【課題】低コストで、荷電粒子銃、特に断熱構造を有する荷電粒子銃鏡体内の部材の信頼性の向上をはかりながら、効果的に加熱脱ガス処理することができる荷電粒子線装置、及び脱ガス方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子銃１０１を備えた荷電粒子線装置１００であって、高純度ガスのガス導入器１０５を備え、荷電粒子銃鏡体１内のチップホルダー３２等の部材の加熱脱ガス処理を実行するときには、この高純度ガスの供給系から荷電粒子銃鏡体１内にガスを導入し、ヒーター４０にて加熱される荷電粒子銃鏡体１とは断熱構造になっている荷電粒子銃鏡体１内のチップホルダー３２等の部材の加熱に、荷電粒子銃鏡体１内にガス導入器１０５から供給される高純度ガスを介した熱伝導を利用する。 （もっと読む）

【課題】ガス電界電離イオン源を用いて試料へのダメージが小さく、かつ、効率よく微細加工を行うこと。
【解決手段】イオンビーム１を放出するエミッタ４１と、エミッタ４１を収容するイオン源室４０と、イオン源室４０に窒素を供給するガス供給部４６と、窒素をイオン化し、窒素イオンを引き出す電圧を印加するための引出電極４９と、エミッタ４１を冷却する温度制御部３４と、を有するガス電界電離イオン源を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 エミッタティップ先端の機械的振動振幅が小さく、超高分解能の試料観察像が得られ、かつ試料観察像にゆれなどをなくす荷電粒子線顕微鏡を提供する。
【解決手段】 イオンを生成するエミッタティップと、該エミッタティップを支持するエミッタベースマウントと、該エミッタティップを加熱する機構と、エミッタティップに対向して設けられた引き出し電極と、エミッタティップの近傍にガスを供給する機構と、を有するガス電界電離イオン源において、エミッタティップ加熱機構が、少なくとも２個の端子間を接続するフィラメントに通電して前記エミッタティップを加熱する機構であり、前記端子間がＶ字状のフィラメントで接続され、V字のなす角度が鈍角であり、前記フィラメントの略中央に前記エミッタティップが接続されたことを特徴とするガス電界電離イオン源を搭載する荷電粒子顕微鏡とする。 （もっと読む）

【課題】従来のガスイオン化室では、グロー放電を避けるためにはガス圧を下げるしかなく、ガス導入圧を高めることでイオン電流を増やすことができないという課題があった。本発明は、ガス導入圧を高めることでイオン電流を増やすとともに、イオン化ガスによるビーム散乱を防ぐことを目的とする。
【解決手段】ＧＮＤ電位の構造体からガスを供給することで、ガス圧力のより高いイオン化ガスの導入口近傍に高電圧が印加されないようにする。また、加速・集束レンズを構成するレンズ電極のレンズ開口部から差動排気することでイオンビームが通過する領域に存在するイオン化ガスを優先的に減らす。 （もっと読む）

【課題】頂点部分の再生処理を繰り返し行っても引出電圧の変動が微小なイオン源エミッタを提供する。
【解決手段】本発明に係るエミッタでは、先端を単原子を頂点とする三角錐形状として、かつ先端を頂点側から見た形状を略六角形とした。 （もっと読む）

【解決課題】イオン源容器のチャージアップに伴う同容器表面からの２次電子放出を抑制、防止し、電界電離電極の針先付近の電界強度の低下や不安定化もたらすことなく長期に亘って継続して高輝度の安定したイオンビームを生成することが可能なイオン源を提供すること。
【解決手段】電界電離電極２と外部電極３との間に電圧を印加して電界電離電極２の先端部近傍に電界を形成し、イオン源容器１の微小開口Ｏより噴射される原料ガスを電界電離することによりイオンビーム８を生成するガスイオン源において、前電界電離電極２の先端に近い領域に位置する、イオン源容器１の一部の表面、前記外部電極３の一部若しくは全部の表面、または同外部電極３の全部を二次電子放出抑制材の薄膜Ｔａ〜Ｔｅで構成する。 （もっと読む）

【課題】冷電極を用いてシート状のビームを発生させることのできる、シート状ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】平板型電極１と、接地電極７と、平板型電極１と接地電極７との間に電圧を印加する電源３と、平板型電極１と接地電極７が収容される真空容器４と、真空容器４の外部に設けられ平板型電極１から発生する粒子ビームを誘導する磁場を発生させる磁場発生コイル６とを備えた。平板型電極１の表面に粒子ビームを発生させるための粒子ビーム発生部２を形成した。粒子ビーム発生部２は略均一の粗さを有する。 （もっと読む）

【課題】気体電界イオン源を用いて試料表面でスポットサイズ１０ｎｍ以下のイオンビームを有する汎用性、長器信頼性に優れたイオン顕微鏡を提供する。
【解決手段】気体と相互作用し、試料表面に10nm以下の寸法のスポットサイズ、1×109A/cm2sr以上の輝度、5×108A/cm2srV以上の還元輝度、5×10-21cm2sr以下のエタンデュ、1×10-16cm2srV以下の還元エタンデュ、を有するイオンビームを発生させることが可能な気体電界イオン源を含むシステムを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ガス電界電離イオン源において，真空粗引き時のコンダクタンス増大化とイオンの大電流化の観点からの引き出し電極穴の小径化とを両立する。
【解決手段】
電界電離イオン源１において，ガス分子イオン化室１５を真空排気するコンダクタンスを可変とする機構を備える。すなわち、ガス分子イオン化室１５からイオンビームを引き出す時と，引き出さない時で，ガス分子イオン化室１５を真空排気するコンダクタンスを可変とする。このコンダクタンスを可変とする機構を構成する部材の一部であるふた３２を、バイメタル合金で形成することにより、ガス分子イオン化室１５の温度に対してコンダクタンスが可変となり、比較低温ではコンダクタンスが比較小となり，比較高温ではコンダクタンスが比較大となる。 （もっと読む）