【課題】 平板状の金属フィラーを用いて、これまでよりも回路抵抗が低抵抗化された配線回路を提供する。また、上記配線回路を、その寸法精度や導電性を低下させることなしに、より効率的に形成するための形成方法を提供する。
【解決手段】 配線回路は、その断面において、平板状の金属フィラー起源の金属相の、配線回路の厚み方向に連続する長さの平均値Ｙと、上記金属相の、配線回路の厚み方向と直交する方向に連続する長さの平均値Ｘとの比Ｙ／Ｘを０．４以上とする。形成方法は、平板状の金属フィラーと樹脂バインダとを含む導電ペーストを印刷後、層の厚み方向に０．１〜９ＭＰａで加圧しながら、１００〜２５０℃に加熱して樹脂バインダを硬化させる。 （もっと読む）

動的なコーティングは、表面への取着用の１つ以上のパターン形成ポリマー層を備える。このポリマー層は１つ以上の導電性ポリマー含有層を有する。このポリマー層に対し印加される動的により、ポリマー層の接触角はポリマーの酸化又は還元の際、動的に、かつ、有意に増減する。また、酸化又は還元の際、ポリマー層は伸縮する。このコーティングは、非毒性生物付着防止システム、低電圧エレクトロウェッティングポンプの形成又は耐腐食性の金属表面を含む種々の用途において用いられ得る。
（もっと読む）

【課題】可動電極基板と固定電極基板間に発生する干渉模様を抑制しつつ、更に高精細画面上でのちらつきを軽減する透明タッチパネルを与える透明導電積層体を提供する。
【解決手段】透明高分子基板７の少なくとも片面に、凹凸を有する硬化樹脂層８，９と透明導電膜層１０が順次積層され、硬化樹脂層８が硬化樹脂成分と平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ａが主として１．０μｍ未満の凝集体を形成している透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】 色素増感太陽電池などの光電変換素子に用いられる長期安定性に優れた透明導電性基板およびこれを用いた光電変換素子を提供する。
【解決手段】 透明基板１１と、透明基板１１上に形成された透明導電膜１２と、透明導電膜１２上に形成された導電体１３と、導電体１３の上面１３ａを被覆するように形成された保護膜１４とを備えた透明導電性基板１０において、導電体１３と保護膜１４の間に、導電体１３の保護膜１４に対する密着性を担う密着補助層１５を設ける。 （もっと読む）

【課題】透過率の低下を招くことなく、確実に熱処理工程後のカールの発生を抑制することが可能な透明導電性積層体及びこれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】第１の光透過性フィルム１の片面に少なくともハードコート層３が形成されたハードコートフィルム３１と、第２の光透過性フィルム２の片面に少なくとも透明導電膜４が形成された導電性フィルム３２とが、第１の光透過性フィルム１のハードコート層３及び第２の光透過性フィルム２の透明導電膜４が形成されていない面同士を粘着層３０で貼り合わせて成る透明導電性積層体１０であって、第１及び第２の光透過性フィルム１及び２の厚みの差を０μｍ以上５μｍ以下として、第１及び第２の光透過性フィルム１及び２の配向角度の差Δを２０°以下として構成する。 （もっと読む）

【課題】高湿度環境下であっても電気抵抗値の上昇や経時的変化を十分に抑制することができる透明導電材料及び透明導電膜を提供すること。
【解決手段】本発明は、耐水性を有する導電粉の表面を表面処理剤で処理してなる表面処理導電粉と、硬化性化合物とを含む透明導電材料である。 （もっと読む）

【課題】優れた導電性を発揮できると共に、耐衝撃性及び生産性に優れた導電性被膜被覆ガラス基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板２と、その表面の少なくとも一部に形成された導電性被膜３とを有する導電性被膜被覆ガラス基板１である。導電性被膜３は、金属を主成分とし、ガラス成分を０重量％〜５重量％含有する。また、被覆工程と焼成工程とを有する導電性被膜被覆ガラス基板１の製造方法である。被覆工程においては、ガラス基板２の表面の少なくとも一部に、導電性ペーストを塗布してペースト被膜を形成する。焼成工程においては、ペースト被膜が形成されたガラス基板２を温度５５０〜９００℃にて焼成し、金属からなる導電性被膜３を形成させる。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、表面改質を行うことが可能であり、かつ、表面改質処理後の廃液を簡便な方法で処理し得る透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に設けられ、酸化亜鉛を含む透明導電膜について、酸性水溶液を用いて、その表層部を除去することを特徴とする透明導電膜の製造方法、及びその製造方法で製造された透明導電膜を含む透明導電基板である。酸性水溶液を用いて、透明導電膜の表面改質処理を行うことにより、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 塗膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材６上に塗布して塗膜７を形成し、この塗膜７上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマＰ化させ、このプラズマＰを塗膜７に照射して塗膜７を改質することにより、基材６上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッチング性および耐アルカリ性に優れた導電性積層体およびこの導電性積層体を利用した導電性透明基板を提供する。
【解決手段】本発明の導電性積層体は、膜厚100〜1000Åの第1の非晶質複合酸化物層の上に膜厚10〜50Åの金属薄膜層と膜厚100〜1000Åの第2の非晶質複合酸化物層とが順次積層されてなる層構成を有し、前記第1の非晶質複合酸化物層および前記第2の非晶質複合酸化物層が共にIn酸化物とSn、GaおよびZnからなる群より選択された1種または複数種の金属の酸化物とからなる複合酸化物であって、全金属元素に占めるInの割合が20〜80モル%であるものからなり、前記金属薄膜層がAu、Ag、Cu、PtおよびAlからなる群より選択された1種または複数種からなることを特徴とする。また、本発明の導電性透明基板は、透明基板と、この透明基板の所定面上に直接またはアンダーコート層を介して設けられた前記の導電性積層体とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）