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国際特許分類[C25D5/50]の内容

国際特許分類[C25D5/50]に分類される特許

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【課題】表面の曇りがなく、高温環境に放置された後の接触抵抗値上昇抑制及び変色抑制が図れ、耐熱性及びはんだ濡れ性に優れたSn被覆銅又は銅合金、及び効率のよいSn被覆銅又は銅合金の製造方法の提供。
【解決手段】最表面に存在する酸素原子(O)の存在形態をESCA(X線光電子分光装置)で分析した際に、酸素原子(O)の1s軌道の結合エネルギーのピークのトップが531eV以上532eV以下にあり、Sn層の厚みが0.4μm以上2.0μm以下であるSn被覆銅又は銅合金とする。 (もっと読む)


【課題】安定した接触抵抗を有するとともに、剥離し難く、また、コネクタとして用いる場合に挿抜力を小さくかつ安定させることができる導電部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Cu系基材1の表面に、Fe系下地層2を介して、Ni系薄膜層3、Cu−Sn金属間化合物層4、Sn系表面層5がこの順に形成されるとともに、Cu−Sn金属間化合物層4はさらに、Ni系薄膜層3の上に配置されるCuSn層6と、CuSn層6の上に配置されるCuSn層7とからなり、これらCuSn層6及びCuSn合金層7を合わせたCu−Sn金属間化合物層4の凹部8の厚さXを0.05〜1.5μmとする。 (もっと読む)


【課題】鉛を含まないスズ合金電気めっき組成物および方法を提供する。
【解決手段】基体上にスズ合金を堆積するための電解質組成物が開示される。電解質組成物はスズイオン、一種以上の合金形成金属のイオン、フラボン化合物およびジヒドロキシビス−スルフィドを含む。電解質組成物は鉛およびシアン化物を含まない。基体上にスズ合金を堆積する方法および半導体素子上に相互接続バンプを形成する方法も開示される。 (もっと読む)


【課題】安定した接触抵抗を有するとともに、剥離し難く、また、コネクタとして用いる場合に挿抜力を小さくする。
【解決手段】Cu系基材1の表面に、Ni系下地層2を介して、Cu−Sn金属間化合物層3、Sn系表面層4がこの順に形成されるとともに、Cu−Sn金属間化合物層3はさらに、Ni系下地層2の上に配置されるCuSn層5と、CuSn層5の上に配置されるCuSn層6とからなり、これらCuSn層5及びCuSn合金層6を合わせたCu−Sn金属間化合物層3の凹部7の厚さXが0.05〜1.5μmとされ、かつ、Ni系下地層2に対するCuSn層5の面積被覆率が60%以上である。 (もっと読む)


【課題】取扱いが比較的容易な無機酸浴を用いて、効率良くめっき層を形成することが可能なめっき付銅条材の製造方法を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金からなる銅条材を連続的に走行させながら、その表面に多層に金属めっき層を形成した後、リフロー処理するめっき付銅条材の製造方法であって、各金属めっき層を、無機酸を主成分とするめっき液からなるめっき浴内に、不溶性アノードと銅条材とを浸漬し、レイノルズ数が1×10〜5×10となるように、銅条材及びめっき浴内のめっき液を相対移動させながら通電するとともに、電流密度を5〜60A/dmの範囲内とした電解めっきにより形成する。 (もっと読む)


【課題】 プリント基板のスルーホールに挿入されリフロー半田付け工程を経て実装されるプリント配線基板端子の素材として好適なへたり性をもつ銅又は銅合金(以下「銅合金」)すずめっき材。
【解決手段】 平均結晶粒径が1.5〜6.0μmである銅合金の表面にCu相0〜2.0μm、Cu−Sn合金相0.1〜1.5μm及びSn相0.1〜1.5μmの各めっき相がこの順に形成されているSnめっき材であって、銅合金の結晶粒径DXと銅合金直上のめっき相の結晶粒径DYとの間に、(DX−DY)≧1(単位:μm)が成り立つ、プリント基板端子用に好適なへたり性をもつ銅合金すずめっき材であり、銅合金直上のめっき相中のC及びS濃度は合計0.02〜0.2質量%であってもよく、銅合金は2〜22質量%のZnを含有してもよい。 (もっと読む)


【課題】先行材と後行材を接続してリフロー処理する際の加熱過不足の発生を最小限にする連続錫めっき設備のリフロー加熱電力制御方法を提供する。
【解決手段】先行材11と後行材12の接続部13を有する錫めっきストリップ14を第1、第2のコンダクターロール15、16間で抵抗加熱し、第1、第2のコンダクターロール15、16間の誘導加熱装置18で誘導加熱し、クエンチタンク19で急冷してリフロー処理する際のリフロー加熱電力の制御方法であって、第1、第2のコンダクターロール15、16の間を接続部13が通過する間の抵抗加熱電力を、先行材11に適した電力から後行材12に適した電力に徐々に又は段階的に変え、更に抵抗加熱電力を変えること及び第1、第2のコンダクターロール15、16間の電気抵抗の変化によって生じる錫めっきストリップ14に発生する加熱温度の過不足分を計算して、過不足分を誘導加熱装置18による加熱で補償する。 (もっと読む)


【課題】めっきピンホールに起因した鉄錆の発生を効果的に抑制した高耐食性めっき鋼材を提供する。
【解決手段】Ni,Co,Cuに代表される、鋼材より電気化学的に貴な金属によってめっきされた鋼材であって、鋼材、めっき界面に鋼材より水素過電圧の大きな金属又は合金の層を有することを特徴とする。鋼材より水素過電圧の大きな金属は、Cr,Mn,Zn,In,Sn,Biから選ばれる1種であるか、またはB,S,P,V,Mo,RE(希土類元素)から選ばれる1種と、Fe,Co,Niから選ばれる1種との合金であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】 導電性ばね材として好適な、はんだ濡れ性、挿抜性に優れたすずめっき条。
【解決手段】 銅合金条の表面に、Cuめっきを最後に行う下地めっき、Snめっきの順で電気めっきを施し、その後、リフロー処理を施しためっき条であり;
リフロー処理によりSnめっき相の下にCu−Sn合金相が形成され、めっき表面に対する垂直断面における、Sn相とCu−Sn合金相との界面で、粗さ曲線のための平均線より高い山の頭頂部とその直上のSnめっき最表面との高度差の平均値hが0.1〜0.3μmであり、めっき表面において、最長径5.0μm以下、深さ0.1〜0.4μmのピンホールが500μm×500μm平方に20個以下である銅合金すずめっき条であり、好ましくはCu−Sn合金相表面の粗さ曲線要素の平均高さRcが0.27μm以下であり、粗さ曲線要素の平均長さRsmが4.0μm以上である銅合金すずめっき条。 (もっと読む)


【課題】良好な耐熱性と挿抜性を併有するめっき材料を提供する。
【解決手段】導電性基材1の表面に、周期律表4族、5族、6族、7族、8族、9族、もしくは10族に含まれるいずれか1種の金属またはそれを主成分とする合金から成る下地めっき層2と、CuまたはCu合金から成る中間めっき層3と、SnまたはSn合金から成る表面めっき層4とがこの順序で形成されており、かつ、表面めっき層4の厚みが中間めっき層3の厚みの1.9倍以上の厚みであるめっき材料。 (もっと読む)


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