本発明は、少なくとも１つのイソシアネート基を有すると共に、１つ以上のエチレン性不飽和モノマーから誘導される少なくとも２つの繰返し単位を含む少なくとも１種のオリゴマーのカルボジイミド化反応から誘導される、カルボジイミド化合物またはカルボジイミド化合物混合物に関する。 （もっと読む）

【課題】 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法に関する。
【解決手段】 本発明の表面疎水化用組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｂ）沸点が５０〜３５０℃である溶媒とを含む。
Ｓｉ（Ｒ^１）_２（Ｒ^２）_２ ・・・・（１）
（式中、Ｒ^１はアシルオキシ基、アルコキシ基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ^２はアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法に関する。
【解決手段】 本発明の表面疎水化用組成物は、（Ａ）官能基を有するシラン化合物と、（Ｂ）ケトン系溶媒とを含む。 （もっと読む）

【課題】高温でのシロキサン膜の耐久性、耐熱性を確保し、撥水撥油性を持たせた耐熱性基体を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともシロキサン結合を有する膜と、この膜が表面上に形成された熱膨張係数が５×１０^−６／Ｋ以下の膜２と、この熱膨張係数が５×１０^−６／Ｋ以下の膜を形成した基板１とを備えたものである。これにより、基板１とシロキサン膜との間に熱膨張係数５×１０^−６／Ｋ以下の膜２があることで、高温時のシロキサン膜に蓄積される内部応力を小さくし、シロキサン膜の耐久性、耐熱性を確保し、安定した撥水撥油性を持たせることができる。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング／アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 マロン酸ビス（トリメチルシリル）、１，２−ビス（トリメチルシロキシ）エタン、テトラキス(トリメチルシロキシ)チタニウムなどのシラン化合物と有機溶媒とからなる組成物。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられる絶縁層の表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 １，１，３，３−テトラメトキシジシラシクロブタン、ビス(ジメチルメトキシシリル)メタン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどのシラン化合物と有機溶媒とからなる組成物。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ａ）：リン原子と窒素原子との両方を含有する化合物よりなる群の中から選択されたガス発生剤又はリン含有化合物と窒素含有化合物との混合物からなるガス発生剤と、
（Ｂ）：（ｉ）式（１）
（Ｒ¹）_a（ＯＲ²）_bＳｉＯ_(4-a-b)/2 （１）
（Ｒ¹はアルキル基、Ｒ²はアルキル基、ａは０．７５〜１．５、ｂは０．２〜３、０．９＜ａ＋ｂ≦４）
で示される有機ケイ素化合物と、
（ｉｉ）式（２）
Ｒ³Ｒ⁴ＮＲ⁵−ＳｉＲ⁶_n（ＯＲ²）_3-n （２）
（Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、アルキル基又はアミノアルキル基、Ｒ⁵は２価炭化水素基、Ｒ⁶はアルキル基、ｎは０又は１）
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物と
を有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
からなる難燃性添加剤。
【効果】 本発明の難燃性添加剤は、熱可塑性樹脂などに使用した場合に、優れた耐吸湿性、分散性を有するものである。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング／アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 環状シランモノマーと有機溶剤とからなる組成物。 （もっと読む）

【課題】その後の加工プロセスとの整合性を有し、かつ、表面のダメージをより簡便にかつ効率良く修復する事ができる表面疎水化法、ならびに表面のダメージの修復に使用可能な表面疎水化用組成物、及び前記表面疎水化方法によって、表面疎水化処理が施された層を含む半導体装置及びその製造方法、を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜２０をエッチングして形成された凹部２２の内壁２２ａの表面に、（Ａ）官能基を有するシラン化合物と、（Ｂ）有機溶媒と、（Ｃ）安定化剤とを含む膜を形成し、前記膜中に含まれるシラン化合物と、前記凹部内壁表面にエッチングで生成されたシラノール基を反応させることによって、前記凹部内壁表面に疎水性膜２４を形成した後、凹部内に導電性膜２６を充填する。 （もっと読む）

セメント系材料における撥水性を向上させる典型的な組成物は、グリコールエーテル溶媒に溶解している疎水性材料である溶質を含んで成る。従って、その組成物を非水性溶液または水が不連続相であるエマルジョンの形態で提供する。また、そのような組成物をセメント系組成物の変性で用いることおよびそれによって得られるセメント系材料も記述する。 （もっと読む）