説明

国際特許分類[C23F4/04]の内容

国際特許分類[C23F4/04]に分類される特許

1 - 5 / 5


【課題】各種の用途に用いられるAlまたはAl合金材の表面に、AlN層を低コストで形成する方法を提供する。
【解決手段】AlまたはAl合金材の表面を、BHF溶液を用いて5〜15分間処理した後、真空容器内でAlまたはAl合金材の温度600℃以上660℃未満で、3〜30分間のサーマルクリーニング処理をすることにより表面酸化物を除去し、その後、前記真空容器内に、好ましくは660〜750℃に加熱したアンモニアガスを導入して、前記表面酸化物を除去したAlまたはAl合金材を温度600℃以上660℃未満で、1〜10時間の窒化処理を行う。 (もっと読む)


【課題】ワークに対して効率よくエッチング加工を行うことができ、かつ小型で安価なプラズマ処理装置、および、効率よくエッチング加工を行うことができるプラズマ処理方法を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置1は、大気圧(常圧)プラズマを用いたプラズマ処理装置であって、処理チャンバー2と、処理チャンバー2内に設けられ、基板(ワーク)10を支持する支持手段3と、火炎F中に処理ガスを導入することにより処理ガス(エッチングガス)をプラズマ化し、このプラズマを基板10に向けて供給するプラズマ供給手段4と、処理チャンバー2内を排気する排気手段5とを有する。このプラズマ処理装置1では、基板10に向けて供給されたプラズマ中の活性化原子(ラジカル)と基板10とが反応し、この反応物を基板10から脱離させることにより、基板10に対してエッチング加工を施すことができる。 (もっと読む)


【課題】微細な金メッキ剥離加工を効率よくかつ高精度に行う。
【解決手段】出射ユニット16は、YAGレーザ発振器より光ファイバ18を介して受け取ったYAG第2高調波のレーザ光SHGをユニット内の光学レンズに通して先端の出射口より出射し、各コンタクトWに設定された剥離領域HE内に扁平度の高い楕円状ビームスポットSPSHGで集光照射する。剥離領域HEにおいては、楕円状ビームスポットSPSHG付近で金メッキ層12がレーザエネルギーにより一瞬に蒸発して除去される。剥離領域HE内の金メッキ層12をほぼ隈なく除去するために、YAG第2高調波レーザ光SHGと加工対象のコンタクトWとの間で楕円状ビームスポットSPSHGの長軸方向に対して所望の角度をなす方向に相対移動(走査)が行われる。 (もっと読む)


【課題】誘電体セラミックの表面に形成された導体膜の一部をレーザ加工して除去することにより誘電体セラミックが変質・劣化して低下した特性を、導体膜の酸化や導体膜材料の誘電体セラミックへの拡散などを引き起こすことなく回復させて、所望の特性を備えたセラミック電子部品を効率よく製造できるようにする。
【解決手段】誘電体セラミック(誘電体ブロック)1の表面に形成された導体膜(内導体4の一部領域4a)(場合によっては内導体4および/または外導体3の一部)をレーザ加工により除去した後、
酸素濃度:1.0×10-15ppm〜1.0×102ppm、
熱処理のピーク温度:導体膜に用いられる導電性材料の融点をA(K)とした場合において0.51A(K)〜0.85A(K)の範囲の温度条件
で熱処理を行い、レーザ加工することによって誘電体セラミック(誘電体ブロック)1が還元されることにより低下した誘電体セラミックの特性を回復させる。 (もっと読む)


【課題】金型の微細加工方法に関し、例えば回折格子等の光学素子を成形する金型加工に適用して、極めて精度の高い金型を短期間で作成できるようにする。
【解決手段】非磁性材料でなる基材20A表面に、電子ビーム露光法により露光後、エッチングし、この基材20Aを直接金型に加工する。 (もっと読む)


1 - 5 / 5