高密度の電子及びプラズマのビームを発生し、加速し、伝播する装置及びプロセスであって、装置は、ガスを含んだ第１絶縁チューブと、第１絶縁チューブに気密に接続された中空のカソードと、中空のカソードに気密に接続され、溶着室内に突出して溶着室に接続された第２絶縁チューブと、第２絶縁チューブの回りに中間に位置して配置されたアノードと、カソード及びアノードに電圧を印加する手段と、溶着室からガスを排出する手段と、第１絶縁チューブ内にてガスをプラズマに自発的に転換する手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】腐食性ガスに対する耐性の高いクラスターイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】
プラズマ生成室１５とプラズマ拡張室１６とを小径の通過孔１７で接続し、プラズマ生成手段によってプラズマ生成室１５内部にプラズマを発生させ、通過孔１７を通るプラズマがプラズマ拡張室１６内で拡散するようにする。プラズマ拡張室１６とイオン化室２５の間には電子シャワーパネル３５を配置し、それに形成された複数の放出孔３６からイオン化室２５内に電子線が照射されるようにする。多数の放出孔３６から電子線が照射されるので、プラズマ拡張室１６内部のプラズマ密度を低くすることができる。プラズマ拡張室１６に差圧用真空排気系４７を接続すると、真空槽１１からプラズマ拡張室１６に侵入した照射ガスは真空排気され、プラズマ生成室１５内部に侵入しないようにできる。 （もっと読む）