【課題】劣化した有機溶剤の溶解能力を向上し、再生可能回数を増加させることにより、コストと環境負荷を低減できる有機溶剤の再生方法と、この技術を適用したインクジェット記録ヘッドの製造方法の提供。
【解決手段】ポリケトン樹脂を構成するモノマーよりも沸点が高く、波長２９０ｎｍにおける吸光度が４より小さい有機溶剤を使用し、波長が２６０ｎｍ以上３２０ｎｍ以下の紫外線を照射して含有するポリケトン樹脂を分解した後、溶液を加熱して分解物モノマーを蒸発除去する加熱工程を含む有機溶剤の再生、及びこの方法を適用したインクジェット記録ヘッドの製造。 （もっと読む）

【課題】エッチングを行わずに残膜除去処理を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。
【解決手段】実施形態のパターン転写方法では、被加工基板上に光反応性樹脂を形成する。さらに、前記方法では、凹凸パターンを有する透明基板と、前記凹凸パターンの表面の一部に形成された遮光膜と、を備えるモールドを前記光反応性樹脂に押印する。さらに、前記方法では、前記モールドが前記光反応性樹脂に押印された状態で、前記モールドを介して前記光反応性樹脂に光を照射する。さらに、前記方法では、前記光反応性樹脂に光を照射した後に、前記モールドが前記光反応性樹脂に押印された状態で、前記光反応性樹脂を加熱する。さらに、前記方法では、前記光反応性樹脂の加熱後に、前記モールドを前記光反応性樹脂から離型する。さらに、前記方法では、前記モールドの離型後に、前記光反応性樹脂を洗浄液で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像を用いて形成されるネガ型レジストパターンの形成方法として最適なパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも、ケイ素含有膜形成用組成物を用いて被加工体上にケイ素含有膜を形成する工程(Ｂ)と、該ケイ素含有膜上に化学増幅型レジスト組成物を用いてフォトレジスト膜を形成する工程(Ｃ)と、加熱処理後に高エネルギー線で前記フォトレジスト膜を露光する工程(Ｄ)と、有機溶剤の現像液を用いて前記フォトレジスト膜の未露光部を溶解させることによりネガ型のパターンを得る工程(Ｆ)を含むパターン形成方法において、前記ケイ素含有膜形成用組成物として、前記フォトレジスト膜が露光された時に、該露光部に対応する前記ケイ素含有膜の露光後の純水に対する接触角が３５度以上７０度未満となるものを用いる。 （もっと読む）

【課題】酸性から中性域で現像可能であり、そして、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】下記式＜１＞、＜２＞または＜３＞で表される化合物の少なくともいずれかを含有し、ｐＨ２〜１０であることを特徴とし、支持体上に、画像記録層を有する平版印刷版原版を、画像様露光により露光部の画像記録層を硬化させた後、前記現像処理液にて現像を行うことを特徴とする。


（式＜１＞〜＜３＞中、Ｒ１〜Ｒ７はアルキル基等を、Ａ〜Ｃはエチレンオキサイド基を含有する基等を、Ｄはカルボン酸アニオンを含有する基等を表す。Ｚ⁻は対アニオンである。） （もっと読む）

【解決手段】ベース樹脂として、特定の開環メタセシス重合体水素添加物［Ａ］と、特定の（メタ）アクリル酸エステル樹脂［Ｂ］とを含有するレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させることを特徴とするネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、有機溶剤現像における溶解コントラストが高く、また、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す。このレジスト組成物を用いて有機溶剤現像によるネガ型パターン形成を行うことにより、微細トレンチパターンやホールパターンのマスク寸法忠実性や露光ショット内寸法均一性を向上させると共に、高い耐ドライエッチング性を発揮することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂及び光酸発生剤を用いて成膜（フォトレジスト層）し、所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後現像液として有機溶媒を含まない水溶液を用いて現像することにより、十分なフォトレジストを得ることのできる反応現像画像形成法を提供する。
【解決手段】所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をＭＯＨ（式中、Ｍはアルカリ金属を表す。）で表される無機アルカリ等を含む水溶液で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層がポリカーボネート樹脂及びキノンジアジド構造を有する有機基と水酸基の両方を有する化合物（光酸発生剤）とから成ることを特徴とする反応現像画像形成法。 （もっと読む）

【課題】１液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）


で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ３〜２０質量％、１５〜４５質量％、および１５〜３５質量％であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】平版印刷における高い耐刷性を実現し、しかも露光部の良好な現像性をも達成する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上側に、画像記録層を有してなる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版であって、前記画像記録層が、ポリ（ビニルアセタール）と、両性界面活性剤および／またはアニオン性界面活性剤と、赤外線吸収剤とを含有する平版印刷版原版、ならびに、平版印刷版原版の画像記録層を画像露光する露光工程、アルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】無機膜上に形成するレジストパターンの形成性及びエッチング選択比に優れ、レジスト膜を薄膜化する場合においても忠実なパターン転写が可能な多層レジストプロセス用無機膜形成組成物、並びにパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）、加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解物及び加水分解性基を有する金属錯体（Ｉ）の加水分解縮合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物、並びに［Ｂ］有機溶媒を含有する多層レジストプロセス用無機膜形成組成物であって、［Ａ］化合物が、第３族元素、第４族元素及び第５族元素からなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含有し、かつこの金属元素の含有割合が、［Ａ］化合物に含まれる金属元素及び半金属元素の合計量に対し５０モル％以上であることを特徴とする多層レジストプロセス用無機膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】感度及び安定性の高い重合性組成物、並びに、高感度、高耐刷性で、保存安定性の高い平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で示されるボレート化合物、（Ｂ）増感色素、及び（Ｃ）重合性化合物を含む重合性組成物。支持体上に、該重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。


（一般式（１）においてＲ１、Ｒ２及びＲ３は、そのうちの一つ又は二つは、ＯＲ７、ＳＲ８又はＮＲ９Ｒ１０を表し、それ以外は、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロ環基を表す。[Ｘ]＋は電荷を中和するカチオンを表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、２つのＲ８又はＲ９とＲ１０で環を形成してもよい。） （もっと読む）