国際特許分類[C11D7/60]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく (22,504) | 洗浄性組成物;単一物質の洗浄剤としての使用;石けんまたは石けん製造;樹脂石けん;グリセリンの回収 (20,192) | 本質的に非表面活性化合物を基とする洗浄剤組成物 (3,242) | 非表面活性化合物の混合物 (65)
国際特許分類[C11D7/60]に分類される特許
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香りを放出することができる親油性流体洗浄組成物
本発明は、親油性流体布地処置システムにおいて使用される香料組成物を含む組成物及び/またはシステム、並びにその製造法及び使用方法に関する。そのような組成物は、香料/布地直接性を提供する。 (もっと読む)
漂白剤組成物及び漂白洗浄剤組成物
【構成】 (a) 過炭酸ナトリウムを 0.1〜99重量%、特定の有機過酸生成率を有する漂白活性化剤を 0.1〜95重量%及び(c) 界面活性剤を10重量%未満の割合で含有する粉末又は粒状の漂白剤組成物、及び上記(a) 成分を 0.1〜60重量%、(b) 成分を0.1 〜50重量%及び(c) 成分を10〜60重量%(但し、(c) 成分中の非イオン界面活性剤の比率が全界面活性剤中50重量%以下である。)の割合で含有する粉末又は粒状の漂白洗浄剤組成物。
【効果】 漂白性能に優れ、且つ色・柄物の繊維製品に使用しても褪色を起こさない。
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表面処理方法及び処理剤
【構成】半導体の表面を無機又は有機のアルカリ、過酸化水素及び水を主たる構成成分とする半導体表面処理剤で洗浄する工程と、洗浄後これを超純水でリンスする工程とから成る半導体表面処理方法であって、半導体表面処理剤とリンス用超純水の少くとも何れか一方に、分子中にホスホン酸基又はその塩を1以上有するキレ−ト剤又はそれらの酸化体、又は縮合リン酸又はその塩(以下、これらを総称して、単に「本発明に係る錯化剤」と略記する。)を存在させて該処理を行う方法、及び処理用薬剤。
【効果】本発明に係る錯化剤を半導体表面処理工程に於ける処理剤又はリンス液中に有機物汚染の害を及ぼさない程度の微量添加することにより、再結合ライフタイム低下とか酸化膜対圧低下等の電気的特性上の問題を起こさない表面不純物濃度まで、有害不純物の吸着を抑制することができ、また有害不純物に対する洗浄能力を向上させることが出来る。
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漂白剤及び漂白洗浄剤組成物
ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤および該洗浄剤を用いてなるロジン系ハンダフラックスの洗浄方法
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