低圧チャンバにおいてイオン照射が誘導される二次放出電子源用の電力供給装置（１４）は、制御入力、２つの高電圧出力、高電圧出力における複数の正のパルス発生用手段、少なくとも複数の正のパルス後の他方の高電圧出力における負のパルス発生用手段と、を備える。 （もっと読む）

本発明は、イオン化チャンバ（４）と、一次イオンを抽出および加速させるとともに二次電子のビームを形成するための電極（３）を伴う加速チャンバ（２）とを備えるパルス電子（１）に関し、前記ポンプ電子イオン（１）は、加速チャンバ（２）外部の一次プラズマ（１７）を推進するための正電圧と、一次イオンを抽出および加速させるとともに二次電子のビームを形成するための負電圧パルスと、を前記電極（３）に加えるために適合される電源（１１）を備える。 （もっと読む）

プラズマ電子フラッドシステムであって、気体を含むように構成されるハウジングを備え、細長抽出スリットと、カソードと、その中に存在する複数のアノードとを備え、上記細長抽出スリットは、イオン注入装置と直接連絡し、上記カソードは、複数のアノードの間の電位差を通じて上記複数のアノードに引き込まれる電子を放出し、上記電子は、上記細長抽出スリットを介して、上記イオン注入装置内を移動するリボンイオンビームを中和する際に用いられる電子バンドとして放出される、プラズマ電子フラッドシステム。
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【課題】 基板面内、面間の処理を均一化するとともに、併せてグリッドのスパッタを抑制することを可能にする。
【解決手段】 被処理基板を処理する半導体デバイス製造装置において、プラズマを発生するプラズマ発生室１７と、プラズマ発生室で生成されたプラズマから電子を集束させるグリッド１９と、グリッドで集束させた電子を加速させるアノード２０と、アノードで加速させた電子が導入される処理室４６と、グリッド１９と処理室４６との間に設けられ正の電圧を印加される制御電極２９とを備え、処理室４６内に導入される加速電子により処理室４６内のガスをプラズマ化して被処理基板を処理するように構成される。 （もっと読む）

【課題】多くの電子電流を引き出すことが可能であると共に、長寿命化を図ることが可能なニュートラライザを提供する。
【解決手段】一方の端部から電子電流を引き出し可能な放電管４と、放電管４内にガスを導入するガス導入管３と、この放電管４の内部でプラズマを発生させる高周波誘導コイル５と、放電管４の内部に配設されたカソード電極６と、放電管４の開口４ａ側に配設された第一のキーパ電極７と、カソード電極６よりも正電位となるように第一のキーパ電極７に電圧を印加する引出し電源１３と、第一のキーパ電極７と離間して配設された第二のキーパ電極８と、この第二のキーパ電極８にカソード電極６よりも正電位となる自己バイアス電圧を印加するコンデンサ１６と、を備える。第二のキーパ電極８の自己バイアス電圧により多くの電子電流が引き出すことができると共に、第二のキーパ電極８はスパッタされにくくなるため、長寿命化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 長時間の放電維持が可能で、安定的な放電維持特性を有する中空カソード放電ガンを提供する。
【解決手段】 放電空間をなす中空を有し、一端に、前記中空にガスを流入するための第１開口部を有し、他端に、前記中空からガスを流出するための第２開口部を有する金属チューブと、前記金属チューブに長手方向に挿入されるフィラメントと、前記金属チューブ内の前記フィラメントの周囲に装着され、前記フィラメントの加熱によって２次電子を発生し、所定間隔で離隔される少なくとも二つ以上の電子放射部材とを含む。
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【課題】誘導結合された高周波プラズマフラッドガンを提供する技術を開示する。
【解決手段】一実施形態例によると、当該技術はイオン注入システムのプラズマフラッドガンとして実現され得る。当該プラズマフラッドガンは、１以上の開口を有するプラズマチャンバと、プラズマチャンバに対して少なくとも１種類のガス状物質を供給できるガス源と、プラズマを発生させることを目的として少なくとも１種類のガス状物質を励起するべく、プラズマチャンバに高周波電力を誘導結合することができる電源とを備える。プラズマチャンバの内面は全面にわたって金属含有材料がなく、プラズマはプラズマチャンバ内において金属含有素子にさらされることがない。また、１以上の開口は、プラズマから発生する荷電粒子の少なくとも一部が通り抜けるだけの幅を持つ。 （もっと読む）

【課題】 電子やイオン等の荷電粒子を効率良く安定的に豊富に発生させ，なおかつ，加熱フィラメントを構成要素として含まず，構造が簡単で安価な半永久的に使用可能な荷電粒子発生源を提供すること。
【解決手段】 絶縁性中空管（１）の一端に，先端に行くにつれて開口部が広がっている形状の中空管電極（２）が存在し，絶縁性中空管（１）のもう一方の他端に，もうひとつの電極（３）が存在している構成とする。 （もっと読む）

【課題】電子銃内のplasmaの継続中に、カソードからターゲットに電子ビームパルスを複数回発射する電源装置を提供し、単位電子ビームパルスの波形、相互の時間間隔を可変にして群パルスを作り、表面改質効果ならびに品質を改善する。
【解決手段】低圧電離気体のプラズマが封入されている電子銃のカソードからターゲットに電子ビームを発射する高圧電源回路をコンデンサ充放電形式とし、そのコンデンサを複数、独立に備え、予め充電し、第一のコンデンサを放電させて第一の単位電子ビームパルスを発射し、遅延時間をおいて第二のコンデンサを放電させて第二の単位電子ビームパルスを発射し、さらにこれを続けて断続した複数個の単位電子ビームパルスによる群パルスを形成させてターゲットに照射する。各単位パルスの大きさと遅延時間を選択可能としてターゲット表面の熱作用モードを最適化する。 （もっと読む）

【課題】照射条件指令として表面から吸収される熱量値を指定し、熱量を測定するための手段を付加し、測定された熱量値と指令された熱量値を比較して、熱量誤差をフィードバックして、他の照射条件を修正し目的の照射効果を得られるようにする。
【解決手段】表面改質対象物１２とは別に測定体２１をテーブル１４に設置し、測定体２１が対象物１２と同じ電子ビーム照射をうけるようにして測定体２１に設けたセンサで温度上昇を指令制御装置２２に伝え、測定熱量値と指令熱量値との差異をフィードバックして他の照射条件を修正する。測定体２１の材質は対象物１２と同質のものを用いる。他の照射条件とは、カソード電圧、カソードとターゲットの距離、プラズマ化する電離ガスの圧力などである。 （もっと読む）