【課題】 磁気ヘッドなどに用いられる金属多層膜の構造評価に有効な、金属多層膜のＸ線反射率プロファイルの新しい解析法を提供する。
【解決手段】 金属多層膜のＸ線反射率プロファイルの解析のための各層の膜厚の初期値ｔ₁ ⁱ 〜ｔ₃ ⁱ として、蛍光Ｘ線測定から求めた各層の膜厚を用いるようにする。この初期値ｔ₁ ⁱ 〜ｔ₃ ⁱ としては、蛍光Ｘ線測定により得られた各層の付着量Ｆ₁ 〜Ｆ₃ を各層の材料の理論密度ρ₁ ⁱ 〜ρ₃ ⁱ で割って算出した値を採用するのが有利である。 （もっと読む）

【課題】 作業者の熟練度による差がなく、安定した状態で試料を研磨することが可能であり、試料を研磨ベルトの走行方向に対して直角方向に移動させても試料面を平らに研磨することのできる分析試料研磨装置を提供する。
【解決手段】 駆動ロ−ラ１と従動ロ−ラ２との間にエンドレスに巻装した研磨ベルト３の下側に、固定リンク６ａと上下移動する移動リンク６ｂとを、その両端部を枢着した平行な回転リンク６ｃ，６ｄにより平行状態となるよう連結し、この平行な固定リンク６ａと移動リンク６ｂとの間に緩衝作用をするコイルばね７を配置する。 （もっと読む）

【目的】 シリコン基板中の重金属の簡便で迅速で高感度に分析する。
【構成】 シリコン基板１の表面にボロンイオン２を加速エネルギー５０ｋｅＶ、ドーズ量３×１０¹⁴ｃｍ^-2で注入する。そのあとに９００℃、３０分の熱処理を行い注入層３を形成してある。重金属４の汚染の程度を評価した半導体処理装置中に図１の試料をセットする。この後、その半導体処理装置でその処理を行う。このように、イオン注入をシリコン基板１に施しておくことで、シリコン基板１中に注入ダメージを意図的に形成できる。特にボロンイオンを注入することで、後の熱処理工程によって重金属をゲッターさせることができる。それを全反射蛍光Ｘ線によって分析することで、感度を一桁以上上昇させることができる。 （もっと読む）

【構成】高融点無機化合物を構成する主成分元素の高純度化合物を精秤して酸類に溶解させて得られた溶液中に、測定すべき不純物元素の標準液を所定量加え、溶液を蒸発乾固した後、所定の温度条件で加熱する上記高融点無機化合物中の含有不純物元素の蛍光Ｘ線定量用酸化物標準試料の製造方法。
【効果】この発明により製造された酸化物標準試料を用いることによって、高融点無機化合物中の不純物元素を例えば、1 〜2000ppm の範囲内で化学的分離を行なわずに、高精度の定量測定することができ、更に高融点無機化合物中に含まれる５乃至11の複数の不純物元素を同時に定量することができる。 （もっと読む）