【課題】不溶物の析出がなく均一であり、面状が良好な塗膜を形成できる膜形成用組成物、さらには電子デバイスなどに用いられる、誘電率、機械強度等の特性が良好であるとともに、面状および誘電率の特性が良好な絶縁膜を形成できる膜形成用組成物、該組成物により形成した絶縁膜、及び、該絶縁膜を有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物もしくはそれを重合させて得られる重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、該組成物により形成した絶縁膜、及び、該絶縁膜を有する電子デバイス。
【化１】


一般式（Ｉ）中、
Ｒはアセチレン性炭素三重結合を含む置換基を表わす。Ｘは置換基を表す。ｍは１〜８の整数である。ｎは０〜７の整数を表す。ｍとｎの和は１〜８である。Ｒ及びＸについて、それぞれ複数存在するときは、同じでも異なっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜形成用組成物に関し、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 脂環式炭化水素構造と、炭素、水素、酸素、窒素、ハロゲン原子から選ばれる原子により構成される化合物を含む膜形成用組成物であって，該脂環式炭化水素構造と、炭素、水素、酸素、窒素、ハロゲン原子から選ばれる原子により構成される化合物が、粒径２ｎｍ〜１５ｎｍの粒子形状であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイス。 （もっと読む）

ベース塗料と、会合性増粘剤と、着色化合物と、少なくとも0.1乾燥重量％のブロック共重合体ABCBA組成物とを含む水性ラテックス塗料組成物。このABCBA重合体において、Ａ成分は疎水性基Ａ、Ｂ成分は親水性ポリマー、そしてＣ成分は疎水性低分子量基Ｃである。このABCBA型の重合体は、アルキル基、アリール基、又はアルキルアリール基よりなる群から選択される分子部分を有するモノマーを含むＡ成分と、ポリ（エチレングリコール）を有するＢ成分と、ポリ（テトラヒドロフラン）、ポリ（カプロラクトン）、ポリ（カーボネート）、エチレングリコール、プロピレングリコール及び1,2-ドデカンジオールよりなるジオールの群から選択されるＣ成分とを含む。このブロック共重合体は、会合性増粘剤の存在下で粘度安定剤として機能する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理や処理液による処理といった処理を行うことなく、層間密着性に優れ、比誘電率の低い有機絶縁膜およびそれを製造する方法ならびにかかる絶縁膜の製造に用いられる絶縁膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】 以下の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を含有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物。該組成物を基板に塗布した後、加熱処理する工程を含むことを特徴とする絶縁膜の製造方法、ならびに、該製造方法により得られる絶縁膜。
成分（Ａ）：分子内に架橋性基を有する有機樹脂。
成分（Ｂ）：半導体基板（但し、該半導体基板に対する水の接触角が８０°以上である）に対する接触角が２０°以下の有機溶剤。 （もっと読む）

【課題】 膜形成組成物、特に、電子デバイスなどに用いられる低誘電率でかつ比誘電率の経時変化の少ない絶縁膜を形成することができる膜形成組成物、絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含む膜形成用組成物であって，組成物中の溶存酸化性ガスの含有率が該酸化性ガスの飽和濃度の１％以下であることを特徴とする膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜、および電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 膜形成組成物、特に、電子デバイスなどに用いられる低誘電率でかつ比誘電率の経時変化の少ない絶縁膜を形成することができる膜形成組成物、絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含み、１気圧で沸点が７０℃以上１１０℃以下の成分が１質量％以下であることを特徴とする膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜、および電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 膜形成組成物、特に、電子デバイスなどに用いられる低誘電率でかつ比誘電率の経時変化の少ない絶縁膜を形成することができる膜形成組成物、絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含み，比誘電率３０以上の成分が１質量％以下であることを特徴とする膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜、および電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 硬化物が高温条件下で使用されても弾性シール材としての機能を損なわず、かつ、このシール材層を光硬化性の組成物により形成することを目的とする。
【解決手段】
（Ａ）下記一般式（ａ）で示される分子量５００〜５０，０００のポリイソブチレン系化合物１００重量部と、（Ｂ）（メタ）アクリレート基を有する水添ポリブタジエン系化合物２０〜６０重量部と、（Ｃ）光ラジカル重合開始剤の、上記（Ａ）〜（Ｃ）を主成分とする放射線硬化性組成物とした。
【化６】
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