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国際特許分類[C25D5/50]の内容

国際特許分類[C25D5/50]に分類される特許

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【課題】被覆ゴムとの接着性に優れるとともに伸線性にも優れたスチールワイヤ材を提供することを目的とする。
【解決手段】スチールワイヤ材10のワイヤ本体11の周面に形成されたブラスめっき層12を、多層めっき構造とするとともに、ワイヤ本体11側の合金層21〜28(第1層〜第8層)を、加工性(伸線性)が良好である高Cu層(Cu組成比;65〜75wt%)とし、表面側の合金層31〜34(第9層〜第12層)を、接着耐久性が良好である低Cu層(Cu組成比;50〜60wt%)とした。 (もっと読む)


【課題】硫化に対する耐性が強く、かつ、単純な手法で得られる軟質合金めっき皮膜が形成されためっき部材を提供する。
【解決手段】本発明のめっき部材は、基材に銀めっきとインジウムめっきとを施し、熱拡散によってインジウムを銀中に拡散させることによって形成することができる。インジウムの膜中における含有率は、重量%で0.1%以上60%未満が望ましい。硬度の調整のために、銅、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、錫、アンチモン、金、又は、ビスマスから選ばれる1種以上の金属を、膜中の含有率(重量%)で1%以下加えることができる。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンとめっきベースとの密着性を良好にでき、めっきパターンの断面形状を正確に形成できるめっき方法および磁極形成方法を提供する。
【解決手段】めっきベース11上に、分子接着剤であるアルコキシシリルプロピルアミノトリアジンジチオールを溶剤に溶解した溶液を塗布した後、溶剤を揮発させて分子接着剤層15を形成する工程と、分子接着剤層15を介してめっきベース11上にレジスト30を塗布し、レジスト30を所定のパターンに露光現像してめっきベース11の一部を露出させる工程と、めっきベース11の露出部上に分子接着剤層15を介してめっきする工程とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低挿入力性と接続信頼性を両立したコネクタ用金属材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】銅または銅合金により形成された条材または角線材を母材1とし、母材1の表面にスズ層またはスズ合金層2が形成されているコネクタ用金属材料において、前記スズ層またはスズ合金層2の厚さが前記金属材料の幅方向にストライプ状に変化しており、少なくともスズ層またはスズ合金層2の厚さが薄い領域の下層に銅スズ合金層3が形成されているコネクタ用金属材料。銅または銅合金の条材または角線材を母材1とし、母材1上にスズめっき層またはスズ合金めっき層2を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料の長手方向にストライプ状のリフロー処理を行い、銅スズ合金層3を形成して前記スズめっき層またはスズ合金めっき層2の厚さを薄くするコネクタ用金属材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低挿入力性と接続信頼性を両立したコネクタ用金属材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】銅または銅合金により形成された条材または角線材を母材とするコネクタ用金属材料において、前記金属材料の表面の一部には、前記金属材料の長手方向にストライプ状に銅スズ合金層が形成され、前記金属材料の表面の残部にはスズ層またはスズ合金層が形成されているコネクタ用金属材料。また、銅または銅合金の条材または角線材を母材とし、この母材上にスズめっき層またはスズ合金めっき層を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料の長手方向にストライプ状のリフロー処理を行い、銅スズ合金を表面の一部に露出させるコネクタ用金属材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】スズめっき角線材料のリフロー時にスズが中央に偏肉することを防止し、良好な半田付け性と低い挿入力すなわち低い摩擦係数を両立した、コネクタ用めっき角線材料を提供することを目的とする。
【解決手段】角線材料に少なくともスズまたはスズ合金めっきが施された後、リフロー処理された、電気・電子部品のコネクタに使用される導電性を持つコネクタ用めっき角線材料であって、前記角線材料の各面に長手方向に設けられた少なくとも1本の溝を有し、該溝の幅および深さがともに前記角線材料に施す全めっきの厚さに対して10〜100倍の大きさであるコネクタ用めっき角線材料。 (もっと読む)


【課題】銅を主成分とする部材の被覆表面の組成を工夫してウィスカの発生を防止できるようにすると共に、高信頼度のフレキシブル配線接続用の端子部品等を構成できるようにする。
【解決手段】銅を主成分とする端子母材1と、端子母材1に電解めっきされたAg組成濃度3乃至7wt%、Cu組成濃度0.3乃至0.7wt%及び残Sn組成のSn−Ag−Cu合金のめっき皮膜3とを備え、めっき皮膜3は、所定の熱処理によって当該めっき皮膜3の表面に析出されたAg又は当該Agを主成分とする化合物を有するものである。この構成によって、FPCコネクタ端子10の表面に析出されるAg又はAgを主成分とする化合物が、例えば、当該FPCコネクタ端子10の全面積の2%以上を占有するものである。従って、Ag又は当該Agを主成分とする化合物がバリアとなってウィスカの発生を防止できるようになる。 (もっと読む)


【課題】耐食性、意匠性、低電気抵抗等のNiめっき鋼材の特徴を損なうことなく、めっきピンホールに起因した鉄錆の発生を効果的に抑制した高耐食性めっき鋼材および製造方法の提供する。
【解決手段】Mnめっき、Niめっき、熱拡散処理の組み合わせにより、鋼母材上にFe−Mn拡散層またはFe−Mn−Ni拡散層を有し、表層にNi層を有する高耐食性めっき鋼材、あるいは、鋼母材上にFe−Mn拡散層またはFe−Mn−Ni拡散層を有し、表層にMn−Ni拡散層またはFe−Mn−Ni拡散層を有する高耐食性めっき鋼材などを製造する方法及びめっき鋼材。 (もっと読む)


【課題】はんだ性及び接触信頼性を損なうことなく、ウイスカの生成及び成長を抑制する熱処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】めっき層形成時の電着組織内に生じた、ウイスカの発生起因である組織の歪や欠陥を熱処理によって取り除くことでウイスカの抑制を図る。これら歪や欠陥は結晶組織の平面的或いは空間的秩序の乱れであり、原子を秩序正しく再配列することで取り除くことができる。本発明の熱処理は、めっき材の融点付近の温度をピークに持つことで、リフロー処理同等のウイスカ抑制効果を奏すると共に、融点と同じ温度に保持される時間が、めっき材の融解開始時間よりも短い時間であるので、めっき層の溶融を伴わず表面平滑性を保持することができる。更に熱源に遠赤外線を使用することで、内部からの加熱を伴うので本発明の目的が一層効果的に達成される。 (もっと読む)


【課題】耐スマッジ性に優れる錫めっき鋼板を提供する。
【解決手段】表面の粗さ曲面の算術平均面に対して、算術平均粗さ(Ra)の2倍以上の高さの凸部分の、ナノインデンテーション法で測定した硬さが2GPa以上であることを特徴とする錫めっき鋼板。 (もっと読む)


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