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国際特許分類[H01B5/14]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択 (29,859) | 形を特徴とする非絶縁導体または導電物体 (4,138) | 絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの (2,176)

国際特許分類[H01B5/14]に分類される特許

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【課題】 透明導電板の電気抵抗を引き下げつつ、その光透過性を向上させうる新規な構
成を提供する。また、この透明導電板の製造方法、および当該透明導電板を備えた光電変
換素子を提供する。
【解決手段】 光透過性基板14と、その第1主面上に設けられた集光曲面13と、その
第2主面上に設けられた、集電体11および光透過性導電膜15と、を含み、第2主面が
、集電体11が形成された第1領域と集電体11が形成されていない第2領域とを有し、
第1主面側から当該主面に垂直な方向に沿って第1領域へと入射する光の少なくとも一部
を第2領域に導くように、集光曲面13が形成されている透明導電板10とする。この透
明導電板は、例えば感光性レジストを用いて製造できる。 (もっと読む)


【課題】ITO透明導電膜の成膜後、基板がそることのない、ガラス基板上に成膜されるITO透明導電膜と同程度の低抵抗のITO透明導電膜付きフィルムを得ることを課題とする。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを主とするフィルム基板を用い、プラズマガンを用いるイオンプレーティング法で、成膜時のフィルム基板の温度を90℃〜145℃の温度範囲に保ってITO透明導電膜を成膜される、比抵抗が1.1×10―4〜3.0×10―4Ω・cmの範囲にあるITO透明導電膜付きフィルムである。また、膜面の算術平均粗さRa(i)が、フィルム基板表面の算術平均粗さRa(f)に対し、Ra(i)−Ra(f)≦2nmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高価で資源枯渇の懸念のあるIn原料を有しない又は極力減少せしめる透明導電体の開発において、母材透明導電体に対して、適切ドーパント量が一義的に決まってしまう単一ドーピングによる材料開発手法の限界を超えると共に、制御困難なドーパントに頼ることなく、濃度制御容易なドーパントによって、従来方法では実現できなかった低抵抗率等の透明導電体として必要な特性を有する新規透明導電体を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化亜鉛、酸化インジウム及び酸化ガリウムからなる透明導電体であり、酸素を除き、インジウムの元素濃度が0.5〜1.5原子%、ガリウムの元素濃度が0.5〜3.5原子%であり、残余が亜鉛であることを特徴とする低抵抗率透明導電体。 (もっと読む)


【課題】線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を提供する。
【解決手段】透明フィルム1上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット7を印刷する。次いで、このフィルム1のドット7上及びドット7間のフィルム露出面のすべてを覆うように防眩層2、金属層3及び防眩層4を順次に形成する。次に、このフィルム1を水等の溶剤によって洗浄する。ドット同士の間の領域に形成された層2,3,4よりなる導電性パターン防眩層2,4付きの金属層3がフィルム1上に残る。 (もっと読む)


【課題】優れた透光性と優れた電磁波の遮蔽効果を有する電磁波シールドフィルムを、簡易な方法でかつ低コストで製造する。
【解決手段】金属層2の表面、または下地に、感光により接着性または粘着性が増加または減少する感光性樹脂層4を設け、その接着性または粘着性の差により金属層中の導電パターン以外部分を透明基板1から引きはがして削除する。 (もっと読む)


【課題】 屈曲性のさらなる改善によりタッチパネル用としての屈曲ペン入力耐久性を高度に満足する透明導電性積層体を提供する。
【解決手段】 厚さが2〜120μmの透明なフィルム基材の一方の面に、透明な第1の誘電体薄膜、透明な第2の誘電体薄膜および透明な導電性薄膜をこの順に積層し、上記フィルム基材の他方の面に、透明な粘着剤層を介して透明基体を貼り合わせてなり、第2の誘電体薄膜は、無機物であるか、または有機物と無機物との混合物であり、上記導電性薄膜は、この薄膜を形成する材料の結晶中、最大粒径が300nm以下の結晶含有量が50面積%を超えることを特徴とする透明導電性積層体。 (もっと読む)


【課題】 耐湿熱性が良好であり、ペン入力耐久性に優れ、打ち抜き加工時のクラックの発生を抑制でき、耐湿熱性が良好であり、高温高湿度の環境下においても、うねりやカールの発生を抑えることができる透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】 透明なフィルム基材の一方の面にハードコート層を有し、さらに当該ハードコート層上にドライプロセスにより形成された厚さ10〜300nmのSiOx膜を有し、透明なフィルム基材の他方の面には厚さ20〜35nmの透明導電性薄膜を有することを特徴とする透明導電性フィルム。 (もっと読む)


【課題】表面抵抗が小さく、表面エネルギーが大きい、耐熱性に優れた透明導電フィルムを提供することができる。
【解決手段】基材フィルム2と、スパッタリングにより形成したITOからなる透明導電層3とを有する透明導電フィルム1であって、上記基材フィルム2と上記透明導電層3との間には、ポリエステル系のコーティング剤4を介在させてある。上記コーティング剤は表面エネルギーが30〜80mN/mであることが好ましい。また、上記透明導電層3は表面抵抗値が50Ω/□以下であることが好ましい。 (もっと読む)


耐久性に優れ、かつタッチパネルの表面をペンで押圧した際の凹みがほとんど生じないタッチパネル、及びこのタッチパネルに有用な透明導電性フィルム及び透明導電板を提供する。透明導電薄膜が設けられた第1の高分子フィルムと、表面にハードコート層を有する第2の高分子フィルムとが、該膜又は層が形成されていない裏面同士を対向させて接着剤層により貼り合わされてなる透明導電性フィルムであって、接着剤層の弾性変形仕事量が60%以上であることを特徴とする透明導電性フィルム;このような接着剤層を有する透明電導板;及びこのフィルムを上部電極に用いたタッチパネル、並びにこの透明電導板を下部電極に用いたタッチパネル。 (もっと読む)


【課題】輝度特性が優れているだけではなく、耐熱性、耐割れ性に優れた透明導電性フィルムを得る。
【解決手段】下記構造式(1)で表されるグルタル酸無水物単位を10〜40重量%含有するアクリル樹脂(A)を含有する樹脂組成物から構成される基材の少なくとも一方の面に透明導電性薄膜が積層された透明導電性フィルム。
【化1】


(上記式中、R、Rは、同一または相異なる水素原子または炭素数1〜5のアルキル基を表す。) (もっと読む)


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