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国際特許分類[H01B5/14]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択 (29,859) | 形を特徴とする非絶縁導体または導電物体 (4,138) | 絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの (2,176)

国際特許分類[H01B5/14]に分類される特許

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容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、基板上に光吸収性を有する酸化スズ膜を形成する工程、光吸収性を有する酸化スズ膜の一部をエッチング液で溶解してパターニングする工程、パターニングされた光吸収性を有する酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含むことを特徴とする透明電極の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 改善された光学的および電気的膜特性を有する透明で導電性の酸化物膜(TCO膜)であり、薄膜太陽電池において使用するのに適する表面構造を有する該膜の提供。
【解決手段】 この課題は、反応性スパッタリングによって基板上に導電性で透明な酸化亜鉛膜を生成し、プロセスにヒステリシス領域を有している方法において、ドーピング剤を含有する金属Znターゲットを使用し、該ターゲットのドーピング剤含有量が2.3原子%より少なく; 基板のための加熱器を、200℃より高い該基板温度に調整される様に調整し;
190nm/分より早い静的溶着速度に相当する50nm*m/分より早い動的溶着速度に調整し;そして安定な金属プロセスと不安定なプロセスとの間の転換点と安定化されたプロセス曲線の屈曲点との間に位置する、不安定なプロセス領域内で安定化した作業点を選択する各段階を含むことを特徴とする、上記方法によって解決される。 (もっと読む)


基板(19)上に透明電極を形成する方法が開示されている。当該方法は、グラビアオフセット印刷法により、基板上にパターニングされた加熱分解可能なインク組成物を堆積する工程及び、加熱分解可能なインク組成物を加熱分解する工程を有する。加熱分解可能なインク組成物は、可視光波長未満の粒径を有する導電性の金属酸化物、ニトロセルロース結合剤、アルコール溶媒及び、250℃より高温の沸点を有する有機共溶媒を有する。
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陰極50と、陽極20と、陰極50と陽極20の間に介在する発光層40からなり、陽極20の少なくとも発光層40に接する部分が、ランタン、セリウム、ネオジウム、サマリウム、ユーロピウムから選ばれる少なくとも1つ以上の元素と、クロム、タングステン、タンタル、ニオブ、銀、パラジウム、銅、ニッケル、コバルト、モリブデン、白金、シリコンから選ばれる少なくとも1つ以上の元素を含む有機エレクトロルミネッセンス素子。この素子では、陽極から発光層に正孔が効率よく注入され、有機EL素子の駆動電圧のさらなる低電圧化、及び低電圧駆動による長寿命化が可能になる。 (もっと読む)


フレキシブル金属ストリップ製品は、フェライトクロム鋼ストリップ材料(2)にイットリウムで安定化したジルコニアの絶縁層を被膜(3、6、8)として備え、この被膜上に導電性の層を含む第2被膜(7)を設け得る。前記被膜は、下地の鋼と熱膨張が実用上等しいため、フレキシブル太陽電池および固体薄膜電池の絶縁層として非常に有用である。
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高い電気伝導率を有する導電性ポリアニリン成形体を与える導電性ポリアニリン組成物及びポリアニリンの非導電性塩基状態を経ずに導電性ポリアニリン組成物を製造する方法。
実質的に水と混和しない有機溶剤に溶解している、(a)プロトネーションされた置換又は未置換ポリアニリン複合体、及び(b)フェノール性水酸基を有する化合物を含む導電性ポリアニリン組成物;その製造方法;及びそれからなる成形体。 (もっと読む)


透明高分子基板の少なくとも片面上に凹凸を有する硬化樹脂層を配し、かつこの硬化樹脂層の上に、直接または他の層を介して透明導電層を設けてなる透明導電性積層体。この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が0.5〜5μmの微粒子Aと、平均一次粒子径が100nm以下の金属酸化物及び/または金属フッ化物からなる超微粒子Cとを含む。上記透明導電性積層体は、透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する2枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる。 (もっと読む)


本発明は、薄い膜厚でも高い表面凹凸を有する透明導電膜を有する透明基体を提供する。本発明の製造方法は、透明基体上に金属化合物、酸化原料および塩化水素を含有する原料ガスを供給し、熱分解酸化法によって透明基体上に結晶性金属酸化物を主成分とする透明導電膜を形成する工程を含み、上記工程が、原料ガスにおける金属化合物に対する塩化水素のモル比が0.5〜5である第1工程と、上記モル比が2〜10であって第1工程における上記モル比より大きい第2工程とを、この順に含む。本発明によれば、透明導電膜の厚さが300nm〜750nmで、ヘイズ率が15%以上である透明導電膜付き透明基体を提供できる。
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屈折率n1を有する第1の層と、n1より大きい屈折率niを有する第iの層と、前記第1の層と前記第iの層との間の1つまたは2つ以上の中間層と、を含み、前記中間層の屈折率がn1とniとの間であり、各中間層の前記屈折率が前記第1の層からの各層の位置の順に増加する、多層光学複合体が開示される。
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ITO膜の耐酸性に優れた透明導電性基板は、透明基材とこの透明基材上に形成されたITO膜とを備える。ITO膜の酸化スズの含有割合が30重量%以上である。色素増感型太陽電池用電極は、この透明導電性基板と、そのITO膜上に形成された色素吸着半導体膜とを有する。この色素増感型太陽電池用電極を色素増感型半導体電極として用いた色素増感型太陽電池が提供される。SnOの割合を30重量%以上に増加させると耐酸性が大幅に向上する。ITO膜上に、交互吸着法により形成した交互吸着膜を酸処理により凹凸化してレプリカ層を形成し、このレプリカ層上に半導体膜を形成して色素増感型太陽電池用色素増感型半導体電極が形成される。 (もっと読む)


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