【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット１００であって、ウェハＷを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台１４１と、ウェハ保持台１４１に吸着保持されたウェハＷにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構１５０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対して光ビームを照射して描画する描画装置およびその焦点調整方法において、収束光学系の経時変化に対応することができ、しかも描画時の基板表面に収束光学系の焦点位置を適正に調整することのできる技術を提供する。
【解決手段】観察光学系８０のダミー基板８０１と観察用カメラ８０３とを一体的に昇降可能とする。ダミー基板８０１の上面８０１ａをステージ１０上の基板Ｗの表面Ｓと略同一の高さに設定し、観察用カメラ８０３により観察されるダミー基板上面８０１ａでの描画光学像が最も小さくなるように、光学ヘッド４０ａのフォーカシングレンズ４３１の位置を調整する。このときの光学ヘッド４３１とダミー基板上面８０１ａとの距離を基準距離として、オートフォーカス部４４１，４４２によるオートフォーカス動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】実施形態は、露光位置を正確に決めることが可能な投影露光装置および投影露光方法を提供する。
【課題を解決するための手段】実施形態に係る投影露光装置は、第１主面と、前記第１主面の反対側の第２主面と、を有するステージであって、前記第１主面から前記第２主面に貫通した開口を有し、前記開口を覆って前記第１主面側にウェーハが載置される前記ステージと、前記第１主面側に設けられ、前記ウェーハの表面に第１の測定光を照射する第１光源と、前記ウェーハの表面で反射された前記第１の測定光を検出する第１受光器と、前記第２主面側から前記開口を介して前記ウェーハの裏面に第２の測定光を照射する第２光源と、前記ウェーハの裏面で反射された前記第２の測定光を検出する第２受光器と、を備える。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに独立して移動可能な第１、第２テーブルと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第１、第２テーブルの一方との間に液浸領域が維持される第１状態から、投影光学系と第１、第２テーブルの他方との間に液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、投影光学系の下方で第１、第２テーブルを共に移動する駆動システムと、を備え、第１テーブルは、基板の載置領域及びその周囲領域を有し、周囲領域と基板との隙間からの液体の流出を抑制するように周囲領域に近接させて基板を載置領域に載置し、基板は、第１テーブルによって液浸領域に対して相対的に移動される。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系のフォーカス位置を調整し、基板の平坦度の影響を低減して原版のパターンを基板上に投影する投影光学系を提供する事を目的とする。
【解決手段】 本発明の投影光学系は、原版のパターンの像を基板上に投影する投影光学系であって、投影光学系は、複数の光学透過素子を備えており、複数の光学透過素子の表面形状は、連続的であって、互いに異なる周期を有し、複数の光学透過素子の少なくとも１つを周期方向にシフトさせることでフォーカス調整を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料の高さを正確に測定することのできる高さ測定方法と、高さを正確に測定して高い精度で描画することのできる電子ビーム描画装置とを提供する。
【解決手段】光の波長を所定値としたときの反射光の光量を測定し、光量が閾値以下である場合には光の波長を変えて反射光の光量を測定する工程を繰り返し、光量が閾値より大きくなる波長で試料の高さを測定する。あるいは、光の波長を変えて反射光の光量を測定し、光量が最大となる波長で試料の高さを測定する。 （もっと読む）

【課題】ステージ上に載置された基板を高精度に位置決め可能なアライメント方法を提供すること。
【解決手段】テーブル上に載置された基板を位置決めするアライメント方法であって、前記基板の表面に第１の方向に沿って形成された基板マークを検出することと、前記基板マークの検出結果に基づいて、前記基板の表面に沿って前記第１の方向と交差する第２の方向に関して前記基板マークの位置情報を求めることと、前記基板マークの基準位置情報及び前記第２の方向に関する前記位置情報に基づいて、前記基板の位置のオフセット量を算出することと、前記基板の位置の前記オフセット量に基づいて、前記基板が載置された前記テーブルを動かすことと、を含む。 （もっと読む）

【課題】露光装置の投影レンズとワーク間の距離調整方法において、距離測定用センサの測定値に生じる誤差の問題をなくし、露光処理全体にかかる時間も長くすることなく、投影レンズからワークの表面までの距離を投影レンズの焦点距離に正しく調整（設定）できるようにすること
【解決手段】投影レンズからワークステージ表面までの距離（Ｌｓ）と、投影レンズからワークステージ上のワークの表面までの距離（Ｌｗ）を、一つの距離測定用センサ（レーザ測長器）で測定し、その差に基づいて投影レンズとワーク間の距離を調整（設定）する。 （もっと読む）

【課題】等速移動中のステージに保持された基板の高さを正確に計測することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板４を走査する第１方向および前記投影光学系の光軸に沿う第２方向に前記ステージを位置決めする位置決め機構２５と、前記第１方向に沿って間隔を置いて位置する複数の計測点で前記基板の高さを計測する計測器１６と、制御器２６とを備え、前記計測器により第１計測点で前記基板の高さを計測し、前記第１計測点で計測された高さに基づいて前記位置決め機構により前記ステージ５を前記第２方向に位置決めしながら前記基板を露光する。 （もっと読む）