国際特許分類[G03F7/085]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284) | 接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
国際特許分類[G03F7/085]に分類される特許
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感光性組成物及びソルダーレジスト
【課題】解像度及び保存安定性に優れ、その硬化物が耐水性、電気絶縁性及び柔軟性に優れ、さらに耐熱性に特に優れる感光性組成物の提供。
【解決手段】(A)カルボキシル基を有するビスフェノール型のエポキシ(メタ)アクリレート化合物、(B)ポリエーテルポリオール構造を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物、(C)一分子中に1個以上の不飽和二重結合を有する重合性化合物、(D)(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸エステルを必須構成単量体単位とする共重合体、(E)光重合開始剤及び(F)熱重合触媒を含有する感光性組成物。
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接着改良剤およびそれを用いた基板処理液
【課題】感光特性の低下を伴わず、かつ、加熱硬化後の基材との接着特性が良好となる接着改良剤を提供する。
【解決手段】特定の芳香族アミンと、芳香族アミノ基と反応する基を有した特定のシラン化合物を反応させることで得られる化合物から選択される化合物を有する接着改良剤、およびそれを用いた基板の表面処理液。
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絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及び絶縁パターンの形成方法
【課題】分散性、塗膜性及び長期保存安定性の優れた絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物及びそれを用いた絶縁パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】(a)アルカリ可溶性高分子バインダー、(b)光重合性モノマー、(c)光重合開始剤、(d)無機化合物粒子、(e)有機チタン化合物及び/又は有機ケイ素化合物及び(f)有機溶媒を含有する絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物であって、前記(e)成分が特定の有機チタン化合物及び/又は有機ケイ素化合物からなり、分散性、塗膜性及び長期保存安定性に優れた絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物、及び前記絶縁パターン形成用感光性ペースト組成物を回路等を形成した基板に塗布し、露光する絶縁パターンを形成する方法。
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ポジ型感光性樹脂組成物並びにそれらを用いた半導体装置及び表示素子
【課題】 特に金属との密着性に優れたポリベンゾオキサゾール樹脂又はポリイミド樹脂又はその共重合樹脂を提供することを目的とするポリアミド樹脂とそれらを用いた露光特性に優れるポジ型感光性樹脂組成物を提供するものである。
【解決手段】
アルカリ可溶性樹脂(A)、感光性ジアゾキノン化合物(B)、一般式(1)または(2)で表される群より選ばれた少なくとも1種類以上の有機ケイ素化合物(C)及びフェノール化合物(D)を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
【化47】
【化48】
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耐熱感光性樹脂組成物
【構成】 (A)一般式(I)
(式中、Xは二量化または重合可能な基を表し、R1は(2+p)価の有機基を表し、R2は4価の有機基を表し、pは1又は2の整数を表す。R2に結合した2つのカルボキシル基のひとつはR2における片方のアミド基に結合した原子の隣の原子に結合し、もうひとつのカルボキシル基は残りのアミド基に結合した原子の隣の原子に結合している)で示される繰り返し単位を有するポリアミド酸及び(B)アミノ基を有するアクリル化合物を含んでなる感光性樹脂組成物。
【効果】 優れた感光性と良好な膜特性を兼ね備えた耐熱感光性樹脂組成物を提供する。
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