【課題】カソードディスクと支持筒をろう材を用いて、ろう付けする時に支持筒の上端部に生じる変形、クッラクを防止した含浸型陰極構体を得る。
【解決手段】電子放射物質が含浸され表面を熱電子放出面１１ａとするカソードディスク１１と、カソードディスクの裏面１５側に配置されカソードディスクを加熱するヒータ２０と、ヒータを収容し、カソードディスクを前記裏面１５または側面で支持する支持筒１３，１４とを具備する含浸型陰極構体において、支持筒１３，１４は内周に張り出しカソードディスクの裏面の一部に突き合わされる突き合わせ面を有してろう付けにより裏面と接合される支持筒フランジ１３ａ，１４ａを有し、カソードディスクは支持筒フランジの突き合わせ面に対応する裏面に環状に形成され前記突き合わせ面内に収まるように支持筒フランジ幅よりも幅狭にされた窪み２１，２２を有する。 （もっと読む）

【課題】ヒータと支持体との接合強度を高める。
【解決手段】含浸型陰極構体１は、電子放射物質が含浸された陰極基体１０、支持体２０、ヒータ４０、埋め込み材５０を有する。支持体２０は、支持外筒２４、および、支持外筒２４との間に環状の収納空間２２を形成するように支持外筒２４の筒内に支持外筒２４と同軸的に配置された支持内筒２６を有する。支持体２０は、支持外筒２４および支持内筒２６の一方の端部に陰極基体１０が取り付けられて陰極基体１０を支持する。支持内筒２６の他方の端部には、支持内筒２６の端面から突き出した突出部３０が形成されている。ヒータ４０は、一部が収納空間２２に収納されて、一方の端部４４が収納空間２２の外部で突出部３０に接合されている。埋め込み材５０は、収納空間２２を充填している。 （もっと読む）

【課題】ヒータと支持体との接合を外れにくくする。
【解決手段】含浸型陰極構体１は、電子放射物質が含浸された陰極基体１０、支持体２０、ヒータ４０、埋め込み材５０を有する。支持体２０は、支持外筒２４、および、支持外筒２４との間に環状の収納空間２２を形成するように支持外筒２４の筒内に支持外筒２４と同軸的に配置された支持内筒２６を有する。陰極基体１０は、支持体２０に取り付けられて支持されている。ヒータ４０は、一部が収納空間２２に収納されて、一方の端部４４が支持体２０に対して電気的に接続されている。支持外筒２４の内周面および支持内筒２６の外周面には、それぞれ軸方向に延びた凹部２４ａ，２６ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】時間的にも空間的にも均一な電子ビームを供給する電子源を提供する。さらに、射出面積の小さい電子源を提供する。
【解決手段】射出面４と、加熱されたときに仕事関数の低い粒子を放出する材料のためのリザーバ２と、このリザーバ２から前記射出面４への仕事関数の低い粒子の拡散を可能にするための少なくとも１つの通路７とを有するディスペンサ陰極であって、前記射出面４は、少なくとも１つの射出エリア９と、射出を抑える材料でカバーされ、前記射出エリア９を囲んでいる少なくとも１つの非射出エリア８とを有している。前記非射出エリア８は、少なくとも１つの通路７を有しており、前記通路７は、前記リザーバ２と前記非射出エリア８とを接続し、前記リザーバ２から前記射出エリア９への仕事関数の低い粒子の拡散を可能にするために、射出エリア９から拡散長の距離だけ離れて延びている。 （もっと読む）

【課題】ピアス式電子銃の円盤状のカソード２を、カソード２より大径の外周リング２１に３本以上の支持ロッド２２を介して支持させるカソード支持構造において、カソード及び支持ロッドの熱膨張により支持ロッドの座屈を生ずることを防止できると共に、カソードからの熱引けを効果的に抑制できるようにする。
【解決手段】各支持ロッド２２を、カソード２と外周リング２１との間に、支持ロッド２２の軸線が該軸線と外周リング２１の内周面との交点とカソード２の中心とを結ぶ直線Ｌに対しカソード２の周方向一方に傾むくように配置する。また、支持ロッド２２の軸線に合致する直線とこの直線に平行でカソード２の中心を通る直線とをカソード２の軸線に直交する平面に射影したときの２直線間の距離を偏心量δとして、δが全ての支持ロッド２２で等しくなるようにする。 （もっと読む）

【課題】電子銃のカソードの速動性が容易に向上する電子管用カソード構体を提供する。
【解決手段】電子銃においては管軸ｍを軸中心としてカソード１１、その前方のアノード１２が取り付けられ、カソード１１の後方にカソードを加熱するヒータ１３が配置されている。そして、ヒータ１３を支持するヒータ支持用部材１６ヒータ１３からの熱を反射しカソード１１を効率的に加熱するための反射筒１７が取り付けられ、固定部材１８によりヒータ支持用部材１６は反射筒１７に固定されている。ここで、ヒータ支持用部材１６は多孔質セラミックス、繊維質材料含有セラミックス、あるいはＰＢＮにより形成されている。 （もっと読む）

射出面と、加熱されたときに仕事関数の低い粒子を放出する材料のためのリザーバと、このリザーバから前記射出面への仕事関数の低い粒子の拡散を可能にするための少なくとも１つの通路とを有するディスペンサ陰極であって、前記射出面は、少なくとも１つの射出エリアと、射出を抑える材料でカバーされ、前記射出エリアを囲んでいる少なくとも１つの非射出エリアとを有している。前記非射出エリアは、少なくとも１つの通路を有しており、前記通路は、前記リザーバと前記非射出エリアとを接続し、前記リザーバから前記射出エリアへの仕事関数の低い粒子の拡散を可能にするために、射出エリアから拡散長の距離だけ離れて延びている。
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カソード支持体３上に配されるカソードボディ４と、レニウム又はレニウム合金６１及びスカンジウム酸化物又はスカンジウム合金６１の１つ又は複数の交互配置層からなる層組織６と、カソードボディ４と層組織６との間に配される活性化促進層組織５を有するカソード被覆５，６とを有するスカンデート含浸型カソード。活性化促進層組織は、バリウム酸化物その他のアルカリ性土類金属酸化物を有する少なくとも１つの放出層５２と、カソードボディの材料よりも高い耐酸化性を持つ障壁材料及びバリウム酸化物その他のアルカリ性土類金属酸化物を還元するための活性化材料を有する活性化層組織５１とを有する。
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３００℃を超える温度を発生する加熱装置１，２、前記加熱装置１，２に接続された導電性を有する陰極支持部３、及び前記陰極支持部３に付けられ、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムから成る群から選択される少なくとも一のアルカリ金属を有する電子放出材料４から成り、３００℃から６００℃の間の動作温度において１０Ａ／ｍ^２以上の放出電流密度を有する陰極被膜、を有する電子放出用陰極である。
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【課題】研磨処理を行なう必要がなく、かつろう材の流れの問題のない含浸型陰極基体の製造方法を提供すること。
【解決手段】高融点金属又はその合金の粉末を成形する工程、成形体を焼結する工程、銅を含有させることなく焼結体を酸化処理する工程、及び水素を含む高温雰囲気で還元処理する工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）