国際特許分類[G02F1/33]の内容
物理学 (1,541,580) | 光学 (228,178) | 光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器 (92,458) | 独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学 (92,146) | 光ビームの位置または方向の制御のためのもの,すなわち偏向 (486) | 音響光学的偏向装置 (37)
国際特許分類[G02F1/33]の下位に属する分類
光導波路構造のもの (3)
国際特許分類[G02F1/33]に分類される特許
1 - 10 / 34
2次元スキャナ、及び、光刺激装置
【課題】中心波長の異なる複数の光に対して、高い回折効率と高い走査性能を実現する技術を提供する。
【解決手段】2次元光スキャナ6に入射したレーザ光は、駆動手段7dにより波長毎に入射角が調整されたAOD7で偏向される。AOD7で生じた角度分散は、AOD7の射出端近傍に配置されたプリズム8により補償される。プリズム8から射出されたレーザ光は、リレーレンズ9を通過して、駆動手段10dにより波長毎に入射角が調整されたAOD10で偏向される。AOD10で生じた角度分散は、AOD10の射出端近傍に配置されたプリズム11により補償されて、2次元光スキャナ6から射出される。AOD7とAOD10は偏向平面が直交している。
(もっと読む)
露光装置
【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体4の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ6と、パターンジェネレータ6から射出した複数のレーザビームを被露光体4上に一定間隔に並べて集光するfθレンズ7と、fθレンズ7を射出した複数のレーザビームを被露光体4の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子8と、を備え、音響光学素子8は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体4の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子4の光射出側には、複数のレーザビームの0次回折光を遮断する遮光マスク22が設けられている。
(もっと読む)
レーザ加工方法、レーザ加工装置、および、それを用いた電子デバイス
【課題】レーザによる穴加工において、移動時間の短縮化を図ると共に、加工パターンを変更せず加工径を変更または調整する場合も、その変更を容易にし、調整に要する時間も短縮する。
【解決手段】本発明では、穴中心間を移動するポイントからポイントへの移動を機械的に動作するガルバノスキャナーで実施し、加工時に求められる滑らかな軌跡に追従する移動に音響光学素子を用いて機械的な移動ではなく周波数を制御して光学回折角を変化させることで、円滑な加工を実施するものである。
(もっと読む)
光偏向器
【課題】解像点数の大きな光偏向器を提供する。
【解決手段】1次元に光を偏向する光偏向器において、2次元に光を偏向する光偏向手段と、光を伝搬させるコアを複数備え、コアが入射端面において2次元に配置され、出射端面において1次元に配置されたマルチコア導波路と、光偏向手段から出射された光を、マルチコア導波路の入射端面に結合するレンズとを備えた。
(もっと読む)
波長掃引光源装置及びこれを用いた撮像装置
【課題】 所望の波長範囲で、安定的に発振可能で且つ高速に波長掃引可能な光源装置を提供する。
【解決手段】 発振波長を連続的に変化可能な波長掃引光源装置であって、共振器内に、光を増幅させる光増幅媒体と、該光増幅媒体より放出される光を波長に応じて分散させる第一の手段と、第一の手段により分散した波長の異なる光束同士を平行化させる非集光光学素子で構成された第二の手段と、第二の手段により平行化した光束から所定波長の光束を選択する選択手段と、を備え、前記選択手段により選択された前記所定波長の光束を前記光増幅媒体に帰還させる波長掃引光源装置。
(もっと読む)
光源装置、画像表示装置及びモニター装置
【課題】外部共振器型のレーザー光源を前提として、出力レーザー光の可干渉性を低下させることでスペックルノイズを確実に低減し得る光源装置を提供する。
【解決手段】レーザー光を射出するエミッター22を有する第1発光素子12と、エミッター22から射出されたレーザー光が入射するように配置されたエミッター23を有する第2発光素子を備え、エミッター23は、射出されたレーザー光がエミッター22へ入射するように配置され、エミッター22と異なる2つのエミッター23の間の光路上に、空間的に選択波長が異なる波長選択素子17が配置されていることを特徴とする。
(もっと読む)
走査型顕微鏡
【課題】光の振幅と位相を独立して制御可能な光学素子を走査型顕微鏡に用いる場合に、より画質のよい観察画像を得ることができるようにする。
【解決手段】分散フィルタ62は、入射した赤外光の振幅と位相を独立に制御可能であるが、有効に動作できる期間とできない期間が生じる。そこで、調整部22は、各時刻において、3つの分散フィルタ62のうちの何れかが有効に動作するように、それらの動作を制御し、音響光学素子61は、3つの分散フィルタ62のうち、有効に動作している分散フィルタ62に赤外光を入射させる。合成素子63は、分散フィルタ62からの赤外光が同一光路を通って試料に照射されるように、赤外光を合成する。これにより、常に振幅と位相が適切に調整された赤外光を試料に照射することができ、より画質のよい観察画像を得ることができるようになる。本発明は、走査型顕微鏡に適用することができる。
(もっと読む)
マイクロリソグラフィ描画におけるビーム位置決め
【課題】感光性基板に対するマイクロリソグラフィ描画および検査のためのレーザ走査の時間効率および偏向器の制御を改善するシステムを提供する。
【解決手段】本システムは、偏向方向における基板のオフセットの程度を測定する少なくとも1つのセンサと、横方向に移動する走査に対応するように位置データまたは位置データの供給を修正するための手段と、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して偏向器のためのデータの読み出しを制御する制御ユニットとを備える。
(もっと読む)
レーザ発生装置
【課題】ファイバアンプ出力光による光学部品の損傷を回避するとともに、ファイバアンプ出力光の異常検知後における迅速な復帰が可能なレーザ発生装置を提供する。
【解決手段】複数のレーザダイオードに対して給電する電源ユニット5と、第1レーザダイオードからの第1励起光に基づいてシード光を出力するシード光源ユニット1と、第2レーザダイオードからの第2励起光と第3レーザダイオードからの第3励起光とにより励起されたエネルギーをシード光に付与して増幅して、レーザ光を出力するファイバアンプユニット3と、シード光を遮光するビーム遮蔽ユニット2と、電源ユニット5とビーム遮蔽ユニット2とを制御する制御ユニット6と、ファイバアンプユニット3の出力レーザ光の強度を検知して異常の有無を判断するビームモニタユニット7とを備え、異常と判断された場合には、制御ユニット6は、ビーム遮蔽ユニット2を制御してシード光を遮光させる。
(もっと読む)
可変フィルタ装置及びコンフォーカル顕微鏡
【課題】特定波長の光を効率よく遮光することができる可変フィルタ装置を提供する。
【解決手段】入射ピンホール板2を通過した発散光は、コリメートレンズ3により平行光束に変えられ、音響光学可変フィルタ4に入射する。音響光学可変フィルタ4に所定周波数の電圧を印加することにより回折格子の働きをさせ、回折光が破線で示すように光軸に対して斜め方向に出射するようにし、0次光のみが直進するようにする。音響光学可変フィルタ4を出射した光束は、集光レンズ5によって集光されるが、このとき、直進した0次光は、出射ピンホール板6のピンホールを通過し、可変フィルタ装置1の外部に放出される。回折光は、出射ピンホール板6の板部にあたって遮光され、可変フィルタ装置1の外部には放出されない。
(もっと読む)
1 - 10 / 34
[ Back to top ]