【課題】 耐水性、耐熱性に優れ、さらに粘度放置安定性に優れた架橋性水性分散液およびその製造方法、並びに接着剤およびコーテイング剤を提供する。
【解決手段】 （Ａ）エチレン性不飽和単量体およびジエン系不飽和単量体から選ばれる少なくとも一種の単量体単位を主成分としカルボキシル基を有する不飽和単量体、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミドおよびアセトアセトキシエチル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種の架橋性不飽和単量体単位を０．１〜１０重量％および多官能エチレン性不飽和単量体単位を０．０１〜２重量％含有する重合体微粒子、（Ｂ）エチレン単位を１〜１０モル％とカルボキシル基を有する単量体単位０．１〜５モル％とを含有するビニルアルコール系重合体、（Ｃ）架橋剤からなる架橋性水性分散液とその製造方法によって解決する。 （もっと読む）

【課題】誘電率、機械強度、耐熱性等の膜特性が良好な膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】ダイヤモンド微粒子と熱硬化性材料とを含むことを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成された絶縁膜およびそれを有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】低誘電率性を損なうことなくリーク電流やブレークダウン電圧のような絶縁特性に優れ、機械強度、耐熱性等の膜特性も良好な絶縁膜形成用組成物の製造方法を提供すること。また、当該製造方法より製造される絶縁膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜および該絶縁膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】ポリエチレンもしくはナイロンを材質とするフィルターにより濾過を行う濾過工程を少なくとも有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物の製造方法、該製造方法により製造された絶縁膜形成用組成物、絶縁膜および電子デバイス。 （もっと読む）

【解決手段】 結晶性層状高分子を硬質系の上塗材に添加することにより下地と上塗材の伸び挙動のバランスにより、施工後に経時的に上塗材の表面に細かい割れ等の塗膜欠陥が生じることのない塗料組成物を提供する。
【効果】結晶性層状高分子がジエンカルボン酸のアンモニウム塩を重合して得られる結晶性層状高分子または／および該高分子を酸処理して得られる少なくとも１つ以上のカルボキシル基を含む結晶性層状高分子であり、アクリルエマルション樹脂をベースとする塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は膜形成用組成物に関し、さらに詳しくは電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度、耐熱性等の膜特性が良好な組成物に関し、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜、およびそれを有する電子デバイスに関する。
【解決手段】カゴ型構造を有する化合物及び酸化防止剤を含有することを特徴とする膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、およびそれを有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】高周波帯での良好な誘電特性と低伝送損失性を有し、難燃性と鉛フリーはんだ対応条件下での高耐熱性、低熱膨張特性、高い金属箔引き剥がし強さ等の優れた積層板特性の両方を満足させるプリント配線板を製造可能な樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明は、 セミＩＰＮ型複合体を含む樹脂組成物であって、（Ａ）ポリフェニレンエーテルと、（Ｂ）側鎖に１，２−ビニル基を有する１，２−ブタジエン単位を分子中に４０％以上含有する化学変性されていないブタジエンポリマー及び（Ｃ）架橋剤から形成されたプレポリマーとが相容化した未硬化のセミＩＰＮ型複合体、並びに（Ｄ）５％質量減少温度が３００℃以上であり、かつ前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び未硬化のセミＩＰＮ型複合体との反応性を有しない臭素系難燃剤を、含有する樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂ワニス、プリプレグ及び、金属張積層板に関する。 （もっと読む）

【課題】形成される膜が均一であり、不純物の析出がなく、低い誘電率、高い金属拡散バリア性が得られるため、電子デバイスになどにおける層間絶縁膜として適している膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】該組成物の酸含有量が酢酸換算もしくは塩酸換算で１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする膜形成用組成物、該膜、およびそれを有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】耐酸性、耐水性および耐光性を付与し、塗膜表面からの抗菌性薬剤の徐放性を制御できる、環境負荷の低減を目的とした塗料、および、これにに使用できる新規な抗菌性有機ポリマー材料を提供する。
【解決手段】本発明によるキトサン複合有機ポリマー材料は、ジエンカルボン酸モノマーのアンモニウム塩を重合して得られる層状の結晶性有機ポリマーの層間にキトサンをインターカレートしたことにより得られる。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜、さらには該絶縁膜の形成に用いる膜形成用組成物および該絶縁膜を有する電子デバイス等を提供する。
【解決手段】カゴ型構造を有する化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物を用いて形成され、ガラス転移温度が３００℃以上であることを特徴とする絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス、カゴ型構造を有するモノマーの重合体でありガラス転移温度が２００℃以上であることを特徴とする化合物、該化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて形成したガラス転移温度が３００℃以上である絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好であるとともに、経時保存後も良好な膜を提供できる膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスに関する。
【解決手段】カゴ型構造を有する化合物を含有する膜形成用組成物であって、該組成物から塗布成膜によって得られる膜のハロゲン含量が１００×１０¹⁰ａｔｏｍ／ｃｍ²以下であることを特徴とする膜形成用組成物、さらには該組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスに関する。 （もっと読む）