【課題】耐刷性、耐汚れ性および経時後の耐汚れ性に優れる平版印刷版及び平版印刷版の製造方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に設けられた感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み；前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、（Ａ）共重合体を含み、前記（Ａ）共重合体が、（ａ１）下記式で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ａ２）式（ａ２−１）〜（ａ２−６）で表される構造の少なくとも１つを側鎖に有する繰り返し単位とを有する平版印刷版原版（Ｌ¹は単結合、炭素数６〜１４の２価の芳香族基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ²−；Ｚ¹は２価の連結基；Ｒ¹は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基；Ｒ²¹、Ｒ²²およびＲ²³は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜８のアルキル基）。
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【課題】環境負荷の少ない現像剤によりネガ型画像形成性要素を画像形成して現像する方法を提供すること。
【解決手段】ネガ型画像形成性要素を画像形成し、次いで、毒性および腐食性が低く、使用後により容易に廃棄できる低ｐＨ有機系炭素現像液を使用して現像することができる。当該現像液は１２未満のｐＨを有し、ａ）窒素含有複素環を含む両性界面活性剤、ｂ）２又は３個以上の窒素原子を有する両性界面活性剤、またはｃ）ａ）の両性界面活性剤およびｂ）の両性界面活性剤を含む。 （もっと読む）

【課題】未露光部の現像処理に対する保持性を含めた耐薬品性、露光部の良好な現像性、及び高い耐久性（耐刷性）といった平版印刷版に要求される特性を高いレベルで満足し、しかも高いラチチュードを実現するサーマルポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】表面親水性の支持体上側に、１層以上の記録層を有するサーマルポジ型平版印刷版原版であって、前記記録層のいずれか同じ層あるいは別の層に、核をなす原子群に３つ以上のポリマー鎖が結合して放射状に分岐している星型ポリマーと赤外線吸収剤とを含有するサーマルポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 良好な形状のパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るレジスト組成物は、（Ａ）脂環構造を備え且つ酸の作用により現像液に対する溶解速度が変化する樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物と、（Ｃ）下記一般式（ＥＡ）により表される化合物とを含有したレジスト組成物。
【化１】
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【課題】高品質の平版印刷版を安定して作製することができる平版印刷版原版の現像装置及び平版印刷版原版の現像方法を提供する。
【解決手段】支持体と該支持体上に支持されている露光された画像記録層とを有する平版印刷版原版を搬送させて現像を行う平版印刷版原版の現像装置であって、第１の槽を有し、搬送される平版印刷版原版を第１の槽に溜めた現像液に浸漬させて画像記録層を現像する第１の現像部と、第１の現像部に対して平版印刷版原版の搬送方向の下流側に配され、現像液を溜める第２の槽を有する第２の現像部と、第２の槽に新鮮な現像液を補充する補充部と、第２の槽に溜めた現像液を第２の槽から前記第１の槽に送液する送液装置と、を備え、送液装置は、第２の槽に溜められた現像液を第１の槽に送液する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用共重合体の、パターン形成における性能を、パターンを形成せずに評価する方法を提供する。
【解決手段】下記工程（１）〜（３）を含むリソグラフィー用共重合体の評価方法。
（１）リソグラフィー用共重合体と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含むリソグラフィー組成物を用いて、基材上に薄膜を形成する工程。
（２）前記薄膜を露光した後、現像する工程。
（３）現像後、現像処理した薄膜の表面状態を評価する工程。 （もっと読む）

【解決手段】マグネシウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、セシウム、ジルコニウム、及びハフニウムから選ばれる金属とβジケトン類との錯体と、水、アルコール類、エステル類、エーテル類等から選ばれる１種以上を溶剤として含むレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、解像性とエッジラフネスが良好な特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【解決手段】マグネシウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、銀、カドミウム、インジウム、錫、アンチモン、セシウム、ジルコニウム、及びハフニウムから選ばれる金属の炭素数１〜２０の１〜４価のカルボン酸塩と、水、アルコール類、エステル類、エーテル類等から選ばれる１種以上を溶剤として含むレジスト材料。
【効果】解像性とエッジラフネスが良好な特性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＢ、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料とすることができる。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位を、樹脂中の全繰り返し単位に対して６５モル％以上有し、かつ下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】現像性、処理性、通常インキ耐刷性及びＵＶインキ耐刷性に優れる平版印刷版を提供できる平板印刷版原版及び平版印刷版の製造方法の提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に設けられた、少なくとも（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物および（Ｄ）バインダーを含有する感光層と、前記支持体と前記感光層との間に任意に設けられてもよいその他の層を含み、前記支持体と接する前記感光層または前記その他の層が、前記（Ｄ）バインダーとは異なる（Ａ）共重合体として、下記式で表される構造を側鎖に有する繰り返し単位を有する共重合体を含有する平版印刷版原版（Ｌ¹は共有結合性の二価の連結基；Ｚ¹はアルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−およびこれらの組合せからなる共有結合性の連結基；Ｘ¹は水素原子またはハメットの置換基定数σｐ値が０．２以下の電子供与性基）。
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