡C-)_n （２）
（式中、ｎは、2〜1000000である）で示されるポリイン構造または一般式(=C=C=)_n （３）
（式中、ｎは、2〜1000000である）で示されるキュムレン構造を主鎖骨格の一部または全部に有する炭素材料を形成させることを特徴とする方法。 （もっと読む）