【課題】 帯電を確実に防止でき、配線等の腐食を起こすこともない、歩留まりよく電気・電子部品の製造が可能となる洗浄剤。
【解決手段】 （１）炭化水素系溶剤が９３〜１００質量％、オクタノール等の（２）炭化水素系溶剤以外の有機溶剤が０〜７質量％、及びテトラオクチルアンモニウム・２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−（トリフルオロメタンスルフォニル）アセタミド等の（３）下記一般式（Ｉ）
【化１】


｛上記式中、ＺはＮ又はＰ、Ｒ^１〜Ｒ^４は炭素数４〜２０の置換されていてもよい炭化水素基を示し、該Ｒ^１〜Ｒ^４のうち最も炭素数の多い基と、最も少ない基との炭素数の比は２以下であり、Ｘ⁻は下記式（II）
【化２】


（上記式中、Ａ^１、Ａ^２はフルオロアシル基等を示す）で示されるアニオンを示す。｝で示される有機オニウム塩が（１）と（２）の合計１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部を主成分とする洗浄剤。
（もっと読む）

【課題】 より長期間、防黴及び鮮度保持効果を持続可能な食品洗浄剤の提供。
【解決手段】 イソチアン酸エステル類のサイクロデキストリン包接化合物と貝殻焼成カルシウム含有成分とを含むことを特徴とする食品洗浄剤。 （もっと読む）

本発明は、半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物に関する。これらの組成物は、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置の部品の洗浄に際し、微量の金属などによる汚染に対しても、洗浄の終点を把握し、確実な洗浄を行なうことが可能な洗浄技術を提供する。
【解決手段】 洗浄装置１００では、金属等により汚染された部品３を洗浄槽１内の洗浄液２に一定時間浸漬しながら、循環ポンプ７の作用により取水管４から洗浄液２を連続的に採取し、セル６内を通過させ、再導入管５を通じて循環させる。この過程で、セル６内を通過する洗浄液２には、光源８から光が照射され、分光器１１および光量センサー９によって洗浄液２中の特定金属と発色試薬との金属−試薬複合体（錯体など）の存在が検知される。 （もっと読む）

【課題】
添加剤を含む洗浄液で電子部品を洗浄した後、該電子部品表面に付着している添加剤を、電子部品表面を酸化させることなく除去し、添加剤による汚染が低減された良好な表面を実現するための新規な後洗浄液及び該洗浄液を用いた洗浄方法の提供。
【解決手段】
水溶性アルコール系溶媒及び／又は水溶性の酸化イオウ含有溶媒、フッ素化合物及び水を含有することを特徴とする電子部品用の後洗浄液及び該洗浄液を用いた電子部品の洗浄方法。 （もっと読む）

特定の有機溶媒及びフッ素ソースを含む組成物は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去できる。 （もっと読む）

【課題】基材から残留物を除去できる組成物及び方法の提供。
【解決手段】約２０％〜約８０％の有機極性溶剤、約１０重量％〜約６０重量％の水、約１重量％〜約１０重量％の第四級アンモニウム化合物、場合により約０．１重量％〜約５重量％のヒドロキシルアミン、また場合により約０．１重量％〜約１０重量％のフッ化物イオン源、及び、メルカプト含有腐食抑制剤を含む組成物。金属腐食抑制剤はメルカプトベンズオキサゾール等の特定のメルカプト基含有複素環化合物、−ＯＨ，−ＣＯＯＨ，−ＮＨ_２等を有する特定のアルキルメルカプタン，２−メルカプトチアゾリン，３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン及びその混合物から選ばれる。 （もっと読む）

本発明は、布地の洗濯又は処置の用途に用いるための補助組成物であって、（ｉ）粘土と、（ｉｉ）乳化形態のシリコーンとの混合体を含んでなる、補助組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、布地の洗濯又は処置の用途に用いるための微粒子形態の補助組成物に関し、該補助組成物が、（ｉ）粘土と、（ｉｉ）シリコーンと、（ｉｉｉ）所望により、帯電ポリマー布地柔軟増強成分と、（ｉｖ）所望により、１つ以上の補助剤成分との共同微粒子混合体を含み、ここで該補助組成物が０．５〜２１の流動性指数（ＦＩ）を有し、ＦＩ＝Ｐ×Ｒであり、式中、Ｐはマイクロメートルで表される該粘土の重量平均１次粒径であり、Ｒはシリコーン対粘土の重量比である。 （もっと読む）

基板、特に半導体基板の表面荒れを起こすことなく、また、基板表面に施された金属配線、特に銅配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面に存在する微細粒子（パーティクル）や各種金属由来の不純物（金属不純物）を有効に除去し得、更には、金属腐食防止剤-Cu皮膜、特にCu-BTA皮膜を除去することなく、基板表面に存在するカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る、基板用洗浄剤及び洗浄方法の提供
本発明は、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸、〔II〕錯化剤及び〔III〕(1)１価アルコール類、(2)アルコキシアルコール類、(3)グリコール類、(4)グリコールエーテル類、(5)ケトン類及び(6)ニトリル類からなる群より選ばれる有機溶媒とを含んでなる基板用洗浄剤、並びに当該洗浄剤で基板表面を処理することを特徴とする、基板表面の洗浄方法を提供する。 （もっと読む）